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[文章] 常用中英文对照无损检测词汇 [复制链接]

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英          文 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
中         文 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
A.C magnetic saturation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
交流磁饱和 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Absorbed dose f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
吸收剂量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Absorbed dose rate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
吸收剂量率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acceptanc  limits f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
验收范围 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acceptance  level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
验收水平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acceptance  standard f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
验收标准 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Accumulation  test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
累积检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic emission  count(emission count) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声发射计数(发射计数) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic emission transducer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声发射换能器(声发射传感器) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic emission(AE) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声发射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic holography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声全息术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic impedance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声阻抗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic impedance matching f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声阻抗匹配 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic impedance method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声阻法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustical lens f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声透镜 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Acoustic—ultrasonic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声-超声(AU) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Activation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
活化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Activity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
活度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Adequate shielding f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
安全屏蔽 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ampere turns f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
安匝数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Amplitude f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
幅度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Angle beam method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
斜射法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Angle of incidence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
入射角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Angle of reflection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
反射角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Angle of spread f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
指向角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Angle of squint f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
偏向角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Angle probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
斜探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Angstrom unit f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
埃(A) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Area amplitude response curve f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
面积幅度曲线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Area of interest f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
评定区 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Arliflcial  disconlinuity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
人工不连续性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Artifact f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
假缺陷 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Artificial defect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
人工缺陷 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Artificial discontinuity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标准人工缺陷 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
A-scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
A型扫描 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
A-scope; A-scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
A型显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Attenuation coefficient f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
衰减系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Attenuator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
衰减器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Audible  leak  indicator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
音响泄漏指示器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Automatic testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
自动检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Autoradiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
自射线照片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Avaluation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
评定 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Barium concrete f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
钡混凝土 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Barn f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Base fog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
片基灰雾 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bath f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
槽液 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bayard- Alpert  ionization  gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
B- A型电离计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声束 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam ratio f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
光束比 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
束张角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam axis f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声束轴线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam index f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声束入射点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam path location f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声程定位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam path; path length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声程 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Beam spread f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声束扩散 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Betatron f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子感应加速器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bimetallic strip gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双金属片计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bipolar field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双极磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Black light filter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
黑光滤波器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Black light; ultraviolet radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
黑光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Blackbody f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
黑体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Blackbody  equivalent  temperature f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
黑体等效温度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bleakney mass  spectrometer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波利克尼质谱仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bleedout f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗出 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bottom echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
底面回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bottom surface f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
底面 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Boundary echo(first) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
边界一次回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Bremsstrahlung f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
轫致辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Broad-beam condition f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
宽射束 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Brush application f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
刷涂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
B-scan  presenfation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
B型扫描显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
B-scope;  B-scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
B型显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
C- scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
C型扫描 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Calibration,instrument f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
设备校准 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Capillary action f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
毛细管作用 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Carrier fluid f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
载液 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Carry over of penetrate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗透剂移转 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cassette f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
暗合 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cathode f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阴极 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Central  conductor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
中心导体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Central conductor method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
中心导体法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Characteristic  curve f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
特性曲线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Characteristic curve of film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片特性曲线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Characteristic radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
特征辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Chemical fog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
化学灰雾 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cine-radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线(活动)电影摄影术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cintact pads f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
接触垫 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Circumferential  coils f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
圆环线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Circumferential field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
周向磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Circumferential magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
周向磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Clean f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
清理 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Clean- up f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
清除 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Clearing time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定透时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coercive force f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
矫顽力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coherence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相干性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coherence  length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相干长度(谐波列长度) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coi1,test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
测试线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coil  size f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线圈大小 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coil spacing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线圈间距 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coil technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线圈技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coil method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线圈法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coilreference f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线圈参考 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coincidence discrimination f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
符合鉴别 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cold-cathode  ionization  gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
冷阴极电离计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Collimator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
准直器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Collimation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
准直 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Collimator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
准直器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Combined colour comtrast and fluorescent penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
着色荧光渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Compressed air drying f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压缩空气干燥 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Compressional  wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压缩波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Compton scatter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
康普顿散射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Continuous emission f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
连续发射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Continuous linear array f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
连续线阵 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Continuous method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
连续法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Continuous spectrum f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
连续谱 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Continuous wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
连续波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Contract  stretch f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
对比度宽限 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Contrast f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
对比度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Contrast  agent f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
对比剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Contrast aid f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
反差剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Contrast sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
对比灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Control echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
监视回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Control echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
参考回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Couplant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
耦合剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coupling f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
耦合 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Coupling losses f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
耦合损失 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cracking f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
裂解 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Creeping wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
爬波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Critical angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
临界角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cross section f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
横截面 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cross talk f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
串音 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cross-drilled hole f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
横孔 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Crystal f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
晶片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
C-scope;  C-scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
C型显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Curie point f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
居里点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Curie temperature f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
居里温度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Curie(Ci) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
居里 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Current flow method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
通电法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Current induction  method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电流感应法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Current magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电流磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Cut-off  level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
截止电平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dead zone f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
盲区 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Decay curve f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
衰变曲线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Decibel(dB) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
分贝 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Defect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Defect  resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷分辨力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Defect detection sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷检出灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Defect resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷分辨力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Definition f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Definition,  image  definition f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
清晰度,图像清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Demagnetization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
退磁 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Demagnetization factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
退磁因子 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Demagnetizer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
退磁装置 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Densitometer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
黑度计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Density f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
黑度(底片) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Density  comparison  strip f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
黑度比较片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Detecting medium f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检验介质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Detergent remover f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
洗净液 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Developer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
显像剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Developer station f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
显像工位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Developer,  agueons f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水性显象剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Developer,  dry f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干显象剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Developer,  liquid  film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
液膜显象剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Developer,  nonaqueous  (sus- pendible) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
非水(可悬浮)显象剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Developing time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
显像时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Development f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
显影 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Diffraction mottle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
衍射斑 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Diffuse  indications f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
松散指示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Diffusion f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扩散 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Digital  image  acquisition  system f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
数字图像识别系统 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dilatational wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
膨胀波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dip and drain station f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
浸渍和流滴工位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Direct  contact  magnetization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
直接接触磁化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Direct  exposure  imaging f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
直接曝光成像 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Direct contact method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
直接接触法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Directivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
指向性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Discontinuity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
不连续性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Distance- gain- size-German  AVG f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
距离- 增益- 尺寸(DGS德文为AVG) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Distance marker; time marker f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
距离刻度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dose equivalent f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
剂量当量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dose rate meter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
剂量率计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dosemeter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
剂量计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Double crystal probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双晶片探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Double probe technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双探头法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Double transceiver technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双发双收法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Double traverse technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
二次波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dragout f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
带出 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Drain  time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
滴落时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Drain time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
流滴时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Drift f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
漂移 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dry method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dry powder f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干粉 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dry technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干粉技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dry developer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干显像剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dry developing cabinet f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干显像柜 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dry method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干粉法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Drying oven f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干燥箱 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Drying station f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干燥工位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Drying time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干燥时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
D-scope;  D-scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
D型显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dual search  unit f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dual-focus tube f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双焦点管 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Duplex-wire image quality indicator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
双线像质指示器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Duration f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
持续时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dwell  time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
停留时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dye penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
着色渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dynamic  leak  test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
动态泄漏检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dynamic  leakage  measurement f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
动态泄漏测量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dynamic  range f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
动态范围 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Dynamic radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
动态射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Echo frequency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
回波频率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Echo height f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
回波高度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Echo indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
回波指示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Echo transmittance of sound pressure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
往复透过率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Echo width f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
回波宽度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Eddy current f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
涡流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Eddy current flaw detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
涡流探伤仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Eddy current testiog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
涡流检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Edge f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
端面 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Edge effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
边缘效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Edge echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
棱边回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Edge effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
边缘效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Effective  depth  penetration  (EDP) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
有效穿透深度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Effective focus size f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
有效焦点尺寸 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Effective magnetic permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
有效磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Effective permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
有效磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Effective reflection surface of flaw f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷有效反射面 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Effective resistance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
有效电阻 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Elastic medium f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
弹性介质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electric displacement f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电位移 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electrical center f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电中心 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electrode f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电极 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electromagnet f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电磁铁 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electro-magnetic acoustic transducer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电磁声换能器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electromagnetic induction f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电磁感应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electromagnetic radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电磁辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electromagnetic testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电磁检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electro-mechanical coupling factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
机电耦合系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electron radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子辐射照相术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electron volt f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子伏恃 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electronic noise f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子噪声 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Electrostatic spraying f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
静电喷涂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Emulsification f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
乳化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Emulsification time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
乳化时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Emulsifier f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
乳化剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Encircling  coils f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
环绕式线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
End effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
端部效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Energizing  cycle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
激励周期 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Equalizing filter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
均衡滤波器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Equivalent f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
当量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Equivalent  I.Q. I.   Sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
象质指示器当量灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Equivalent  nitrogen  pressure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
等效氮压 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Equivalent  penetrameter  sensifivty f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透度计当量灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Equivalent method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
当量法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Erasabl  optical  medium f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
可探光学介质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Etching f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
浸蚀 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Evaluation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
评定 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Evaluation  threshold f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
评价阈值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Event count f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
事件计数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Event count rate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
事件计数率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Examination  area f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检测范围 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Examination  region f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检验区域 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Exhaust  pressure/discharge  pressure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
排气压力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Exhaust  tubulation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
排气管道 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Expanded time-base sweep f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
时基线展宽 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Exposure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
曝光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Exposure table f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
曝光表格 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Exposure chart f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
曝光曲线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Exposure fog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
曝光灰雾 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Exposure,radiographic  exposure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
曝光,射线照相曝光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Extended  source f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扩展源 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Facility  scattered  neutrons f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
条件散射中子 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
False indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
假指示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Family f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Far field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
远场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Feed-through coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
穿过式线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Field,  resultant  magnetic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
复合磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fill factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
填充系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film speed f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片速度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film badge f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片襟章剂量计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film base f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
片基 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film contrast f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片对比度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film gamma f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片γ值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film processing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片冲洗加工 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film speed f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片感光度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film unsharpness f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片不清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Film viewing screen f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
观察屏 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Filter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
滤波器/滤光板 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Final test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
复探 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flat-bottomed hole f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
平底孔 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flat-bottomed hole equivalent f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
平底孔当量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flaw f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flaw characterization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
伤特性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flaw echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flexural wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
弯曲波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Floating  threshold f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
浮动阀值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescent  examination  method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光检验法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescent  magnetic  particle  inspection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光磁粉检验 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescent dry deposit penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干沉积荧光渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescent light f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescent magnetic powder f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光磁粉 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescent penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluorescent screen f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光屏 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fluoroscopy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光检查法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flux leakage  field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁通泄漏场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Flux lines f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁通线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focal spot f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
焦点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focal distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
焦距 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focus length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
焦点长度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focus size f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
焦点尺寸 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focus width f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
焦点宽度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focus(electron) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子焦点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focused beam f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
聚焦声束 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focusing probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
聚焦探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Focus-to-film distance(f.f.d) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
焦点-胶片距离(焦距) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
底片灰雾 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fog density f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
灰雾密度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Footcandle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
英尺烛光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Freguency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
频率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Frequency constant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
频率常数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fringe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干涉带 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Front distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
前沿距离 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Front distance of flaw f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷前沿距离 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Full- wave  direct  current(FWDC) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
全波直流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Fundamental frequency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
基频 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Furring f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
毛状迹痕 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gage  pressure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
表压 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gain f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
增益 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gamma radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
γ射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gamma ray source f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
γ射线源 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gamma ray source container f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
γ射线源容器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gamma rays f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
γ射线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gamma-ray radiographic equipment f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
γ射线透照装置 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gap scanning f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
间隙扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gas f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
气体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
闸门 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gating technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
选通技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gauss f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
高斯 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Geiger-Muller counter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
盖革.弥勒计数器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Geometric unsharpness f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
几何不清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Gray(Gy) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
戈瑞 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Grazing  incidence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
掠入射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Grazing angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
掠射角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Group velocity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
群速度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Half life f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
半衰期 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Half- wave  current  (HW) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
半波电流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Half-value layer(HVL) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
半值层 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Half-value method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
半波高度法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Halogen f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
卤素 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Halogen  leak  detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
卤素检漏仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hard X-rays f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
硬X射线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hard-faced probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
硬膜探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Harmonic analysis f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
谐波分析 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Harmonic distortion f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
谐波畸变 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Harmonics f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
谐频 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Head wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
头波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Helium  bombing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
氦轰击法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Helium  drift f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
氦漂移 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Helium  leak  detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
氦检漏仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hermetically  tight  seal f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
气密密封 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
High  vacuum f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
高真空 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
High energy X-rays f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
高能X射线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Holography (optical) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
光全息照相 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Holography,  acoustic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声全息 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hydrophilic emulsifier f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
亲水性乳化剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hydrophilic remover f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
亲水性洗净剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hydrostatic text f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
流体静力检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hysteresis f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁滞 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Hysteresis f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁滞 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
IACS f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
IACS f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
ID coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
ID线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Image definition f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
图像清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Image contrast f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
图像对比度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Image enhancement f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
图像增强 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Image magnification f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
图像放大 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Image quality f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
图像质量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Image quality indicator sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
像质指示器灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Image quality indicator(IQI)/image  quality  indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
像质指示器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Imaging  line  scanner f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
图像线扫描器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Immersion probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
液浸探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Immersion rinse f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
浸没清洗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Immersion testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
液浸法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Immersion time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
浸没时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Impedance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阻抗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Impedance plane diagram f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阻抗平面图 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Imperfection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
不完整性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Impulse eddy current testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲涡流检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Incremental permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
增量磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Indicated defect area f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷指示面积 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Indicated defect length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
缺陷指示长度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
指示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Indirect  exposure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
间接曝光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Indirect  magnetization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
间接磁化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Indirect magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
间接磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Indirect scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
间接扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Induced  field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
感应磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Induced current method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
感应电流法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Infrared  imaging system f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
红外成象系统 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Infrared  sensing  device f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
红外扫描器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inherent  fluorescence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
固有荧光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inherent filtration f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
固有滤波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Initial permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
起始磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Initial pulse f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
始脉冲 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Initial pulse width f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
始波宽度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inserted  coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
插入式线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inside  coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
内部线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inside- out  testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
外泄检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inspection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inspection  medium f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检查介质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Inspection frequency/ test frequency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检测频率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Intensifying factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
增感系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Intensifying screen f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
增感屏 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Interal,arrival time  (Δtij)/arrival time interval(Δtij) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
到达时间差(Δtij) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Interface boundary f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
界面 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Interface echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
界面回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Interface trigger f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
界面触发 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Interference f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干涉 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Interpretation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
解释 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ion pump f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
离子泵 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ion source f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
离子源 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ionization chamber f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电离室 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ionization potential f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电离电位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ionization vacuum gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电离真空计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ionography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电离射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Irradiance,  E f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
辐射通量密度,  E f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Isolation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
隔离检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Isotope f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
同位素 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
K value f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
K值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Kaiser effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
凯塞(Kaiser)效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Kilo volt f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
kv  千伏特 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Kiloelectron  volt f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
keV千电子伏特 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Krypton  85 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
氪85 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
L/D ratio f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
L/D比 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lamb  wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
兰姆波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Latent image f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
潜象 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lateral scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
左右扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lateral scan with oblique angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
斜平行扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Latitude (of an emulsion) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
胶片宽容度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lead  screen f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
铅屏 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Leak f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
泄漏孔 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Leak  artifact f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
泄漏器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Leak  detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检漏仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Leak  testtion f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
泄漏检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Leakage  field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
泄漏磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Leakage  rate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
泄漏率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Leechs f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁吸盘 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lift-off effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
提离效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Light  intensity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
光强度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Limiting  resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
极限分辨率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Line  scanner f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线扫描器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Line focus f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线焦点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Line pair pattern f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线对检测图 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Line pairs per millimetre f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
每毫米线对数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Linear (electron) accelerator(LINAC) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子直线加速器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Linear attenuation coefficient f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线衰减系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Linear scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Linearity  (time  or  distance) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
线性(时间或距离) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Linearity,  anplitude f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
幅度线性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lines of force f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁力线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lipophilic emulsifier f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
亲油性乳化剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lipophilic remover f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
亲油性洗净剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Liquid  penetrant  examination f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
液体渗透检验 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Liquid film developer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
液膜显像剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Local  magnetization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
局部磁化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Local magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
局部磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Local scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
局部扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Localizing cone f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定域喇叭筒 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Location f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Location  accuracy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定位精度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Location  computed f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定位,计算 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Location marker f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定位标记 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Location upon delta-T f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
时差定位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Location,  clusfer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定位,群集 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Location,continuous  AE  signal f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定位,连续AE信号 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Longitudinal field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
纵向磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Longitudinal magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
纵向磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Longitudinal resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
纵向分辨率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Longitudinal wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
纵波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Longitudinal wave probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
纵波探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Longitudinal wave technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
纵波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Loss  of  back  reflection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
背面反射损失 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Loss of back reflection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
底面反射损失 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Love wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
乐甫波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Low energy gamma radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
低能γ辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Low-enerugy  photon  radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
低能光子辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Luminance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
亮度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Luminosity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
流明 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Lusec f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
流西克 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Maga or  million electron  volts f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
MeV兆电子伏特 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic  history f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁化史 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic  hysteresis f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁性滞后 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic  particle  field  indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁粉磁场指示器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic  particle  inspection  flaw  indications f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁粉检验的伤显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic circuit f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁路 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic domain f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁畴 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic field distribution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁场分布 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic field indicator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁场指示器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic field meter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁场计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic field strength f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁场强度(H) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic field/field,magnetic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic flux f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁通 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic flux density f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁通密度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic force f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁化力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic leakage field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
漏磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic leakage flux f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
漏磁通 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic moment f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁矩 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic particle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁粉 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic particle indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁痕 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic particle testing/magnetic  particle  examination f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁粉检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic pole f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁极 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic saturataion f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁饱和 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic saturation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁饱和 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic slorage meclium f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁储介质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetic writing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁写 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetizing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetizing  current f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁化电流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetizing coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁化线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetostrictive effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁致伸缩效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Magnetostrictive transducer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁致伸缩换能器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Main beam f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
主声束 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Manual testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
手动检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Markers f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
时标 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
MA-scope;  MA-scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
MA型显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Masking f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
遮蔽 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mass  attcnuation  coefficient f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
质量吸收系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mass  number f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
质量数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mass  spectrometer  (M.S.) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
质谱仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mass  spectrometer  leak  detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
质谱检漏仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mass  spectrum f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
质谱 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Master/slave discrimination f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
主从鉴别 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
MDTD f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
最小可测温度差 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mean  free  path f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
平均自由程 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Medium  vacuum f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
中真空 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mega  or  million  volt f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
MV兆伏特 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Micro focus  X - ray  tube f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
微焦点X 光管 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Microfocus radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
微焦点射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Micrometre f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
微米 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Micron  of  mercury f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
微米汞柱 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Microtron f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子回旋加速器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Milliampere f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
毫安(mA) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Millimetre  of  mercury f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
毫米汞柱 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Minifocus  x- ray  tube f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
小焦点调射线管 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Minimum  detectable  leakage  rate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
最小可探泄漏率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Minimum  resolvable  temperature  difference  (MRTD) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
最小可分辨温度差(MRDT) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mode f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波型 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mode  conversion f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波型转换 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Mode transformation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波型转换 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Moderator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
慢化器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Modulation  transfer  function  (MTF) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
调制转换功能(MTF) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Modulation analysis f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
调制分析 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Molecular  flow f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
分子流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Molecular  leak f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
分子泄漏 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Monitor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
监控器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Monochromatic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
单色波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Movement unsharpness f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
移动不清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Moving beam radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
可动射束射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multiaspect magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多向磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multidirectional  magnetization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多向磁化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multifrequency eddy current testiog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多频涡流检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multiple  back  reflections f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多次背面反射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multiple  reflections f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多次反射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multiple back reflections f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多次底面反射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multiple echo method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多次反射法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multiple probe technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多探头法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Multiple triangular array f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
多三角形阵列 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Narrow beam condition f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
窄射束 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
NC f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
NC f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Near field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
近场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Near field length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
近场长度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Near surface defect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
近表面缺陷 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Net  density f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
净黑度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Net density f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
净(光学)密度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Neutron f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
中子 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Neutron  radiograhy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
中子射线透照 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Neutron radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
中子射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Newton  (N) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
牛顿 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nier  mass  spectrometer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
尼尔质谱仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Noise f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
噪声 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Noise f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
噪声 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Noise  equivalent  temperature  difference  (NETD) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
噪声当量温度差(NETD) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nominal angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标称角度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nominal frequency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标称频率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Non-aqueous liquid developer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
非水性液体显像剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Noncondensable  gas f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
非冷凝气体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nondcstructivc  Examination(NDE) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
无损试验 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nondestructive  Evaluation(NDE) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
无损评价 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nondestructive  Inspection(NDI) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
无损检验 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nondestructive  Testing(NDT) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
无损检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nonerasble  optical  data f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
可固定光学数据 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nonferromugnetic  material f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
非铁磁性材料 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nonrelevant indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
非相关指示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Non-screen-type film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
非增感型胶片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Normal  incidence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
垂直入射(亦见直射声束) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Normal  permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标准磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Normal beam method; straight beam method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
垂直法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Normal probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
直探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Normalized reactance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
归一化电抗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Normalized resistance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
归一化电阻 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nuclear  activity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
核活性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Nuclide f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
核素 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Object  plane  resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
物体平面分辨率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Object  scattered  neutrons f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
物体散射中子 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Object beam f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
物体光束 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Object beam angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
物体光束角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Object-film distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
被检体-胶片距离 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Object一film  distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
物体- 胶片距离 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Over development f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
显影过度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Over emulsfication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
过乳化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Overall  magnetization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
整体磁化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Overload recovery time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
过载恢复时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Overwashing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
过洗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Oxidation  fog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
氧化灰雾 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
P f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
P f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pair  production f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
偶生成 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pair  production f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子对产生 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pair production f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电子偶的产生 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Palladium  barrier  leak  detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
钯屏检漏仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Panoramic exposure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
全景曝光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Parallel scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
平行扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Paramagnetic material f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
顺磁性材料 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Parasitic echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
干扰回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Partial  pressure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
分压 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Particle content f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁悬液浓度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Particle velocity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
质点(振动)速度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pascal  (Pa) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
帕斯卡(帕) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pascal  cubic  metres  per  second f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
帕立方米每秒(Pa·m3/s ) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Path  length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
光程长 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Path  length  difference f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
光程长度差 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pattern f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探伤图形 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Peak current f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
峰值电流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrameter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透度计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrameter  sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透度计灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrant  comparator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗透对比试块 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrant flaw detection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗透探伤 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrant removal f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗透剂去除 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrant station f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗透工位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetrant,  water- washable f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水洗型渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetration f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
穿透深度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Penetration time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
渗透时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Permanent magnet f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
永久磁铁 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Permeability  coefficient f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透气系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Permeability,a-c f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
交流磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Permeability,d-c f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
直流磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phantom echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
幻象回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase analysis f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相位分析 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相位角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase controlled circuit breaker f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
断电相位控制器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase detection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相位检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase hologram f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相位全息 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase sensitive detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相敏检波器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase shift f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相位移 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase velocity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相速度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phase-sensitive system f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相敏系统 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phillips  ionization  gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
菲利浦电离计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Phosphor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光物质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Photo  fluorography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光照相术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Photoelectric absorption f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
光电吸收 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Photographic emulsion f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
照相乳剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Photographic fog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
照相灰雾 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Photostimulable  luminescence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
光敏发光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Piezoelectric effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压电效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Piezoelectric material f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压电材料 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Piezoelectric stiffness constant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压电劲度常数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Piezoelectric stress constant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压电应力常数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Piezoelectric transducer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压电换能器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Piezoelectric voltage constant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压电电压常数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pirani  gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
皮拉尼计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pirani gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
皮拉尼计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pitch and catch technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
一发一收法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pixel f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
象素 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pixel  size f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
象素尺寸 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pixel,  disply  size f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
象素显示尺寸 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Planar array f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
平面阵(列) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Plane wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
平面波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Plate wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
板波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Plate wave technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
板波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Point  source f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
点源 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Post  emulsification f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
后乳化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Post emulsifiable penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
后乳化渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Post-cleaning f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
后清除 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Post-cleaning f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
后清洗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Powder f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
粉未 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Powder  blower f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
喷粉器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Powder blower f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁粉喷* f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pre-cleaning f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
预清理 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pressure  difference f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压力差 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pressure  dye  test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压力着色检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pressure  probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压力探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pressure  testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压力检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pressure- evacuation  test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压力抽空检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pressure mark f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
压痕 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pressure,design f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
设计压力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Pre-test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
初探 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Primary coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
一次线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Primary radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
初级辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe  gas f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头气体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe  test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe backing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头背衬 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
点式线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头式线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe coil clearance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头线圈间隙 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe index f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头入射点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe to weld distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头-焊缝距离 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Probe/ search unit f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Process  control  radiograph f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
工艺过程控制的射线照相 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Processing capacity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
处理能力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Processing speed f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
处理速度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Prods f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
触头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Projective radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
投影射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Proportioning  probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
比例探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Protective material f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
防护材料 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Proton radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
质子射线透照 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse  echo  method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲回波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse  repetition  rate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲重复率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse amplitude f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲幅度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse echo method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲反射法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse energy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲能量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse envelope f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲包络 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲长度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse repetition frequency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲重复频率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pulse tuning f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉冲调谐 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pump- out  tubulation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
抽气管道 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Pump-down  time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
抽气时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Q factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Q值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Quadruple traverse technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
四次波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Quality (of a beam of radiation) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线束的质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Quality factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
品质因数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Quenching f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阻塞 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Quenching of fluorescence f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光的猝灭 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Quick  break f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
快速断间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rad(rad) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
拉德 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiance,  L f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
面辐射率,L f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiant  existence,  M f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
幅射照度M f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiant  flux;  radiant power,ψe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
辐射通量、辐射功率、ψe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiation does f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
辐射剂量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radio  frequency  (r- f)  display f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射频显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radio- frequency mass  spectrometer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射频质谱仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radio frequency(r-f) display f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射频显示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiograph f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线底片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic  contrast f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线照片对比度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic  equivalence  factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线照相等效系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic  exposure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线照相曝光量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic  inspection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic  inspection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线照相检验 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic  quality f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线照相质量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic  sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线照相灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic contrast f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线底片对比度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic equivalence factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线透照等效因子 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic inspection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线透照检查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic quality f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线透照质量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiographic sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线透照灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线照相术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiological  examination f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线检验 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiology f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线学 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiometer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
辐射计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radiometry f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
辐射测量术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Radioscopy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线检查法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Range f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
量程 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rayleigh  wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
瑞利波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rayleigh scattering f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
瑞利散射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Real image f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
实时图像 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Real-time  radioscopy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
实时射线检查法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rearm delay time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
重新准备延时时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rearm delay time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
重新进入工作状态延迟时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reciprocity failure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
倒易律失效 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reciprocity law f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
倒易律 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Recording medium f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
记录介质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Recovery time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
恢复时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rectified alternating current f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉动直流电 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reference  block f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
参考试块 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reference beam f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
参考光束 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reference block f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
对比试块 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reference block method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
对比试块法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reference coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
参考线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reference line method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
基准线法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reference standard f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
参考标准 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reflection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
反射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reflection coefficient f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
反射系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reflection density f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
反射密度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reflector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
反射体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Refraction f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
折射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Refractive index f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
折射率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Refrence beam angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
参考光束角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reicnlbation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
网纹 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reject; suppression f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
抑制 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rejection level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
拒收水平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Relative permeability f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相对磁导率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Relevant indication f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
相关指示 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reluctance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁阻 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rem(rem) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
雷姆 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Remote controlled testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
机械化检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Replenisers f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
补充剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Representative  quality  indicator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
代表性质量指示器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Residual  magnetic  field/field,  residual  magnetic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
剩磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Residual  technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
剩磁技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Residual magnetic method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
剩磁法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Residual magnetism f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
剩磁 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Resistance  (to  flow) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
气阻 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
分辨力 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Resonance method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
共振法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Response factor f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
响应系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Response time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
响应时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Resultant  field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
复合磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Resultant magnetic field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
合成磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Resultant magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
组合磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Retentivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
顽磁性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Reversal f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
反转现象 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ring-down count f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
振铃计数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ring-down count rate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
振铃计数率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rinse f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
清洗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rise time f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
上升时间 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rise-time discrimination f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
上升时间鉴别 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rod-anode tube f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
棒阳极管 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Roentgen(R) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
伦琴 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Roof angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
屋顶角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rotational magnetic field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
旋转磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rotational magnetic field method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
旋转磁场法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Rotational scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
转动扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Roughing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
低真空 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Roughing  line f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
低真空管道 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Roughing  pump f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
低真空泵 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
S f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
S f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Safelight f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
安全灯 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sampling probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
取样探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Saturation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
饱和 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Saturation,magnetic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁饱和 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Saturation  level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
饱和电平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scan on grid lines f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
格子线扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scan pitch f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫查间距 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scanning f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scanning  index f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫查标记 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scanning directly on the weld f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
焊缝上扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scanning path f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫查轨迹 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scanning sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫查灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scanning speed f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫查速度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scanning zone f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫查区域 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scattared energy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
散射能量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scatter unsharpness f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
散射不清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scattered  neutrons f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
散射中子 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scattered radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
散射辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scattering f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
散射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Schlieren system f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
施利伦系统 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scintillation counter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
闪烁计数器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Scintillator and scintillating crystals f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
闪烁器和闪烁晶体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Screen f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Screen unsharpness f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光增感屏不清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Screen-type film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
荧光增感型胶片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
SE  probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
SE探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Search-gas f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探测气体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Second critical angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
第二临界角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Secondary  radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
二次射线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Secondary coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
二次线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Secondary radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
次级辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Selectivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
选择性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Semi-conductor detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
半导体探测器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sensitirity  va1ue f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
灵敏度值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sensitivity  of  leak test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
泄漏检测灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sensitivity control f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
灵敏度控制 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Shear  wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
切变波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Shear wave probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
横波探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Shear wave technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
横波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Shim f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
薄垫片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Shot f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
冲击通电 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Side lobe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
副瓣 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Side wall f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
侧面 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sievert(Sv) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
希(沃特) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Signal f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
信号 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Signal gradient f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
信号梯度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Signal over load point f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
信号过载点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Signal overload level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
信号过载电平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Signal to noise ratio f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
信噪比 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Single crystal probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
单晶片探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Single probe technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
单探头法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Single traverse technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
一次波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sizing technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
定量法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Skin depth f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
集肤深度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Skin effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
集肤效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Skip distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
跨距 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Skip point f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
跨距点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sky shine(air scatter) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
空中散射效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sniffing  probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
嗅吸探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Soft X-rays f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
软X射线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Soft-faced probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
软膜探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Solarization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
负感作用 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Solenoid f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
螺线管 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Soluble developer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
可溶显像剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Solvent  remover f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
溶剂去除剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Solvent cleaners f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
溶剂清除剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Solvent developer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
溶剂显像剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Solvent remover f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
溶剂洗净剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Solvent-removal penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
溶剂去除型渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sorption f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
吸着 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound diffraction f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声绕射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound insulating layer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
隔声层 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound intensity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声强 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound intensity level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声强级 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound pressure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声压 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound scattering f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声散射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound transparent layer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透声层 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sound velocity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声速 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Source f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Source data label f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
放射源数据标签 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Source location f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
源定位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Source size f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
源尺寸 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Source-film distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线源-胶片距离 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Spacial  frequency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
空间频率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Spark  coil  leak  detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电火花线圈检漏仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Specific activity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
放射性比度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Specified sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
规定灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Standard f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标准 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Standard f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标准试样 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Standard   leak  rate f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标准泄漏率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Standard leak f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标准泄漏孔 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Standard tast block f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
标准试块 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Standardization  instrument f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
设备标准化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Standing wave; stationary wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
驻波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Step  wedge f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阶梯楔块 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Step- wadge  calibration  film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阶梯楔块校准底片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Step- wadge  comparison  film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阶梯楔块比较底片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Step wedge f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阶梯楔块 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Step-wedge calibration film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阶梯-楔块校准片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Step-wedge comparison film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阶梯-楔块比较片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Stereo-radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
立体射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Subject contrast f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
被检体对比度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Subsurface  discontinuity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
近表面不连续性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Suppression f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
抑制 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surface echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
表面回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surface field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
表面磁场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surface noise f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
表面噪声 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surface wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
表面波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surface wave probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
表面波探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surface wave technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
表面波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surge  magnetization f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
脉动磁化 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Surplus sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
灵敏度余量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Suspension f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁悬液 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sweep f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫描 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sweep range f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫描范围 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Sweep speed f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫描速度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Swept  gain f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
扫描增益 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Swivel scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
环绕扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
System  exanlillatien  threshold f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
系统检验阈值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
System  inclacel  artifacts f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
系统感生物 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
System  noise f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
系统噪声 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tackground,  target f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
目标本底 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tandem scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
串列扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Target f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Target f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Television fluoroscopy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电视X射线荧光检查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Temperature  envelope f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
温度范围 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tenth-value-layer(TVL) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
十分之一值层 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test  coil f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检测线圈 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test quality  level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检测质量水平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test ring f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
试环 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test block f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
试块 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test frequency f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
试验频率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test piece f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
试片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test range f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探测范围 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Test surface f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探测面 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Testing,ulrasonic f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thermal  neutrons f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
热中子 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thermocouple gage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
热电偶计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thermogram f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
热谱图 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thermography,  infrared f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
红外热成象 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thermoluminescent dosemeter(TLD) f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
热释光剂量计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thickness sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
厚度灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Third critiical angle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
第三临界角 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thixotropic penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
摇溶渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Thormal  resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
热分辨率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Threading bar f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
穿棒 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Three  way  sort f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
三档分选 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Threshold  setting f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
门限设置 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Threshold fog f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阈值灰雾 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Threshold level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阀值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Threshotd  tcnet f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
门限电平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Throttling f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
节流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Through  transmission  technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
穿透技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Through penetration technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
贯穿渗透法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Through transmission technique; transmission technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
穿透法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Through-coil  technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
穿过式线圈技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Throughput f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
通气量 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tight f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
密封 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Total reflection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
全反射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Totel  image  unsharpness f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
总的图像不清晰度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tracer  probe  leak  location f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
示踪探头泄漏定位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tracer gas f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
示踪气体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transducer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
换能器/传感器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transition flow f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
过渡流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Translucent  base  media f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
半透明载体介质 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmission f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmission  densitomefer f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
发射密度计 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmission coefficient f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透射系数 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmission point f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透射点 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmission technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透射技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmittance,τ f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
透射率τ f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmitted  film  density f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
检测底片黑度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transmitted pulse f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
发射脉冲 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transverse resolution f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
横向分辨率 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Transverse wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
横波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Traveling echo f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
游动回波 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Travering scan; depth scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
前后扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Triangular array f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
正三角形阵列 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Trigger/alarm condition f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
触发/报警状态 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Trigger/alarm level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
触发/报警标准 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Triple traverse technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
三次波法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
True  continuous  technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
准确连续法技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Trueattenuation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
真实衰减 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tube current f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
管电流 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tube head f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
管头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tube shield f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
管罩 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tube shutter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
管子光闸 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tube window f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
管窗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Tube-shift radiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
管子移位射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Two-way  sort f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
两档分选 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultra- high  vacuum f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超高真空 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic  leak  detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声波检漏仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic  noise  level f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声噪声电平 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic cleaning f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声波清洗 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic field f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声场 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic flaw detection f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声探伤 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic flaw detector f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声探伤仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic microscope f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声显微镜 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic spectroscopy f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声频谱 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic testing system f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声检测系统 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultrasonic thickness gauge f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
超声测厚仪 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Ultraviolet radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
紫外辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Under development f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
显影不足 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Unsharpness f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
不清晰 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Useful density range f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
有效光学密度范围 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
UV-A f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
A类紫外辐射 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
UV-A filter f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
A类紫外辐射滤片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vacuum f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
真空 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vacuum  cassette f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
真空暗盒 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vacuum  testing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
真空检测 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vacuum cassette f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
真空暗合 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Van de Graaff generator f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
范德格喇夫起电机 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vapor  pressure f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
蒸汽压 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vapour degreasing f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
蒸汽除油 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
variable angle probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
可变角探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vee  path f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
V型行程 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vehicle f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
载体 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vertical linearity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
垂直线性 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vertical location f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
垂直定位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Visible light f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
可见光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Vitua limage f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
虚假图像 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Voltage  threshold f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
电压阈值 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Voltage threshold f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
阈值电压 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wash station f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水洗工位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Water  break  test f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水膜破坏试验 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Water column coupling method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水柱耦合法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Water column probe f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水柱耦合探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Water path; water distance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水程 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Water tolerance f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
水容限 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Water-washable penetrant f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
可水洗型渗透剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wave f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wave  guide  acoustic  emission f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
声发射波导杆 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wave  train f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波列 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wave from f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波形 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wave front f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波前 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wave length f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波长 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wave node f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波节 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wave train f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
波列 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wedge f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
斜楔 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wet  slurry  technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
湿软磁膏技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wet  technique f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
湿法技术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wet method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
湿粉法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wetting  action f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
润湿作用 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wetting action f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
润湿作用 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wetting agents f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
润湿剂 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wheel type probe; wheel search unit f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
轮式探头 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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White  light f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
白光 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
White X-rays f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
连续X射线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wobble f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
摆动 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Wobble effect f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
抖动效应 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Working sensitivity f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
探伤灵敏度 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Wrap  around f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
残响波干扰 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Xeroradiography f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
静电射线透照术 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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X-radiation f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X射线 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X-ray controller f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X射线控制器 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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X-ray detection apparatus f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X射线探伤装置 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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X-ray film f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
射线胶片 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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X-ray paper f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X射线感光纸 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X-ray tube f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X射线管 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X-ray tube diaphragm f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
X射线管光阑 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Yoke f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁轭 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Yoke magnetization method f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
磁轭磁化法 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Zigzag scan f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
锯齿扫查 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
Zone calibration location f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
时差区域校准定位 f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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Zone location f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
区域定位f<€ºjÂúWbbs.3c3t.comzŒ´ú‘è¥ô´±
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