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[报告] 表面异物分析 [复制链接]

meixinjiance
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  • 2015-03-11
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发表于 2015-03-16 10:47 |只看楼主
表面异物分析目的：(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
当材料及零部件表面出现未知物质，不能确定其成分及来源时，可以通过对异物进行微观形貌观察和成分分析进行判断。(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
分析方法：(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
根据样品实际情况，以下分析方法可供选用。(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
仪器名称(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
信号检测(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
元素测定(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
检测限(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
深度分辨率(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
适用范围(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
扫描电子显微镜（SEM）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
二次及背向散射电子&X射线(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
B-U (EDS mode)(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.1 - 1 at%(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.5 - 3 µm (EDS)(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
高辨析率成像(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
元素微观分析及颗粒特征化描述(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
X射线能谱仪（EDS）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
二次背向散射电子&X射线(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
B-U(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.1 – 1 at%(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.5 – 3 μm(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
小面积上的成像与元素组成；缺陷处元素的识别/绘图；颗粒分析（>300nm）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
显微红外显微镜（FTIR）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
红外线吸收(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
分子群(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.1 - 1 wt%(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.1 - 2.5 µm(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
污染物分析中识别有机化合物的分子结构(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体（材料识别）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 （Si-H vs. N-H）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
污染物分析（析取、除过气的产品，残余物）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
拉曼光谱（Raman）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
拉曼散射(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
化学及分子键联资料(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
>=1 wt%(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
共焦模式(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
1到5 µm(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
拉曼，碳层特征 （石墨、金刚石 ）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
非共价键联压焊(复合体、金属键联)(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
定位(随机v. 有组织的结构)(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
俄歇电子能谱仪（AES）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
来自表面附近的Auger电子(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
Li-U(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.1-1%亚单层(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
20 – 200 Ǻ侧面分布模式(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
缺陷分析；颗粒分析；表面分析；小面积深度剖面；薄膜成分分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
X射线光电子能谱仪（XPS）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
来自表面原子附近的光电子(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
Li-U化学键联信息(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
0.01 - 1 at% sub-monolayer(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
20 - 200 Å（剖析模式）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
10 - 100 Å (表面分析）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
测量表面成分及化学状态信息(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
薄膜成份的深度剖面(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
硅 氧氮化物厚度和测量剂量(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
薄膜氧化物厚度测量（SiO2, Al2O3 等.）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
分子和元素种类(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
整个周期表，加分子种类(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
107 - 1010at/cm2 sub-monolayer(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
1 - 3 monolayers (Static mode)(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
有机材料和无机材料的表面微量分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
来自表面的大量光谱(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
表面离子成像(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
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部分案例图片：(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
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塑料断口红色颗粒物分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr

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塑料表面白色粉末成分分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr

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连接端子pin针表面异物分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr

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金手指端部表面异物分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr

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镀金管脚表面异物分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr

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PCB表面异物成分分析(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr

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发表于 2015-03-16 11:28 |只看该用户

快来看看了(rJF íŒƧbbs.3c3t.comDxd{ÖtŒõr
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发表于 2015-03-17 17:12 |只看楼主

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