仪器名称7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 信号检测7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 元素测定7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 检测限7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 深度分辨率7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 适用范围7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
扫描电子显微镜(SEM)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 二次及背向散射电子&X射线7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| B-U (EDS mode)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.1 - 1 at%7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.5 - 3 µm (EDS)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 高辨析率成像7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 元素微观分析及颗粒特征化描述7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
X射线能谱仪(EDS)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 二次背向散射电子&X射线7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| B-U7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.1 – 1 at%7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.5 – 3 μm7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 小面积上的成像与元素组成;缺陷处元素的识别/绘图;颗粒分析(>300nm)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
显微红外显微镜(FTIR)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 红外线吸收7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 分子群7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.1 - 1 wt%7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.1 - 2.5 µm7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体(材料识别)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 (Si-H vs. N-H)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 污染物分析(析取、除过气的产品,残余物)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
拉曼光谱(Raman)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 拉曼散射7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 化学及分子键联资料7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| >=1 wt%7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 共焦模式7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 1到5 µm7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 拉曼,碳层特征 (石墨、金刚石 )7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 非共价键联压焊(复合体、金属键联)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 定位(随机v. 有组织的结构)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
俄歇电子能谱仪(AES)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 来自表面附近的Auger电子7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| Li-U7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.1-1%亚单层7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 缺陷分析;颗粒分析;表面分析;小面积深度剖面;薄膜成分分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
X射线光电子能谱仪(XPS)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 来自表面原子附近的光电子7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| Li-U化学键联信息7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 0.01 - 1 at% sub-monolayer7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 20 - 200 Å(剖析模式)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 10 - 100 Å (表面分析)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 测量表面成分及化学状态信息7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 薄膜成份的深度剖面7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 硅 氧氮化物厚度和测量剂量7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 薄膜氧化物厚度测量(SiO2, Al2O3 等.)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 分子和元素种类7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 整个周期表,加分子种类7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayer7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 1 - 3 monolayers (Static mode)7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 有机材料和无机材料的表面微量分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 来自表面的大量光谱7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 表面离子成像7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
塑料断口红色颗粒物分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 塑料表面白色粉末成分分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
连接端子pin针表面异物分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 金手指端部表面异物分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
镀金管脚表面异物分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
| 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|
PCB表面异物成分分析7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7 7¡Qi÷dû1¦¸bbs.3c3t.comè8(ø²E7
|