仪器名称ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 信号检测ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 元素测定ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 检测限ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 深度分辨率ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 适用范围ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
扫描电子显微镜(SEM)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 二次及背向散射电子&X射线ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| B-U (EDS mode)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.1 - 1 at%ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.5 - 3 µm (EDS)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 高辨析率成像ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 元素微观分析及颗粒特征化描述ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
X射线能谱仪(EDS)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 二次背向散射电子&X射线ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| B-UÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.1 – 1 at%ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.5 – 3 μmÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 小面积上的成像与元素组成;缺陷处元素的识别/绘图;颗粒分析(>300nm)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
显微红外显微镜(FTIR)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 红外线吸收ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 分子群ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.1 - 1 wt%ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.1 - 2.5 µmÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体(材料识别)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 (Si-H vs. N-H)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 污染物分析(析取、除过气的产品,残余物)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
拉曼光谱(Raman)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 拉曼散射ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 化学及分子键联资料ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| >=1 wt%ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 共焦模式ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 1到5 µmÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 拉曼,碳层特征 (石墨、金刚石 )ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 非共价键联压焊(复合体、金属键联)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 定位(随机v. 有组织的结构)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
俄歇电子能谱仪(AES)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 来自表面附近的Auger电子ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| Li-UÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.1-1%亚单层ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 缺陷分析;颗粒分析;表面分析;小面积深度剖面;薄膜成分分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
X射线光电子能谱仪(XPS)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 来自表面原子附近的光电子ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| Li-U化学键联信息ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 0.01 - 1 at% sub-monolayerÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 20 - 200 Å(剖析模式)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 10 - 100 Å (表面分析)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 测量表面成分及化学状态信息ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 薄膜成份的深度剖面ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 硅 氧氮化物厚度和测量剂量ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 薄膜氧化物厚度测量(SiO2, Al2O3 等.)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 分子和元素种类ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 整个周期表,加分子种类ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayerÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 1 - 3 monolayers (Static mode)ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 有机材料和无机材料的表面微量分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 来自表面的大量光谱ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð 表面离子成像ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
塑料断口红色颗粒物分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 塑料表面白色粉末成分分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
连接端子pin针表面异物分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| 金手指端部表面异物分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
镀金管脚表面异物分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
| ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|
PCB表面异物成分分析ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð ÜÔøó.bbbs.3c3t.com³»{h¯ð
|