监理检测网论坛

首页 » 试验检测论坛 » 无损检测|焊接检验监督 » 常用中英文对照无损检测词汇
lihui66 - 2009/5/4 16:44:00
英          文 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
中         文 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
A.C magnetic saturation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
交流磁饱和 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Absorbed dose y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
吸收剂量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Absorbed dose rate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
吸收剂量率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acceptanc  limits y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
验收范围 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acceptance  level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
验收水平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acceptance  standard y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
验收标准 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Accumulation  test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
累积检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic emission  count(emission count) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声发射计数(发射计数) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic emission transducer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声发射换能器(声发射传感器) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic emission(AE) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声发射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic holography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声全息术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic impedance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声阻抗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic impedance matching y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声阻抗匹配 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic impedance method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声阻法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustical lens y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声透镜 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Acoustic—ultrasonic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声-超声(AU) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Activation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
活化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Activity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
活度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Adequate shielding y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
安全屏蔽 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ampere turns y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
安匝数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Amplitude y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
幅度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Angle beam method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
斜射法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Angle of incidence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
入射角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Angle of reflection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
反射角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Angle of spread y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
指向角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Angle of squint y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
偏向角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Angle probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
斜探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Angstrom unit y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
埃(A) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Area amplitude response curve y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
面积幅度曲线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Area of interest y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
评定区 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Arliflcial  disconlinuity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
人工不连续性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Artifact y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
假缺陷 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Artificial defect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
人工缺陷 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Artificial discontinuity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标准人工缺陷 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
A-scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
A型扫描 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
A-scope; A-scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
A型显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Attenuation coefficient y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
衰减系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Attenuator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
衰减器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Audible  leak  indicator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
音响泄漏指示器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Automatic testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
自动检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Autoradiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
自射线照片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Avaluation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
评定 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Barium concrete y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
钡混凝土 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Barn y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Base fog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
片基灰雾 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bath y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
槽液 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bayard- Alpert  ionization  gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
B- A型电离计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声束 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam ratio y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
光束比 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
束张角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam axis y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声束轴线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam index y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声束入射点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam path location y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声程定位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam path; path length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声程 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Beam spread y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声束扩散 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Betatron y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子感应加速器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bimetallic strip gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双金属片计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bipolar field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双极磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Black light filter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
黑光滤波器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Black light; ultraviolet radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
黑光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Blackbody y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
黑体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Blackbody  equivalent  temperature y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
黑体等效温度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bleakney mass  spectrometer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波利克尼质谱仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bleedout y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗出 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bottom echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
底面回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bottom surface y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
底面 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Boundary echo(first) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
边界一次回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Bremsstrahlung y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
轫致辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Broad-beam condition y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
宽射束 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Brush application y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
刷涂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
B-scan  presenfation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
B型扫描显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
B-scope;  B-scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
B型显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
C- scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
C型扫描 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Calibration,instrument y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
设备校准 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Capillary action y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
毛细管作用 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Carrier fluid y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
载液 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Carry over of penetrate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗透剂移转 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cassette y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
暗合 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cathode y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阴极 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Central  conductor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
中心导体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Central conductor method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
中心导体法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Characteristic  curve y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
特性曲线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Characteristic curve of film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片特性曲线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Characteristic radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
特征辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Chemical fog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
化学灰雾 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cine-radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线(活动)电影摄影术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cintact pads y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
接触垫 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Circumferential  coils y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
圆环线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Circumferential field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
周向磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Circumferential magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
周向磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Clean y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
清理 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Clean- up y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
清除 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Clearing time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定透时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coercive force y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
矫顽力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coherence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相干性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coherence  length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相干长度(谐波列长度) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coi1,test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
测试线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coil  size y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线圈大小 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coil spacing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线圈间距 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coil technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线圈技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coil method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线圈法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coilreference y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线圈参考 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coincidence discrimination y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
符合鉴别 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cold-cathode  ionization  gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
冷阴极电离计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Collimator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
准直器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Collimation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
准直 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Collimator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
准直器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Combined colour comtrast and fluorescent penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
着色荧光渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Compressed air drying y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压缩空气干燥 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Compressional  wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压缩波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Compton scatter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
康普顿散射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Continuous emission y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
连续发射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Continuous linear array y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
连续线阵 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Continuous method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
连续法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Continuous spectrum y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
连续谱 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Continuous wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
连续波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Contract  stretch y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
对比度宽限 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Contrast y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
对比度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Contrast  agent y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
对比剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Contrast aid y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
反差剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Contrast sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
对比灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Control echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
监视回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Control echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
参考回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Couplant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
耦合剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coupling y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
耦合 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Coupling losses y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
耦合损失 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cracking y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
裂解 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Creeping wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
爬波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Critical angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
临界角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cross section y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
横截面 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cross talk y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
串音 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cross-drilled hole y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
横孔 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Crystal y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
晶片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
C-scope;  C-scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
C型显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Curie point y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
居里点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Curie temperature y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
居里温度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Curie(Ci) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
居里 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Current flow method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
通电法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Current induction  method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电流感应法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Current magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电流磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Cut-off  level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
截止电平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dead zone y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
盲区 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Decay curve y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
衰变曲线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Decibel(dB) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
分贝 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Defect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Defect  resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷分辨力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Defect detection sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷检出灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Defect resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷分辨力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Definition y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Definition,  image  definition y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
清晰度,图像清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Demagnetization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
退磁 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Demagnetization factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
退磁因子 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Demagnetizer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
退磁装置 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Densitometer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
黑度计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Density y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
黑度(底片) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Density  comparison  strip y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
黑度比较片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Detecting medium y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检验介质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Detergent remover y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
洗净液 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Developer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
显像剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Developer station y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
显像工位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Developer,  agueons y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水性显象剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Developer,  dry y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干显象剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Developer,  liquid  film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
液膜显象剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Developer,  nonaqueous  (sus- pendible) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
非水(可悬浮)显象剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Developing time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
显像时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Development y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
显影 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Diffraction mottle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
衍射斑 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Diffuse  indications y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
松散指示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Diffusion y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扩散 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Digital  image  acquisition  system y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
数字图像识别系统 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dilatational wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
膨胀波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dip and drain station y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
浸渍和流滴工位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Direct  contact  magnetization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
直接接触磁化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Direct  exposure  imaging y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
直接曝光成像 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Direct contact method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
直接接触法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Directivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
指向性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Discontinuity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
不连续性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Distance- gain- size-German  AVG y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
距离- 增益- 尺寸(DGS德文为AVG) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Distance marker; time marker y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
距离刻度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dose equivalent y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
剂量当量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dose rate meter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
剂量率计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dosemeter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
剂量计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Double crystal probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双晶片探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Double probe technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双探头法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Double transceiver technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双发双收法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Double traverse technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
二次波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dragout y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
带出 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Drain  time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
滴落时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Drain time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
流滴时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Drift y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
漂移 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dry method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dry powder y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干粉 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dry technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干粉技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dry developer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干显像剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dry developing cabinet y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干显像柜 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dry method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干粉法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Drying oven y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干燥箱 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Drying station y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干燥工位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Drying time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干燥时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
D-scope;  D-scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
D型显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dual search  unit y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dual-focus tube y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双焦点管 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Duplex-wire image quality indicator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
双线像质指示器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Duration y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
持续时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dwell  time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
停留时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dye penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
着色渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dynamic  leak  test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
动态泄漏检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dynamic  leakage  measurement y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
动态泄漏测量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dynamic  range y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
动态范围 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Dynamic radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
动态射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Echo frequency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
回波频率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Echo height y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
回波高度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Echo indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
回波指示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Echo transmittance of sound pressure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
往复透过率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Echo width y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
回波宽度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Eddy current y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
涡流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Eddy current flaw detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
涡流探伤仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Eddy current testiog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
涡流检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Edge y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
端面 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Edge effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
边缘效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Edge echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
棱边回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Edge effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
边缘效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Effective  depth  penetration  (EDP) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
有效穿透深度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Effective focus size y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
有效焦点尺寸 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Effective magnetic permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
有效磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Effective permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
有效磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Effective reflection surface of flaw y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷有效反射面 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Effective resistance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
有效电阻 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Elastic medium y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
弹性介质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electric displacement y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电位移 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electrical center y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电中心 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electrode y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电极 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electromagnet y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电磁铁 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electro-magnetic acoustic transducer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电磁声换能器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electromagnetic induction y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电磁感应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electromagnetic radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电磁辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electromagnetic testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电磁检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electro-mechanical coupling factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
机电耦合系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electron radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子辐射照相术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electron volt y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子伏恃 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electronic noise y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子噪声 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Electrostatic spraying y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
静电喷涂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Emulsification y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
乳化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Emulsification time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
乳化时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Emulsifier y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
乳化剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Encircling  coils y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
环绕式线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
End effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
端部效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Energizing  cycle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
激励周期 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Equalizing filter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
均衡滤波器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Equivalent y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
当量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Equivalent  I.Q. I.   Sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
象质指示器当量灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Equivalent  nitrogen  pressure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
等效氮压 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Equivalent  penetrameter  sensifivty y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透度计当量灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Equivalent method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
当量法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Erasabl  optical  medium y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
可探光学介质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Etching y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
浸蚀 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Evaluation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
评定 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Evaluation  threshold y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
评价阈值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Event count y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
事件计数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Event count rate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
事件计数率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Examination  area y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检测范围 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Examination  region y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检验区域 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Exhaust  pressure/discharge  pressure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
排气压力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Exhaust  tubulation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
排气管道 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Expanded time-base sweep y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
时基线展宽 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Exposure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
曝光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Exposure table y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
曝光表格 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Exposure chart y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
曝光曲线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Exposure fog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
曝光灰雾 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Exposure,radiographic  exposure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
曝光,射线照相曝光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Extended  source y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扩展源 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Facility  scattered  neutrons y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
条件散射中子 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
False indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
假指示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Family y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Far field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
远场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Feed-through coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
穿过式线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Field,  resultant  magnetic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
复合磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fill factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
填充系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film speed y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片速度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film badge y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片襟章剂量计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film base y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
片基 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film contrast y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片对比度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film gamma y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片γ值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film processing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片冲洗加工 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film speed y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片感光度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film unsharpness y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片不清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Film viewing screen y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
观察屏 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Filter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
滤波器/滤光板 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Final test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
复探 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flat-bottomed hole y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
平底孔 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flat-bottomed hole equivalent y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
平底孔当量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flaw y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flaw characterization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
伤特性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flaw echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flexural wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
弯曲波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Floating  threshold y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
浮动阀值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescent  examination  method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光检验法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescent  magnetic  particle  inspection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光磁粉检验 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescent dry deposit penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干沉积荧光渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescent light y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescent magnetic powder y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光磁粉 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescent penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluorescent screen y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光屏 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fluoroscopy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光检查法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flux leakage  field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁通泄漏场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Flux lines y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁通线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focal spot y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
焦点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focal distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
焦距 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focus length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
焦点长度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focus size y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
焦点尺寸 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focus width y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
焦点宽度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focus(electron) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子焦点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focused beam y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
聚焦声束 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focusing probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
聚焦探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Focus-to-film distance(f.f.d) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
焦点-胶片距离(焦距) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
底片灰雾 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fog density y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
灰雾密度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Footcandle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
英尺烛光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Freguency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
频率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Frequency constant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
频率常数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fringe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干涉带 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Front distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
前沿距离 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Front distance of flaw y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷前沿距离 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Full- wave  direct  current(FWDC) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
全波直流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Fundamental frequency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
基频 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Furring y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
毛状迹痕 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gage  pressure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
表压 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gain y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
增益 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gamma radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
γ射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gamma ray source y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
γ射线源 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gamma ray source container y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
γ射线源容器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gamma rays y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
γ射线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gamma-ray radiographic equipment y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
γ射线透照装置 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gap scanning y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
间隙扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gas y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
气体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
闸门 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gating technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
选通技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gauss y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
高斯 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Geiger-Muller counter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
盖革.弥勒计数器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Geometric unsharpness y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
几何不清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Gray(Gy) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
戈瑞 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Grazing  incidence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
掠入射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Grazing angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
掠射角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Group velocity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
群速度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Half life y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
半衰期 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Half- wave  current  (HW) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
半波电流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Half-value layer(HVL) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
半值层 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Half-value method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
半波高度法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Halogen y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
卤素 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Halogen  leak  detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
卤素检漏仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hard X-rays y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
硬X射线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hard-faced probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
硬膜探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Harmonic analysis y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
谐波分析 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Harmonic distortion y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
谐波畸变 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Harmonics y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
谐频 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Head wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
头波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Helium  bombing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
氦轰击法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Helium  drift y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
氦漂移 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Helium  leak  detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
氦检漏仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hermetically  tight  seal y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
气密密封 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
High  vacuum y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
高真空 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
High energy X-rays y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
高能X射线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Holography (optical) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
光全息照相 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Holography,  acoustic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声全息 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hydrophilic emulsifier y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
亲水性乳化剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hydrophilic remover y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
亲水性洗净剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hydrostatic text y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
流体静力检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hysteresis y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁滞 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Hysteresis y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁滞 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
IACS y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
IACS y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
ID coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
ID线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Image definition y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
图像清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Image contrast y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
图像对比度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Image enhancement y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
图像增强 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Image magnification y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
图像放大 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Image quality y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
图像质量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Image quality indicator sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
像质指示器灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Image quality indicator(IQI)/image  quality  indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
像质指示器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Imaging  line  scanner y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
图像线扫描器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Immersion probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
液浸探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Immersion rinse y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
浸没清洗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Immersion testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
液浸法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Immersion time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
浸没时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Impedance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阻抗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Impedance plane diagram y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阻抗平面图 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Imperfection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
不完整性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Impulse eddy current testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲涡流检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Incremental permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
增量磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Indicated defect area y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷指示面积 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Indicated defect length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
缺陷指示长度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
指示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Indirect  exposure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
间接曝光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Indirect  magnetization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
间接磁化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Indirect magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
间接磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Indirect scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
间接扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Induced  field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
感应磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Induced current method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
感应电流法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Infrared  imaging system y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
红外成象系统 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Infrared  sensing  device y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
红外扫描器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inherent  fluorescence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
固有荧光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inherent filtration y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
固有滤波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Initial permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
起始磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Initial pulse y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
始脉冲 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Initial pulse width y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
始波宽度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inserted  coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
插入式线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inside  coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
内部线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inside- out  testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
外泄检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inspection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inspection  medium y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检查介质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Inspection frequency/ test frequency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检测频率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Intensifying factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
增感系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Intensifying screen y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
增感屏 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Interal,arrival time  (Δtij)/arrival time interval(Δtij) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
到达时间差(Δtij) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Interface boundary y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
界面 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Interface echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
界面回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Interface trigger y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
界面触发 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Interference y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干涉 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Interpretation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
解释 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ion pump y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
离子泵 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ion source y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
离子源 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ionization chamber y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电离室 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ionization potential y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电离电位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ionization vacuum gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电离真空计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ionography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电离射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Irradiance,  E y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
辐射通量密度,  E y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Isolation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
隔离检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Isotope y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
同位素 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
K value y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
K值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Kaiser effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
凯塞(Kaiser)效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Kilo volt y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
kv  千伏特 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Kiloelectron  volt y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
keV千电子伏特 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Krypton  85 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
氪85 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
L/D ratio y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
L/D比 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lamb  wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
兰姆波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Latent image y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
潜象 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lateral scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
左右扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lateral scan with oblique angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
斜平行扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Latitude (of an emulsion) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
胶片宽容度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lead  screen y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
铅屏 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Leak y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
泄漏孔 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Leak  artifact y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
泄漏器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Leak  detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检漏仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Leak  testtion y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
泄漏检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Leakage  field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
泄漏磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Leakage  rate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
泄漏率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Leechs y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁吸盘 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lift-off effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
提离效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Light  intensity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
光强度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Limiting  resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
极限分辨率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Line  scanner y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线扫描器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Line focus y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线焦点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Line pair pattern y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线对检测图 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Line pairs per millimetre y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
每毫米线对数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Linear (electron) accelerator(LINAC) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子直线加速器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Linear attenuation coefficient y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线衰减系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Linear scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Linearity  (time  or  distance) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
线性(时间或距离) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Linearity,  anplitude y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
幅度线性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lines of force y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁力线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lipophilic emulsifier y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
亲油性乳化剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lipophilic remover y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
亲油性洗净剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Liquid  penetrant  examination y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
液体渗透检验 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Liquid film developer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
液膜显像剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Local  magnetization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
局部磁化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Local magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
局部磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Local scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
局部扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Localizing cone y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定域喇叭筒 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Location y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Location  accuracy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定位精度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Location  computed y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定位,计算 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Location marker y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定位标记 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Location upon delta-T y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
时差定位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Location,  clusfer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定位,群集 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Location,continuous  AE  signal y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定位,连续AE信号 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Longitudinal field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
纵向磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Longitudinal magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
纵向磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Longitudinal resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
纵向分辨率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Longitudinal wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
纵波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Longitudinal wave probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
纵波探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Longitudinal wave technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
纵波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Loss  of  back  reflection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
背面反射损失 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Loss of back reflection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
底面反射损失 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Love wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
乐甫波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Low energy gamma radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
低能γ辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Low-enerugy  photon  radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
低能光子辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Luminance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
亮度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Luminosity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
流明 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Lusec y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
流西克 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Maga or  million electron  volts y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
MeV兆电子伏特 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic  history y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁化史 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic  hysteresis y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁性滞后 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic  particle  field  indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁粉磁场指示器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic  particle  inspection  flaw  indications y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁粉检验的伤显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic circuit y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁路 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic domain y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁畴 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic field distribution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁场分布 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic field indicator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁场指示器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic field meter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁场计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic field strength y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁场强度(H) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic field/field,magnetic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic flux y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁通 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic flux density y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁通密度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic force y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁化力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic leakage field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
漏磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic leakage flux y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
漏磁通 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic moment y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁矩 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic particle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁粉 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic particle indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁痕 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic particle testing/magnetic  particle  examination y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁粉检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic pole y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁极 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic saturataion y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁饱和 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic saturation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁饱和 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic slorage meclium y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁储介质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetic writing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁写 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetizing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetizing  current y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁化电流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetizing coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁化线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetostrictive effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁致伸缩效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Magnetostrictive transducer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁致伸缩换能器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Main beam y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
主声束 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Manual testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
手动检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Markers y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
时标 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
MA-scope;  MA-scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
MA型显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Masking y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
遮蔽 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mass  attcnuation  coefficient y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
质量吸收系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mass  number y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
质量数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mass  spectrometer  (M.S.) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
质谱仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mass  spectrometer  leak  detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
质谱检漏仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mass  spectrum y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
质谱 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Master/slave discrimination y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
主从鉴别 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
MDTD y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
最小可测温度差 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mean  free  path y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
平均自由程 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Medium  vacuum y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
中真空 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mega  or  million  volt y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
MV兆伏特 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Micro focus  X - ray  tube y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
微焦点X 光管 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Microfocus radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
微焦点射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Micrometre y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
微米 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Micron  of  mercury y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
微米汞柱 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Microtron y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子回旋加速器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Milliampere y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
毫安(mA) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Millimetre  of  mercury y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
毫米汞柱 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Minifocus  x- ray  tube y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
小焦点调射线管 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Minimum  detectable  leakage  rate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
最小可探泄漏率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Minimum  resolvable  temperature  difference  (MRTD) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
最小可分辨温度差(MRDT) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mode y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波型 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mode  conversion y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波型转换 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Mode transformation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波型转换 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Moderator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
慢化器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Modulation  transfer  function  (MTF) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
调制转换功能(MTF) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Modulation analysis y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
调制分析 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Molecular  flow y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
分子流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Molecular  leak y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
分子泄漏 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Monitor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
监控器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Monochromatic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
单色波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Movement unsharpness y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
移动不清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Moving beam radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
可动射束射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multiaspect magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多向磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multidirectional  magnetization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多向磁化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multifrequency eddy current testiog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多频涡流检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multiple  back  reflections y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多次背面反射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multiple  reflections y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多次反射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multiple back reflections y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多次底面反射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multiple echo method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多次反射法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multiple probe technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多探头法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Multiple triangular array y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
多三角形阵列 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Narrow beam condition y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
窄射束 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
NC y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
NC y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Near field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
近场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Near field length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
近场长度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Near surface defect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
近表面缺陷 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Net  density y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
净黑度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Net density y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
净(光学)密度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Neutron y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
中子 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Neutron  radiograhy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
中子射线透照 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Neutron radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
中子射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Newton  (N) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
牛顿 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nier  mass  spectrometer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
尼尔质谱仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Noise y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
噪声 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Noise y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
噪声 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Noise  equivalent  temperature  difference  (NETD) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
噪声当量温度差(NETD) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nominal angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标称角度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nominal frequency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标称频率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Non-aqueous liquid developer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
非水性液体显像剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Noncondensable  gas y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
非冷凝气体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nondcstructivc  Examination(NDE) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
无损试验 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nondestructive  Evaluation(NDE) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
无损评价 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nondestructive  Inspection(NDI) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
无损检验 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nondestructive  Testing(NDT) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
无损检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nonerasble  optical  data y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
可固定光学数据 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nonferromugnetic  material y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
非铁磁性材料 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nonrelevant indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
非相关指示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Non-screen-type film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
非增感型胶片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Normal  incidence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
垂直入射(亦见直射声束) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Normal  permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标准磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Normal beam method; straight beam method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
垂直法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Normal probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
直探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Normalized reactance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
归一化电抗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Normalized resistance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
归一化电阻 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nuclear  activity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
核活性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Nuclide y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
核素 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Object  plane  resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
物体平面分辨率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Object  scattered  neutrons y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
物体散射中子 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Object beam y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
物体光束 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Object beam angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
物体光束角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Object-film distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
被检体-胶片距离 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Object一film  distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
物体- 胶片距离 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Over development y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
显影过度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Over emulsfication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
过乳化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Overall  magnetization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
整体磁化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Overload recovery time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
过载恢复时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Overwashing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
过洗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Oxidation  fog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
氧化灰雾 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
P y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
P y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pair  production y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
偶生成 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pair  production y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子对产生 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pair production y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电子偶的产生 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Palladium  barrier  leak  detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
钯屏检漏仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Panoramic exposure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
全景曝光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Parallel scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
平行扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Paramagnetic material y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
顺磁性材料 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Parasitic echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
干扰回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Partial  pressure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
分压 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Particle content y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁悬液浓度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Particle velocity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
质点(振动)速度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pascal  (Pa) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
帕斯卡(帕) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pascal  cubic  metres  per  second y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
帕立方米每秒(Pa·m3/s ) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Path  length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
光程长 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Path  length  difference y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
光程长度差 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pattern y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探伤图形 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Peak current y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
峰值电流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrameter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透度计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrameter  sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透度计灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrant  comparator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗透对比试块 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrant flaw detection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗透探伤 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrant removal y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗透剂去除 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrant station y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗透工位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetrant,  water- washable y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水洗型渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetration y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
穿透深度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Penetration time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
渗透时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Permanent magnet y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
永久磁铁 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Permeability  coefficient y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透气系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Permeability,a-c y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
交流磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Permeability,d-c y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
直流磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phantom echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
幻象回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase analysis y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相位分析 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相位角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase controlled circuit breaker y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
断电相位控制器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase detection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相位检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase hologram y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相位全息 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase sensitive detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相敏检波器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase shift y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相位移 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase velocity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相速度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phase-sensitive system y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相敏系统 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phillips  ionization  gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
菲利浦电离计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Phosphor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光物质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Photo  fluorography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光照相术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Photoelectric absorption y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
光电吸收 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Photographic emulsion y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
照相乳剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Photographic fog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
照相灰雾 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Photostimulable  luminescence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
光敏发光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Piezoelectric effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压电效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Piezoelectric material y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压电材料 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Piezoelectric stiffness constant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压电劲度常数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Piezoelectric stress constant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压电应力常数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Piezoelectric transducer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压电换能器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Piezoelectric voltage constant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压电电压常数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pirani  gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
皮拉尼计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pirani gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
皮拉尼计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pitch and catch technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
一发一收法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pixel y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
象素 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pixel  size y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
象素尺寸 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pixel,  disply  size y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
象素显示尺寸 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Planar array y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
平面阵(列) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Plane wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
平面波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Plate wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
板波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Plate wave technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
板波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Point  source y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
点源 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Post  emulsification y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
后乳化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Post emulsifiable penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
后乳化渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Post-cleaning y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
后清除 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Post-cleaning y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
后清洗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Powder y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
粉未 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Powder  blower y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
喷粉器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Powder blower y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁粉喷* y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pre-cleaning y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
预清理 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pressure  difference y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压力差 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pressure  dye  test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压力着色检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pressure  probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压力探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pressure  testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压力检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pressure- evacuation  test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压力抽空检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pressure mark y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
压痕 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pressure,design y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
设计压力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pre-test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
初探 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Primary coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
一次线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Primary radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
初级辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe  gas y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头气体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe  test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe backing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头背衬 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
点式线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头式线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe coil clearance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头线圈间隙 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe index y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头入射点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe to weld distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头-焊缝距离 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Probe/ search unit y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Process  control  radiograph y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
工艺过程控制的射线照相 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Processing capacity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
处理能力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Processing speed y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
处理速度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Prods y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
触头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Projective radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
投影射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Proportioning  probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
比例探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Protective material y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
防护材料 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Proton radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
质子射线透照 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse  echo  method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲回波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse  repetition  rate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲重复率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse amplitude y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲幅度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse echo method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲反射法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse energy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲能量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse envelope y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲包络 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲长度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse repetition frequency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲重复频率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pulse tuning y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉冲调谐 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pump- out  tubulation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
抽气管道 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Pump-down  time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
抽气时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Q factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Q值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Quadruple traverse technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
四次波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Quality (of a beam of radiation) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线束的质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Quality factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
品质因数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Quenching y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阻塞 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Quenching of fluorescence y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光的猝灭 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Quick  break y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
快速断间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rad(rad) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
拉德 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiance,  L y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
面辐射率,L y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiant  existence,  M y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
幅射照度M y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiant  flux;  radiant power,ψe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
辐射通量、辐射功率、ψe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiation does y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
辐射剂量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radio  frequency  (r- f)  display y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射频显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radio- frequency mass  spectrometer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射频质谱仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radio frequency(r-f) display y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射频显示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiograph y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线底片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic  contrast y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线照片对比度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic  equivalence  factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线照相等效系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic  exposure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线照相曝光量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic  inspection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic  inspection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线照相检验 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic  quality y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线照相质量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic  sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线照相灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic contrast y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线底片对比度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic equivalence factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线透照等效因子 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic inspection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线透照检查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic quality y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线透照质量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiographic sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线透照灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线照相术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiological  examination y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线检验 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiology y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线学 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiometer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
辐射计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radiometry y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
辐射测量术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Radioscopy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线检查法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Range y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
量程 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rayleigh  wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
瑞利波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rayleigh scattering y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
瑞利散射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Real image y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
实时图像 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Real-time  radioscopy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
实时射线检查法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rearm delay time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
重新准备延时时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rearm delay time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
重新进入工作状态延迟时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reciprocity failure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
倒易律失效 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reciprocity law y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
倒易律 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Recording medium y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
记录介质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Recovery time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
恢复时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rectified alternating current y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉动直流电 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reference  block y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
参考试块 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reference beam y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
参考光束 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reference block y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
对比试块 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reference block method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
对比试块法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reference coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
参考线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reference line method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
基准线法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reference standard y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
参考标准 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reflection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
反射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reflection coefficient y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
反射系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reflection density y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
反射密度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reflector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
反射体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Refraction y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
折射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Refractive index y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
折射率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Refrence beam angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
参考光束角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reicnlbation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
网纹 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reject; suppression y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
抑制 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rejection level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
拒收水平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Relative permeability y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相对磁导率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Relevant indication y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
相关指示 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reluctance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁阻 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rem(rem) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
雷姆 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Remote controlled testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
机械化检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Replenisers y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
补充剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Representative  quality  indicator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
代表性质量指示器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Residual  magnetic  field/field,  residual  magnetic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
剩磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Residual  technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
剩磁技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Residual magnetic method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
剩磁法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Residual magnetism y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
剩磁 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Resistance  (to  flow) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
气阻 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
分辨力 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Resonance method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
共振法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Response factor y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
响应系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Response time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
响应时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Resultant  field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
复合磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Resultant magnetic field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
合成磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Resultant magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
组合磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Retentivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
顽磁性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Reversal y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
反转现象 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ring-down count y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
振铃计数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ring-down count rate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
振铃计数率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rinse y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
清洗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rise time y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
上升时间 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rise-time discrimination y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
上升时间鉴别 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rod-anode tube y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
棒阳极管 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Roentgen(R) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
伦琴 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Roof angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
屋顶角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rotational magnetic field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
旋转磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rotational magnetic field method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
旋转磁场法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Rotational scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
转动扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Roughing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
低真空 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Roughing  line y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
低真空管道 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Roughing  pump y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
低真空泵 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
S y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
S y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Safelight y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
安全灯 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sampling probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
取样探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Saturation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
饱和 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Saturation,magnetic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁饱和 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Saturation  level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
饱和电平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scan on grid lines y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
格子线扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scan pitch y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫查间距 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scanning y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scanning  index y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫查标记 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scanning directly on the weld y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
焊缝上扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scanning path y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫查轨迹 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scanning sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫查灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scanning speed y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫查速度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scanning zone y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫查区域 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scattared energy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
散射能量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scatter unsharpness y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
散射不清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scattered  neutrons y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
散射中子 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scattered radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
散射辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scattering y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
散射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Schlieren system y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
施利伦系统 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scintillation counter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
闪烁计数器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Scintillator and scintillating crystals y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
闪烁器和闪烁晶体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Screen y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Screen unsharpness y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光增感屏不清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Screen-type film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
荧光增感型胶片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
SE  probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
SE探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Search-gas y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探测气体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Second critical angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
第二临界角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Secondary  radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
二次射线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Secondary coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
二次线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Secondary radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
次级辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Selectivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
选择性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Semi-conductor detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
半导体探测器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sensitirity  va1ue y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
灵敏度值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sensitivity  of  leak test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
泄漏检测灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sensitivity control y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
灵敏度控制 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Shear  wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
切变波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Shear wave probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
横波探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Shear wave technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
横波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Shim y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
薄垫片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Shot y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
冲击通电 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Side lobe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
副瓣 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Side wall y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
侧面 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sievert(Sv) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
希(沃特) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Signal y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
信号 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Signal gradient y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
信号梯度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Signal over load point y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
信号过载点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Signal overload level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
信号过载电平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Signal to noise ratio y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
信噪比 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Single crystal probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
单晶片探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Single probe technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
单探头法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Single traverse technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
一次波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sizing technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
定量法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Skin depth y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
集肤深度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Skin effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
集肤效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Skip distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
跨距 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Skip point y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
跨距点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sky shine(air scatter) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
空中散射效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sniffing  probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
嗅吸探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Soft X-rays y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
软X射线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Soft-faced probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
软膜探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Solarization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
负感作用 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Solenoid y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
螺线管 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Soluble developer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
可溶显像剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Solvent  remover y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
溶剂去除剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Solvent cleaners y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
溶剂清除剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Solvent developer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
溶剂显像剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Solvent remover y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
溶剂洗净剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Solvent-removal penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
溶剂去除型渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sorption y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
吸着 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound diffraction y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声绕射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound insulating layer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
隔声层 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound intensity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声强 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound intensity level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声强级 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound pressure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声压 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound scattering y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声散射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound transparent layer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透声层 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sound velocity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声速 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Source y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Source data label y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
放射源数据标签 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Source location y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
源定位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Source size y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
源尺寸 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Source-film distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线源-胶片距离 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Spacial  frequency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
空间频率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Spark  coil  leak  detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电火花线圈检漏仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Specific activity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
放射性比度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Specified sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
规定灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Standard y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标准 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Standard y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标准试样 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Standard   leak  rate y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标准泄漏率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Standard leak y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标准泄漏孔 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Standard tast block y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
标准试块 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Standardization  instrument y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
设备标准化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Standing wave; stationary wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
驻波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Step  wedge y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阶梯楔块 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Step- wadge  calibration  film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阶梯楔块校准底片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Step- wadge  comparison  film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阶梯楔块比较底片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Step wedge y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阶梯楔块 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Step-wedge calibration film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阶梯-楔块校准片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Step-wedge comparison film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阶梯-楔块比较片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Stereo-radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
立体射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Subject contrast y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
被检体对比度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Subsurface  discontinuity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
近表面不连续性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Suppression y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
抑制 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surface echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
表面回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surface field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
表面磁场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surface noise y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
表面噪声 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surface wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
表面波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surface wave probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
表面波探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surface wave technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
表面波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surge  magnetization y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
脉动磁化 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Surplus sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
灵敏度余量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Suspension y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁悬液 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sweep y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫描 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sweep range y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫描范围 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Sweep speed y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫描速度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Swept  gain y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
扫描增益 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Swivel scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
环绕扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
System  exanlillatien  threshold y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
系统检验阈值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
System  inclacel  artifacts y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
系统感生物 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
System  noise y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
系统噪声 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tackground,  target y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
目标本底 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tandem scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
串列扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Target y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Target y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Television fluoroscopy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电视X射线荧光检查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Temperature  envelope y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
温度范围 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tenth-value-layer(TVL) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
十分之一值层 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test  coil y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检测线圈 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test quality  level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检测质量水平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test ring y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
试环 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test block y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
试块 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test frequency y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
试验频率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test piece y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
试片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test range y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探测范围 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Test surface y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探测面 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Testing,ulrasonic y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thermal  neutrons y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
热中子 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thermocouple gage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
热电偶计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thermogram y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
热谱图 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thermography,  infrared y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
红外热成象 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thermoluminescent dosemeter(TLD) y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
热释光剂量计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thickness sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
厚度灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Third critiical angle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
第三临界角 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thixotropic penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
摇溶渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Thormal  resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
热分辨率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Threading bar y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
穿棒 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Three  way  sort y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
三档分选 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Threshold  setting y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
门限设置 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Threshold fog y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阈值灰雾 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Threshold level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阀值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Threshotd  tcnet y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
门限电平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Throttling y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
节流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Through  transmission  technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
穿透技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Through penetration technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
贯穿渗透法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Through transmission technique; transmission technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
穿透法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Through-coil  technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
穿过式线圈技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Throughput y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
通气量 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tight y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
密封 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Total reflection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
全反射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Totel  image  unsharpness y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
总的图像不清晰度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tracer  probe  leak  location y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
示踪探头泄漏定位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tracer gas y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
示踪气体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transducer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
换能器/传感器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transition flow y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
过渡流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Translucent  base  media y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
半透明载体介质 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmission y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmission  densitomefer y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
发射密度计 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmission coefficient y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透射系数 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmission point y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透射点 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmission technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透射技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmittance,τ y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
透射率τ y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmitted  film  density y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
检测底片黑度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transmitted pulse y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
发射脉冲 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transverse resolution y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
横向分辨率 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Transverse wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
横波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Traveling echo y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
游动回波 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Travering scan; depth scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
前后扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Triangular array y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
正三角形阵列 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Trigger/alarm condition y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
触发/报警状态 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Trigger/alarm level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
触发/报警标准 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Triple traverse technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
三次波法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
True  continuous  technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
准确连续法技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Trueattenuation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
真实衰减 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tube current y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
管电流 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tube head y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
管头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tube shield y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
管罩 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tube shutter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
管子光闸 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tube window y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
管窗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Tube-shift radiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
管子移位射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Two-way  sort y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
两档分选 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultra- high  vacuum y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超高真空 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic  leak  detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声波检漏仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic  noise  level y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声噪声电平 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic cleaning y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声波清洗 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic field y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声场 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic flaw detection y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声探伤 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic flaw detector y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声探伤仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic microscope y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声显微镜 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic spectroscopy y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声频谱 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic testing system y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声检测系统 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultrasonic thickness gauge y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
超声测厚仪 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Ultraviolet radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
紫外辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Under development y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
显影不足 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Unsharpness y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
不清晰 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Useful density range y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
有效光学密度范围 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
UV-A y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
A类紫外辐射 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
UV-A filter y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
A类紫外辐射滤片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vacuum y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
真空 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vacuum  cassette y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
真空暗盒 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vacuum  testing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
真空检测 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vacuum cassette y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
真空暗合 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Van de Graaff generator y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
范德格喇夫起电机 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vapor  pressure y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
蒸汽压 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vapour degreasing y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
蒸汽除油 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
variable angle probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
可变角探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vee  path y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
V型行程 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vehicle y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
载体 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vertical linearity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
垂直线性 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vertical location y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
垂直定位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Visible light y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
可见光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Vitua limage y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
虚假图像 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Voltage  threshold y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
电压阈值 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Voltage threshold y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
阈值电压 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wash station y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水洗工位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Water  break  test y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水膜破坏试验 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Water column coupling method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水柱耦合法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Water column probe y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水柱耦合探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Water path; water distance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水程 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Water tolerance y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
水容限 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Water-washable penetrant y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
可水洗型渗透剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave  guide  acoustic  emission y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
声发射波导杆 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave  train y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波列 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave from y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波形 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave front y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波前 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave length y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波长 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave node y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波节 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wave train y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
波列 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wedge y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
斜楔 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wet  slurry  technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
湿软磁膏技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wet  technique y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
湿法技术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wet method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
湿粉法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wetting  action y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
润湿作用 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wetting action y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
润湿作用 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wetting agents y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
润湿剂 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wheel type probe; wheel search unit y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
轮式探头 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
White  light y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
白光 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
White X-rays y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
连续X射线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wobble y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
摆动 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wobble effect y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
抖动效应 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Working sensitivity y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
探伤灵敏度 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Wrap  around y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
残响波干扰 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Xeroradiography y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
静电射线透照术 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X-radiation y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X射线 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X-ray controller y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X射线控制器 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X-ray detection apparatus y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X射线探伤装置 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X-ray film y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
射线胶片 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X-ray paper y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X射线感光纸 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X-ray tube y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X射线管 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X-ray tube diaphragm y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
X射线管光阑 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Yoke y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁轭 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Yoke magnetization method y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
磁轭磁化法 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Zigzag scan y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
锯齿扫查 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Zone calibration location y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
时差区域校准定位 y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
Zone location y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
区域定位y¯ö•ênɏñbbs.3c3t.comä€â¹W:Ðж
1
查看完整版本: 常用中英文对照无损检测词汇