lihui66 - 2009/5/4 16:44:00
英 文 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
中 文 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
A.C magnetic saturation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
交流磁饱和 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Absorbed dose y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
吸收剂量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Absorbed dose rate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
吸收剂量率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acceptanc limits y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
验收范围 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acceptance level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
验收水平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acceptance standard y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
验收标准 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Accumulation test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
累积检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic emission count(emission count) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声发射计数(发射计数) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic emission transducer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声发射换能器(声发射传感器) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic emission(AE) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声发射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic holography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声全息术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic impedance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声阻抗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic impedance matching y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声阻抗匹配 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic impedance method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声阻法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustical lens y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声透镜 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Acoustic—ultrasonic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声-超声(AU) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Activation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
活化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Activity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
活度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Adequate shielding y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
安全屏蔽 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ampere turns y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
安匝数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Amplitude y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
幅度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Angle beam method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
斜射法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Angle of incidence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
入射角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Angle of reflection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
反射角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Angle of spread y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
指向角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Angle of squint y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
偏向角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Angle probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
斜探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Angstrom unit y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
埃(A) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Area amplitude response curve y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
面积幅度曲线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Area of interest y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
评定区 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Arliflcial disconlinuity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
人工不连续性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Artifact y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
假缺陷 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Artificial defect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
人工缺陷 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Artificial discontinuity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标准人工缺陷 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
A-scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
A型扫描 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
A-scope; A-scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
A型显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Attenuation coefficient y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
衰减系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Attenuator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
衰减器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Audible leak indicator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
音响泄漏指示器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Automatic testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
自动检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Autoradiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
自射线照片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Avaluation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
评定 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Barium concrete y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
钡混凝土 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Barn y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
靶 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Base fog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
片基灰雾 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bath y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
槽液 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bayard- Alpert ionization gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
B- A型电离计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声束 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam ratio y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
光束比 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
束张角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam axis y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声束轴线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam index y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声束入射点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam path location y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声程定位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam path; path length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声程 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Beam spread y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声束扩散 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Betatron y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子感应加速器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bimetallic strip gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双金属片计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bipolar field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双极磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Black light filter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
黑光滤波器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Black light; ultraviolet radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
黑光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Blackbody y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
黑体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Blackbody equivalent temperature y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
黑体等效温度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bleakney mass spectrometer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波利克尼质谱仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bleedout y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗出 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bottom echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
底面回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bottom surface y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
底面 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Boundary echo(first) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
边界一次回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Bremsstrahlung y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
轫致辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Broad-beam condition y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
宽射束 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Brush application y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
刷涂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
B-scan presenfation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
B型扫描显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
B-scope; B-scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
B型显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
C- scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
C型扫描 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Calibration,instrument y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
设备校准 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Capillary action y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
毛细管作用 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Carrier fluid y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
载液 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Carry over of penetrate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗透剂移转 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cassette y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
暗合 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cathode y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阴极 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Central conductor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
中心导体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Central conductor method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
中心导体法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Characteristic curve y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
特性曲线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Characteristic curve of film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片特性曲线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Characteristic radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
特征辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Chemical fog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
化学灰雾 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cine-radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线(活动)电影摄影术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cintact pads y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
接触垫 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Circumferential coils y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
圆环线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Circumferential field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
周向磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Circumferential magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
周向磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Clean y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
清理 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Clean- up y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
清除 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Clearing time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定透时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coercive force y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
矫顽力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coherence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相干性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coherence length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相干长度(谐波列长度) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coi1,test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
测试线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coil size y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线圈大小 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coil spacing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线圈间距 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coil technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线圈技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coil method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线圈法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coilreference y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线圈参考 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coincidence discrimination y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
符合鉴别 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cold-cathode ionization gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
冷阴极电离计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Collimator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
准直器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Collimation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
准直 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Collimator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
准直器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Combined colour comtrast and fluorescent penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
着色荧光渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Compressed air drying y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压缩空气干燥 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Compressional wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压缩波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Compton scatter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
康普顿散射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Continuous emission y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
连续发射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Continuous linear array y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
连续线阵 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Continuous method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
连续法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Continuous spectrum y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
连续谱 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Continuous wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
连续波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Contract stretch y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
对比度宽限 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Contrast y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
对比度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Contrast agent y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
对比剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Contrast aid y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
反差剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Contrast sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
对比灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Control echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
监视回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Control echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
参考回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Couplant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
耦合剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coupling y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
耦合 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Coupling losses y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
耦合损失 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cracking y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
裂解 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Creeping wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
爬波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Critical angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
临界角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cross section y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
横截面 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cross talk y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
串音 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cross-drilled hole y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
横孔 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Crystal y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
晶片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
C-scope; C-scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
C型显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Curie point y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
居里点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Curie temperature y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
居里温度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Curie(Ci) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
居里 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Current flow method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
通电法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Current induction method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电流感应法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Current magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电流磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Cut-off level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
截止电平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dead zone y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
盲区 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Decay curve y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
衰变曲线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Decibel(dB) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
分贝 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Defect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Defect resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷分辨力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Defect detection sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷检出灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Defect resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷分辨力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Definition y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Definition, image definition y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
清晰度,图像清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Demagnetization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
退磁 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Demagnetization factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
退磁因子 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Demagnetizer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
退磁装置 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Densitometer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
黑度计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Density y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
黑度(底片) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Density comparison strip y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
黑度比较片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Detecting medium y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检验介质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Detergent remover y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
洗净液 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Developer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
显像剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Developer station y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
显像工位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Developer, agueons y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水性显象剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Developer, dry y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干显象剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Developer, liquid film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
液膜显象剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Developer, nonaqueous (sus- pendible) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
非水(可悬浮)显象剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Developing time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
显像时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Development y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
显影 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Diffraction mottle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
衍射斑 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Diffuse indications y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
松散指示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Diffusion y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扩散 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Digital image acquisition system y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
数字图像识别系统 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dilatational wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
膨胀波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dip and drain station y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
浸渍和流滴工位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Direct contact magnetization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
直接接触磁化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Direct exposure imaging y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
直接曝光成像 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Direct contact method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
直接接触法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Directivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
指向性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Discontinuity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
不连续性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Distance- gain- size-German AVG y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
距离- 增益- 尺寸(DGS德文为AVG) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Distance marker; time marker y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
距离刻度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dose equivalent y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
剂量当量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dose rate meter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
剂量率计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dosemeter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
剂量计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Double crystal probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双晶片探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Double probe technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双探头法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Double transceiver technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双发双收法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Double traverse technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
二次波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dragout y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
带出 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Drain time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
滴落时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Drain time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
流滴时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Drift y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
漂移 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dry method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dry powder y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干粉 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dry technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干粉技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dry developer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干显像剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dry developing cabinet y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干显像柜 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dry method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干粉法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Drying oven y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干燥箱 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Drying station y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干燥工位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Drying time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干燥时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
D-scope; D-scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
D型显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dual search unit y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dual-focus tube y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双焦点管 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Duplex-wire image quality indicator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
双线像质指示器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Duration y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
持续时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dwell time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
停留时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dye penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
着色渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dynamic leak test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
动态泄漏检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dynamic leakage measurement y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
动态泄漏测量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dynamic range y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
动态范围 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Dynamic radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
动态射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Echo frequency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
回波频率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Echo height y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
回波高度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Echo indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
回波指示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Echo transmittance of sound pressure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
往复透过率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Echo width y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
回波宽度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Eddy current y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
涡流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Eddy current flaw detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
涡流探伤仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Eddy current testiog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
涡流检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Edge y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
端面 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Edge effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
边缘效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Edge echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
棱边回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Edge effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
边缘效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Effective depth penetration (EDP) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
有效穿透深度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Effective focus size y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
有效焦点尺寸 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Effective magnetic permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
有效磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Effective permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
有效磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Effective reflection surface of flaw y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷有效反射面 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Effective resistance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
有效电阻 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Elastic medium y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
弹性介质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electric displacement y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电位移 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electrical center y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电中心 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electrode y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电极 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electromagnet y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电磁铁 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electro-magnetic acoustic transducer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电磁声换能器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electromagnetic induction y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电磁感应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electromagnetic radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电磁辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electromagnetic testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电磁检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electro-mechanical coupling factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
机电耦合系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electron radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子辐射照相术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electron volt y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子伏恃 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electronic noise y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子噪声 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Electrostatic spraying y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
静电喷涂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Emulsification y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
乳化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Emulsification time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
乳化时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Emulsifier y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
乳化剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Encircling coils y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
环绕式线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
End effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
端部效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Energizing cycle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
激励周期 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Equalizing filter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
均衡滤波器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Equivalent y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
当量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Equivalent I.Q. I. Sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
象质指示器当量灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Equivalent nitrogen pressure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
等效氮压 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Equivalent penetrameter sensifivty y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透度计当量灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Equivalent method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
当量法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Erasabl optical medium y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
可探光学介质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Etching y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
浸蚀 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Evaluation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
评定 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Evaluation threshold y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
评价阈值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Event count y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
事件计数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Event count rate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
事件计数率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Examination area y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检测范围 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Examination region y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检验区域 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Exhaust pressure/discharge pressure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
排气压力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Exhaust tubulation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
排气管道 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Expanded time-base sweep y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
时基线展宽 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Exposure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
曝光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Exposure table y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
曝光表格 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Exposure chart y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
曝光曲线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Exposure fog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
曝光灰雾 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Exposure,radiographic exposure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
曝光,射线照相曝光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Extended source y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扩展源 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Facility scattered neutrons y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
条件散射中子 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
False indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
假指示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Family y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
族 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Far field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
远场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Feed-through coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
穿过式线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Field, resultant magnetic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
复合磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fill factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
填充系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film speed y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片速度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film badge y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片襟章剂量计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film base y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
片基 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film contrast y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片对比度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film gamma y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片γ值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film processing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片冲洗加工 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film speed y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片感光度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film unsharpness y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片不清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Film viewing screen y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
观察屏 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Filter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
滤波器/滤光板 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Final test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
复探 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flat-bottomed hole y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
平底孔 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flat-bottomed hole equivalent y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
平底孔当量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flaw y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
伤 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flaw characterization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
伤特性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flaw echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flexural wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
弯曲波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Floating threshold y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
浮动阀值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescent examination method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光检验法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescent magnetic particle inspection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光磁粉检验 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescent dry deposit penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干沉积荧光渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescent light y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescent magnetic powder y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光磁粉 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescent penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluorescent screen y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光屏 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fluoroscopy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光检查法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flux leakage field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁通泄漏场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Flux lines y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁通线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focal spot y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
焦点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focal distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
焦距 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focus length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
焦点长度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focus size y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
焦点尺寸 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focus width y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
焦点宽度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focus(electron) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子焦点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focused beam y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
聚焦声束 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focusing probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
聚焦探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Focus-to-film distance(f.f.d) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
焦点-胶片距离(焦距) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
底片灰雾 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fog density y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
灰雾密度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Footcandle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
英尺烛光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Freguency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
频率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Frequency constant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
频率常数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fringe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干涉带 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Front distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
前沿距离 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Front distance of flaw y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷前沿距离 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Full- wave direct current(FWDC) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
全波直流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Fundamental frequency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
基频 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Furring y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
毛状迹痕 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gage pressure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
表压 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gain y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
增益 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gamma radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
γ射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gamma ray source y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
γ射线源 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gamma ray source container y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
γ射线源容器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gamma rays y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
γ射线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gamma-ray radiographic equipment y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
γ射线透照装置 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gap scanning y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
间隙扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gas y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
气体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
闸门 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gating technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
选通技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gauss y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
高斯 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Geiger-Muller counter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
盖革.弥勒计数器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Geometric unsharpness y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
几何不清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Gray(Gy) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
戈瑞 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Grazing incidence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
掠入射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Grazing angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
掠射角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Group velocity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
群速度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Half life y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
半衰期 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Half- wave current (HW) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
半波电流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Half-value layer(HVL) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
半值层 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Half-value method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
半波高度法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Halogen y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
卤素 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Halogen leak detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
卤素检漏仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hard X-rays y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
硬X射线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hard-faced probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
硬膜探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Harmonic analysis y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
谐波分析 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Harmonic distortion y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
谐波畸变 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Harmonics y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
谐频 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Head wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
头波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Helium bombing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
氦轰击法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Helium drift y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
氦漂移 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Helium leak detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
氦检漏仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hermetically tight seal y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
气密密封 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
High vacuum y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
高真空 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
High energy X-rays y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
高能X射线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Holography (optical) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
光全息照相 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Holography, acoustic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声全息 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hydrophilic emulsifier y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
亲水性乳化剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hydrophilic remover y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
亲水性洗净剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hydrostatic text y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
流体静力检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hysteresis y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁滞 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Hysteresis y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁滞 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
IACS y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
IACS y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
ID coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
ID线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Image definition y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
图像清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Image contrast y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
图像对比度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Image enhancement y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
图像增强 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Image magnification y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
图像放大 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Image quality y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
图像质量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Image quality indicator sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
像质指示器灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Image quality indicator(IQI)/image quality indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
像质指示器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Imaging line scanner y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
图像线扫描器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Immersion probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
液浸探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Immersion rinse y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
浸没清洗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Immersion testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
液浸法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Immersion time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
浸没时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Impedance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阻抗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Impedance plane diagram y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阻抗平面图 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Imperfection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
不完整性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Impulse eddy current testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲涡流检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Incremental permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
增量磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Indicated defect area y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷指示面积 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Indicated defect length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
缺陷指示长度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
指示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Indirect exposure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
间接曝光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Indirect magnetization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
间接磁化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Indirect magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
间接磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Indirect scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
间接扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Induced field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
感应磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Induced current method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
感应电流法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Infrared imaging system y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
红外成象系统 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Infrared sensing device y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
红外扫描器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inherent fluorescence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
固有荧光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inherent filtration y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
固有滤波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Initial permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
起始磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Initial pulse y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
始脉冲 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Initial pulse width y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
始波宽度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inserted coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
插入式线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inside coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
内部线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inside- out testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
外泄检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inspection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inspection medium y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检查介质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Inspection frequency/ test frequency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检测频率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Intensifying factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
增感系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Intensifying screen y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
增感屏 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Interal,arrival time (Δtij)/arrival time interval(Δtij) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
到达时间差(Δtij) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Interface boundary y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
界面 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Interface echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
界面回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Interface trigger y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
界面触发 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Interference y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干涉 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Interpretation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
解释 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ion pump y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
离子泵 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ion source y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
离子源 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ionization chamber y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电离室 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ionization potential y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电离电位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ionization vacuum gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电离真空计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ionography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电离射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Irradiance, E y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
辐射通量密度, E y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Isolation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
隔离检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Isotope y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
同位素 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
K value y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
K值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Kaiser effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
凯塞(Kaiser)效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Kilo volt y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
kv 千伏特 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Kiloelectron volt y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
keV千电子伏特 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Krypton 85 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
氪85 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
L/D ratio y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
L/D比 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lamb wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
兰姆波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Latent image y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
潜象 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lateral scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
左右扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lateral scan with oblique angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
斜平行扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Latitude (of an emulsion) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
胶片宽容度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lead screen y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
铅屏 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Leak y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
泄漏孔 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Leak artifact y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
泄漏器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Leak detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检漏仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Leak testtion y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
泄漏检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Leakage field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
泄漏磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Leakage rate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
泄漏率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Leechs y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁吸盘 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lift-off effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
提离效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Light intensity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
光强度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Limiting resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
极限分辨率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Line scanner y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线扫描器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Line focus y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线焦点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Line pair pattern y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线对检测图 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Line pairs per millimetre y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
每毫米线对数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Linear (electron) accelerator(LINAC) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子直线加速器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Linear attenuation coefficient y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线衰减系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Linear scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Linearity (time or distance) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
线性(时间或距离) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Linearity, anplitude y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
幅度线性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lines of force y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁力线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lipophilic emulsifier y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
亲油性乳化剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lipophilic remover y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
亲油性洗净剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Liquid penetrant examination y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
液体渗透检验 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Liquid film developer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
液膜显像剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Local magnetization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
局部磁化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Local magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
局部磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Local scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
局部扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Localizing cone y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定域喇叭筒 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Location y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Location accuracy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定位精度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Location computed y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定位,计算 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Location marker y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定位标记 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Location upon delta-T y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
时差定位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Location, clusfer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定位,群集 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Location,continuous AE signal y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定位,连续AE信号 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Longitudinal field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
纵向磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Longitudinal magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
纵向磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Longitudinal resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
纵向分辨率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Longitudinal wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
纵波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Longitudinal wave probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
纵波探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Longitudinal wave technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
纵波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Loss of back reflection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
背面反射损失 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Loss of back reflection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
底面反射损失 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Love wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
乐甫波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Low energy gamma radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
低能γ辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Low-enerugy photon radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
低能光子辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Luminance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
亮度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Luminosity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
流明 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Lusec y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
流西克 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Maga or million electron volts y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
MeV兆电子伏特 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic history y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁化史 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic hysteresis y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁性滞后 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic particle field indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁粉磁场指示器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic particle inspection flaw indications y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁粉检验的伤显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic circuit y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁路 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic domain y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁畴 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic field distribution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁场分布 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic field indicator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁场指示器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic field meter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁场计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic field strength y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁场强度(H) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic field/field,magnetic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic flux y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁通 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic flux density y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁通密度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic force y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁化力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic leakage field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
漏磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic leakage flux y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
漏磁通 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic moment y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁矩 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic particle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁粉 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic particle indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁痕 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic particle testing/magnetic particle examination y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁粉检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic pole y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁极 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic saturataion y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁饱和 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic saturation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁饱和 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic slorage meclium y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁储介质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetic writing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁写 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetizing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetizing current y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁化电流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetizing coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁化线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetostrictive effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁致伸缩效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Magnetostrictive transducer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁致伸缩换能器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Main beam y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
主声束 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Manual testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
手动检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Markers y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
时标 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
MA-scope; MA-scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
MA型显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Masking y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
遮蔽 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mass attcnuation coefficient y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
质量吸收系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mass number y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
质量数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mass spectrometer (M.S.) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
质谱仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mass spectrometer leak detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
质谱检漏仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mass spectrum y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
质谱 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Master/slave discrimination y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
主从鉴别 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
MDTD y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
最小可测温度差 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mean free path y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
平均自由程 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Medium vacuum y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
中真空 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mega or million volt y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
MV兆伏特 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Micro focus X - ray tube y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
微焦点X 光管 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Microfocus radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
微焦点射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Micrometre y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
微米 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Micron of mercury y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
微米汞柱 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Microtron y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子回旋加速器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Milliampere y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
毫安(mA) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Millimetre of mercury y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
毫米汞柱 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Minifocus x- ray tube y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
小焦点调射线管 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Minimum detectable leakage rate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
最小可探泄漏率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Minimum resolvable temperature difference (MRTD) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
最小可分辨温度差(MRDT) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mode y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波型 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mode conversion y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波型转换 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Mode transformation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波型转换 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Moderator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
慢化器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Modulation transfer function (MTF) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
调制转换功能(MTF) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Modulation analysis y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
调制分析 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Molecular flow y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
分子流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Molecular leak y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
分子泄漏 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Monitor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
监控器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Monochromatic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
单色波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Movement unsharpness y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
移动不清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Moving beam radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
可动射束射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multiaspect magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多向磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multidirectional magnetization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多向磁化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multifrequency eddy current testiog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多频涡流检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multiple back reflections y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多次背面反射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multiple reflections y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多次反射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multiple back reflections y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多次底面反射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multiple echo method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多次反射法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multiple probe technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多探头法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Multiple triangular array y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
多三角形阵列 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Narrow beam condition y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
窄射束 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
NC y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
NC y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Near field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
近场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Near field length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
近场长度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Near surface defect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
近表面缺陷 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Net density y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
净黑度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Net density y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
净(光学)密度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Neutron y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
中子 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Neutron radiograhy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
中子射线透照 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Neutron radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
中子射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Newton (N) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
牛顿 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nier mass spectrometer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
尼尔质谱仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Noise y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
噪声 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Noise y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
噪声 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Noise equivalent temperature difference (NETD) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
噪声当量温度差(NETD) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nominal angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标称角度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nominal frequency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标称频率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Non-aqueous liquid developer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
非水性液体显像剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Noncondensable gas y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
非冷凝气体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nondcstructivc Examination(NDE) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
无损试验 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nondestructive Evaluation(NDE) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
无损评价 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nondestructive Inspection(NDI) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
无损检验 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nondestructive Testing(NDT) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
无损检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nonerasble optical data y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
可固定光学数据 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nonferromugnetic material y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
非铁磁性材料 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nonrelevant indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
非相关指示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Non-screen-type film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
非增感型胶片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Normal incidence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
垂直入射(亦见直射声束) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Normal permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标准磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Normal beam method; straight beam method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
垂直法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Normal probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
直探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Normalized reactance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
归一化电抗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Normalized resistance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
归一化电阻 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nuclear activity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
核活性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Nuclide y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
核素 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Object plane resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
物体平面分辨率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Object scattered neutrons y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
物体散射中子 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Object beam y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
物体光束 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Object beam angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
物体光束角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Object-film distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
被检体-胶片距离 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Object一film distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
物体- 胶片距离 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Over development y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
显影过度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Over emulsfication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
过乳化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Overall magnetization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
整体磁化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Overload recovery time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
过载恢复时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Overwashing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
过洗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Oxidation fog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
氧化灰雾 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
P y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
P y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pair production y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
偶生成 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pair production y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子对产生 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pair production y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电子偶的产生 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Palladium barrier leak detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
钯屏检漏仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Panoramic exposure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
全景曝光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Parallel scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
平行扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Paramagnetic material y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
顺磁性材料 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Parasitic echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
干扰回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Partial pressure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
分压 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Particle content y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁悬液浓度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Particle velocity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
质点(振动)速度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pascal (Pa) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
帕斯卡(帕) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pascal cubic metres per second y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
帕立方米每秒(Pa·m3/s ) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Path length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
光程长 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Path length difference y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
光程长度差 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pattern y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探伤图形 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Peak current y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
峰值电流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrameter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透度计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrameter sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透度计灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrant comparator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗透对比试块 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrant flaw detection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗透探伤 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrant removal y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗透剂去除 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrant station y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗透工位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetrant, water- washable y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水洗型渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetration y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
穿透深度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Penetration time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
渗透时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Permanent magnet y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
永久磁铁 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Permeability coefficient y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透气系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Permeability,a-c y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
交流磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Permeability,d-c y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
直流磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phantom echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
幻象回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase analysis y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相位分析 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相位角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase controlled circuit breaker y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
断电相位控制器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase detection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相位检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase hologram y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相位全息 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase sensitive detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相敏检波器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase shift y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相位移 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase velocity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相速度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phase-sensitive system y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相敏系统 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phillips ionization gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
菲利浦电离计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Phosphor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光物质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Photo fluorography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光照相术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Photoelectric absorption y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
光电吸收 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Photographic emulsion y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
照相乳剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Photographic fog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
照相灰雾 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Photostimulable luminescence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
光敏发光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Piezoelectric effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压电效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Piezoelectric material y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压电材料 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Piezoelectric stiffness constant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压电劲度常数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Piezoelectric stress constant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压电应力常数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Piezoelectric transducer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压电换能器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Piezoelectric voltage constant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压电电压常数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pirani gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
皮拉尼计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pirani gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
皮拉尼计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pitch and catch technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
一发一收法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pixel y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
象素 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pixel size y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
象素尺寸 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pixel, disply size y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
象素显示尺寸 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Planar array y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
平面阵(列) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Plane wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
平面波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Plate wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
板波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Plate wave technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
板波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Point source y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
点源 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Post emulsification y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
后乳化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Post emulsifiable penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
后乳化渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Post-cleaning y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
后清除 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Post-cleaning y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
后清洗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Powder y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
粉未 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Powder blower y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
喷粉器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Powder blower y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁粉喷* y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pre-cleaning y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
预清理 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pressure difference y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压力差 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pressure dye test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压力着色检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pressure probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压力探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pressure testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压力检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pressure- evacuation test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压力抽空检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pressure mark y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
压痕 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pressure,design y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
设计压力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pre-test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
初探 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Primary coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
一次线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Primary radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
初级辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe gas y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头气体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe backing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头背衬 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
点式线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头式线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe coil clearance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头线圈间隙 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe index y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头入射点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe to weld distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头-焊缝距离 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Probe/ search unit y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Process control radiograph y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
工艺过程控制的射线照相 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Processing capacity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
处理能力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Processing speed y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
处理速度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Prods y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
触头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Projective radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
投影射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Proportioning probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
比例探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Protective material y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
防护材料 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Proton radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
质子射线透照 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse echo method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲回波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse repetition rate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲重复率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse amplitude y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲幅度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse echo method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲反射法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse energy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲能量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse envelope y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲包络 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲长度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse repetition frequency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲重复频率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pulse tuning y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉冲调谐 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pump- out tubulation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
抽气管道 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Pump-down time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
抽气时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Q factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Q值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Quadruple traverse technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
四次波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Quality (of a beam of radiation) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线束的质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Quality factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
品质因数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Quenching y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阻塞 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Quenching of fluorescence y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光的猝灭 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Quick break y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
快速断间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rad(rad) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
拉德 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiance, L y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
面辐射率,L y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiant existence, M y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
幅射照度M y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiant flux; radiant power,ψe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
辐射通量、辐射功率、ψe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiation does y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
辐射剂量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radio frequency (r- f) display y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射频显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radio- frequency mass spectrometer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射频质谱仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radio frequency(r-f) display y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射频显示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiograph y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线底片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic contrast y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线照片对比度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic equivalence factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线照相等效系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic exposure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线照相曝光量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic inspection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic inspection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线照相检验 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic quality y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线照相质量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线照相灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic contrast y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线底片对比度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic equivalence factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线透照等效因子 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic inspection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线透照检查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic quality y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线透照质量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiographic sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线透照灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线照相术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiological examination y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线检验 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiology y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线学 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiometer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
辐射计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radiometry y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
辐射测量术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Radioscopy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线检查法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Range y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
量程 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rayleigh wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
瑞利波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rayleigh scattering y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
瑞利散射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Real image y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
实时图像 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Real-time radioscopy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
实时射线检查法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rearm delay time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
重新准备延时时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rearm delay time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
重新进入工作状态延迟时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reciprocity failure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
倒易律失效 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reciprocity law y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
倒易律 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Recording medium y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
记录介质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Recovery time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
恢复时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rectified alternating current y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉动直流电 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reference block y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
参考试块 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reference beam y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
参考光束 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reference block y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
对比试块 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reference block method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
对比试块法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reference coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
参考线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reference line method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
基准线法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reference standard y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
参考标准 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reflection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
反射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reflection coefficient y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
反射系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reflection density y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
反射密度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reflector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
反射体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Refraction y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
折射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Refractive index y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
折射率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Refrence beam angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
参考光束角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reicnlbation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
网纹 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reject; suppression y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
抑制 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rejection level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
拒收水平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Relative permeability y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相对磁导率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Relevant indication y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
相关指示 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reluctance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁阻 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rem(rem) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
雷姆 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Remote controlled testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
机械化检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Replenisers y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
补充剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Representative quality indicator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
代表性质量指示器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Residual magnetic field/field, residual magnetic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
剩磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Residual technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
剩磁技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Residual magnetic method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
剩磁法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Residual magnetism y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
剩磁 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Resistance (to flow) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
气阻 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
分辨力 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Resonance method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
共振法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Response factor y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
响应系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Response time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
响应时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Resultant field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
复合磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Resultant magnetic field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
合成磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Resultant magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
组合磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Retentivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
顽磁性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Reversal y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
反转现象 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ring-down count y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
振铃计数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ring-down count rate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
振铃计数率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rinse y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
清洗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rise time y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
上升时间 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rise-time discrimination y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
上升时间鉴别 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rod-anode tube y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
棒阳极管 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Roentgen(R) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
伦琴 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Roof angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
屋顶角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rotational magnetic field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
旋转磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rotational magnetic field method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
旋转磁场法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Rotational scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
转动扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Roughing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
低真空 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Roughing line y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
低真空管道 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Roughing pump y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
低真空泵 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
S y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
S y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Safelight y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
安全灯 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sampling probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
取样探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Saturation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
饱和 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Saturation,magnetic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁饱和 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Saturation level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
饱和电平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scan on grid lines y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
格子线扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scan pitch y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫查间距 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scanning y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scanning index y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫查标记 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scanning directly on the weld y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
焊缝上扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scanning path y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫查轨迹 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scanning sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫查灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scanning speed y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫查速度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scanning zone y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫查区域 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scattared energy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
散射能量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scatter unsharpness y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
散射不清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scattered neutrons y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
散射中子 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scattered radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
散射辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scattering y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
散射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Schlieren system y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
施利伦系统 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scintillation counter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
闪烁计数器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Scintillator and scintillating crystals y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
闪烁器和闪烁晶体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Screen y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
屏 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Screen unsharpness y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光增感屏不清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Screen-type film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
荧光增感型胶片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
SE probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
SE探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Search-gas y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探测气体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Second critical angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
第二临界角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Secondary radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
二次射线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Secondary coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
二次线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Secondary radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
次级辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Selectivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
选择性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Semi-conductor detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
半导体探测器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sensitirity va1ue y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
灵敏度值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sensitivity of leak test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
泄漏检测灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sensitivity control y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
灵敏度控制 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Shear wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
切变波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Shear wave probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
横波探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Shear wave technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
横波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Shim y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
薄垫片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Shot y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
冲击通电 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Side lobe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
副瓣 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Side wall y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
侧面 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sievert(Sv) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
希(沃特) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Signal y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
信号 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Signal gradient y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
信号梯度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Signal over load point y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
信号过载点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Signal overload level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
信号过载电平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Signal to noise ratio y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
信噪比 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Single crystal probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
单晶片探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Single probe technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
单探头法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Single traverse technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
一次波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sizing technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
定量法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Skin depth y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
集肤深度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Skin effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
集肤效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Skip distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
跨距 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Skip point y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
跨距点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sky shine(air scatter) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
空中散射效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sniffing probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
嗅吸探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Soft X-rays y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
软X射线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Soft-faced probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
软膜探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Solarization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
负感作用 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Solenoid y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
螺线管 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Soluble developer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
可溶显像剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Solvent remover y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
溶剂去除剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Solvent cleaners y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
溶剂清除剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Solvent developer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
溶剂显像剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Solvent remover y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
溶剂洗净剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Solvent-removal penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
溶剂去除型渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sorption y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
吸着 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound diffraction y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声绕射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound insulating layer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
隔声层 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound intensity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声强 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound intensity level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声强级 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound pressure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声压 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound scattering y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声散射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound transparent layer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透声层 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sound velocity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声速 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Source y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
源 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Source data label y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
放射源数据标签 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Source location y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
源定位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Source size y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
源尺寸 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Source-film distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线源-胶片距离 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Spacial frequency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
空间频率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Spark coil leak detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电火花线圈检漏仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Specific activity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
放射性比度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Specified sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
规定灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Standard y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标准 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Standard y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标准试样 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Standard leak rate y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标准泄漏率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Standard leak y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标准泄漏孔 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Standard tast block y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
标准试块 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Standardization instrument y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
设备标准化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Standing wave; stationary wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
驻波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Step wedge y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阶梯楔块 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Step- wadge calibration film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阶梯楔块校准底片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Step- wadge comparison film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阶梯楔块比较底片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Step wedge y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阶梯楔块 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Step-wedge calibration film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阶梯-楔块校准片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Step-wedge comparison film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阶梯-楔块比较片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Stereo-radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
立体射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Subject contrast y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
被检体对比度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Subsurface discontinuity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
近表面不连续性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Suppression y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
抑制 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surface echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
表面回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surface field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
表面磁场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surface noise y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
表面噪声 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surface wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
表面波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surface wave probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
表面波探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surface wave technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
表面波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surge magnetization y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
脉动磁化 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Surplus sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
灵敏度余量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Suspension y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁悬液 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sweep y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫描 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sweep range y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫描范围 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Sweep speed y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫描速度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Swept gain y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
扫描增益 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Swivel scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
环绕扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
System exanlillatien threshold y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
系统检验阈值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
System inclacel artifacts y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
系统感生物 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
System noise y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
系统噪声 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tackground, target y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
目标本底 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tandem scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
串列扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Target y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
耙 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Target y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
靶 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Television fluoroscopy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电视X射线荧光检查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Temperature envelope y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
温度范围 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tenth-value-layer(TVL) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
十分之一值层 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test coil y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检测线圈 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test quality level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检测质量水平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test ring y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
试环 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test block y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
试块 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test frequency y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
试验频率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test piece y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
试片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test range y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探测范围 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Test surface y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探测面 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Testing,ulrasonic y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thermal neutrons y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
热中子 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thermocouple gage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
热电偶计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thermogram y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
热谱图 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thermography, infrared y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
红外热成象 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thermoluminescent dosemeter(TLD) y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
热释光剂量计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thickness sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
厚度灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Third critiical angle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
第三临界角 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thixotropic penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
摇溶渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Thormal resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
热分辨率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Threading bar y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
穿棒 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Three way sort y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
三档分选 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Threshold setting y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
门限设置 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Threshold fog y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阈值灰雾 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Threshold level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阀值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Threshotd tcnet y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
门限电平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Throttling y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
节流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Through transmission technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
穿透技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Through penetration technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
贯穿渗透法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Through transmission technique; transmission technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
穿透法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Through-coil technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
穿过式线圈技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Throughput y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
通气量 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tight y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
密封 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Total reflection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
全反射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Totel image unsharpness y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
总的图像不清晰度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tracer probe leak location y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
示踪探头泄漏定位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tracer gas y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
示踪气体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transducer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
换能器/传感器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transition flow y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
过渡流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Translucent base media y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
半透明载体介质 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmission y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmission densitomefer y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
发射密度计 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmission coefficient y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透射系数 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmission point y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透射点 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmission technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透射技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmittance,τ y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
透射率τ y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmitted film density y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
检测底片黑度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transmitted pulse y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
发射脉冲 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transverse resolution y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
横向分辨率 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Transverse wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
横波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Traveling echo y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
游动回波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Travering scan; depth scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
前后扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Triangular array y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
正三角形阵列 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Trigger/alarm condition y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
触发/报警状态 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Trigger/alarm level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
触发/报警标准 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Triple traverse technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
三次波法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
True continuous technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
准确连续法技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Trueattenuation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
真实衰减 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tube current y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
管电流 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tube head y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
管头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tube shield y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
管罩 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tube shutter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
管子光闸 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tube window y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
管窗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Tube-shift radiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
管子移位射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Two-way sort y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
两档分选 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultra- high vacuum y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超高真空 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic leak detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声波检漏仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic noise level y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声噪声电平 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic cleaning y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声波清洗 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic field y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声场 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic flaw detection y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声探伤 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic flaw detector y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声探伤仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic microscope y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声显微镜 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic spectroscopy y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声频谱 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic testing system y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声检测系统 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultrasonic thickness gauge y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
超声测厚仪 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Ultraviolet radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
紫外辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Under development y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
显影不足 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Unsharpness y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
不清晰 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Useful density range y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
有效光学密度范围 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
UV-A y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
A类紫外辐射 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
UV-A filter y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
A类紫外辐射滤片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vacuum y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
真空 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vacuum cassette y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
真空暗盒 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vacuum testing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
真空检测 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vacuum cassette y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
真空暗合 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Van de Graaff generator y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
范德格喇夫起电机 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vapor pressure y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
蒸汽压 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vapour degreasing y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
蒸汽除油 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
variable angle probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
可变角探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vee path y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
V型行程 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vehicle y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
载体 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vertical linearity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
垂直线性 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vertical location y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
垂直定位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Visible light y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
可见光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Vitua limage y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
虚假图像 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Voltage threshold y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
电压阈值 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Voltage threshold y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
阈值电压 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wash station y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水洗工位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Water break test y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水膜破坏试验 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Water column coupling method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水柱耦合法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Water column probe y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水柱耦合探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Water path; water distance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水程 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Water tolerance y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
水容限 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Water-washable penetrant y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
可水洗型渗透剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave guide acoustic emission y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
声发射波导杆 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave train y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波列 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave from y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波形 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave front y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波前 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave length y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波长 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave node y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波节 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wave train y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
波列 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wedge y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
斜楔 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wet slurry technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
湿软磁膏技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wet technique y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
湿法技术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wet method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
湿粉法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wetting action y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
润湿作用 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wetting action y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
润湿作用 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wetting agents y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
润湿剂 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wheel type probe; wheel search unit y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
轮式探头 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
White light y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
白光 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
White X-rays y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
连续X射线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wobble y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
摆动 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wobble effect y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
抖动效应 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Working sensitivity y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
探伤灵敏度 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Wrap around y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
残响波干扰 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Xeroradiography y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
静电射线透照术 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X-radiation y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X射线 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X-ray controller y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X射线控制器 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X-ray detection apparatus y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X射线探伤装置 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X-ray film y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
射线胶片 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X-ray paper y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X射线感光纸 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X-ray tube y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X射线管 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X-ray tube diaphragm y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
X射线管光阑 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Yoke y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁轭 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Yoke magnetization method y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
磁轭磁化法 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Zigzag scan y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
锯齿扫查 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Zone calibration location y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
时差区域校准定位 y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
Zone location y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж
区域定位y¯öênÉñbbs.3c3t.comäâ¹W:Ðж