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meixinjiance
- 技术员
- 26
- 78
- 2015-03-11
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发表于 2015-03-16 10:47
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表面异物分析目的：?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº当材料及零部件表面出现未知物质，不能确定其成分及来源时，可以通过对异物进行微观形貌观察和成分分析进行判断。?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº分析方法：?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº根据样品实际情况，以下分析方法可供选用。?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº仪器名称?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 信号检测?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 元素测定?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 检测限?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 深度分辨率?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 适用范围?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 扫描电子显微镜（SEM）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 二次及背向散射电子&X射线?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| B-U (EDS mode)?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.1 - 1 at%?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.5 - 3 µm (EDS)?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 高辨析率成像?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
元素微观分析及颗粒特征化描述?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| X射线能谱仪（EDS）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 二次背向散射电子&X射线?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| B-U?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.1 – 1 at%?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.5 – 3 μm?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 小面积上的成像与元素组成；缺陷处元素的识别/绘图；颗粒分析（>300nm）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 显微红外显微镜（FTIR）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 红外线吸收?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 分子群?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.1 - 1 wt%?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.1 - 2.5 µm?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体（材料识别）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 （Si-H vs. N-H）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
污染物分析（析取、除过气的产品，残余物）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 拉曼光谱（Raman）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 拉曼散射?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 化学及分子键联资料?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| >=1 wt%?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 共焦模式?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
1到5 µm?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
拉曼，碳层特征 （石墨、金刚石 ）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
非共价键联压焊(复合体、金属键联)?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
定位(随机v. 有组织的结构)?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 俄歇电子能谱仪（AES）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 来自表面附近的Auger电子?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| Li-U?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.1-1%亚单层?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 缺陷分析；颗粒分析；表面分析；小面积深度剖面；薄膜成分分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| X射线光电子能谱仪（XPS）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 来自表面原子附近的光电子?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| Li-U化学键联信息?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 0.01 - 1 at% sub-monolayer?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 20 - 200 Å（剖析模式）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
10 - 100 Å (表面分析）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
测量表面成分及化学状态信息?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
薄膜成份的深度剖面?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
硅 氧氮化物厚度和测量剂量?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
薄膜氧化物厚度测量（SiO2, Al2O3 等.）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 分子和元素种类?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 整个周期表，加分子种类?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayer?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 1 - 3 monolayers (Static mode)?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 有机材料和无机材料的表面微量分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
来自表面的大量光谱?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
表面离子成像?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
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| 塑料断口红色颗粒物分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº ?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 塑料表面白色粉末成分分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº ?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
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| 连接端子pin针表面异物分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº ?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
| 金手指端部表面异物分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº ?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
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| 镀金管脚表面异物分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº ?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
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| PCB表面异物成分分析?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº ?rëók, { bbs.3c3t.comíÿc ùxaº
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