仪器名称(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 信号检测(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 元素测定(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 检测限(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 深度分辨率(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 适用范围(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
扫描电子显微镜(SEM)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 二次及背向散射电子&X射线(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| B-U (EDS mode)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.1 - 1 at%(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.5 - 3 µm (EDS)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 高辨析率成像(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 元素微观分析及颗粒特征化描述(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
X射线能谱仪(EDS)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 二次背向散射电子&X射线(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| B-U(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.1 – 1 at%(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.5 – 3 μm(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 小面积上的成像与元素组成;缺陷处元素的识别/绘图;颗粒分析(>300nm)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
显微红外显微镜(FTIR)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 红外线吸收(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 分子群(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.1 - 1 wt%(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.1 - 2.5 µm(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体(材料识别)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 (Si-H vs. N-H)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 污染物分析(析取、除过气的产品,残余物)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
拉曼光谱(Raman)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 拉曼散射(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 化学及分子键联资料(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| >=1 wt%(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 共焦模式(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 1到5 µm(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 拉曼,碳层特征 (石墨、金刚石 )(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 非共价键联压焊(复合体、金属键联)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 定位(随机v. 有组织的结构)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
俄歇电子能谱仪(AES)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 来自表面附近的Auger电子(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| Li-U(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.1-1%亚单层(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 缺陷分析;颗粒分析;表面分析;小面积深度剖面;薄膜成分分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
X射线光电子能谱仪(XPS)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 来自表面原子附近的光电子(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| Li-U化学键联信息(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 0.01 - 1 at% sub-monolayer(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 20 - 200 Å(剖析模式)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 10 - 100 Å (表面分析)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 测量表面成分及化学状态信息(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 薄膜成份的深度剖面(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 硅 氧氮化物厚度和测量剂量(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 薄膜氧化物厚度测量(SiO2, Al2O3 等.)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 分子和元素种类(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 整个周期表,加分子种类(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayer(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 1 - 3 monolayers (Static mode)(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 有机材料和无机材料的表面微量分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 来自表面的大量光谱(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr 表面离子成像(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
塑料断口红色颗粒物分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 塑料表面白色粉末成分分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
连接端子pin针表面异物分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| 金手指端部表面异物分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
镀金管脚表面异物分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
| (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|
PCB表面异物成分分析(rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr (rJFíÆ§bbs.3c3t.comDxd{Ötõr
|