仪器名称àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 信号检测àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 元素测定àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 检测限àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 深度分辨率àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 适用范围àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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扫描电子显微镜（SEM）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 二次及背向散射电子&X射线àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| B-U (EDS mode)àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.1 - 1 at%àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.5 - 3 µm (EDS)àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 高辨析率成像àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
元素微观分析及颗粒特征化描述àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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X射线能谱仪（EDS）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 二次背向散射电子&X射线àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| B-Uàëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.1 – 1 at%àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.5 – 3 μmàëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 小面积上的成像与元素组成；缺陷处元素的识别/绘图；颗粒分析（>300nm）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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显微红外显微镜（FTIR）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 红外线吸收àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 分子群àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.1 - 1 wt%àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.1 - 2.5 µmàëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体（材料识别）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 （Si-H vs. N-H）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
污染物分析（析取、除过气的产品，残余物）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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拉曼光谱（Raman）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 拉曼散射àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 化学及分子键联资料àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| >=1 wt%àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 共焦模式àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
1到5 µmàëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
拉曼，碳层特征 （石墨、金刚石 ）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
非共价键联压焊(复合体、金属键联)àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
定位(随机v. 有组织的结构)àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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俄歇电子能谱仪（AES）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 来自表面附近的Auger电子àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| Li-Uàëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.1-1%亚单层àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 缺陷分析；颗粒分析；表面分析；小面积深度剖面；薄膜成分分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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X射线光电子能谱仪（XPS）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 来自表面原子附近的光电子àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| Li-U化学键联信息àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 0.01 - 1 at% sub-monolayeràëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 20 - 200 Å（剖析模式）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
10 - 100 Å (表面分析）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
测量表面成分及化学状态信息àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
薄膜成份的深度剖面àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
硅 氧氮化物厚度和测量剂量àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
薄膜氧化物厚度测量（SiO2, Al2O3 等.）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 分子和元素种类àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 整个周期表，加分子种类àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayeràëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 1 - 3 monolayers (Static mode)àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 有机材料和无机材料的表面微量分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
来自表面的大量光谱àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
表面离子成像àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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塑料断口红色颗粒物分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 塑料表面白色粉末成分分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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连接端子pin针表面异物分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
| 金手指端部表面异物分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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镀金管脚表面异物分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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PCB表面异物成分分析àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ àëè¯WpÑW[bbs.3c3t.comÍ÷^0û©ÿ
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