仪器名称º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 信号检测º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 元素测定º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 检测限º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 深度分辨率º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 适用范围º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
扫描电子显微镜（SEM）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 二次及背向散射电子&X射线º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| B-U (EDS mode)º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.1 - 1 at%º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.5 - 3 µm (EDS)º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 高辨析率成像º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
元素微观分析及颗粒特征化描述º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
X射线能谱仪（EDS）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 二次背向散射电子&X射线º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| B-Uº»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.1 – 1 at%º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.5 – 3 μmº»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 小面积上的成像与元素组成；缺陷处元素的识别/绘图；颗粒分析（>300nm）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
显微红外显微镜（FTIR）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 红外线吸收º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 分子群º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.1 - 1 wt%º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.1 - 2.5 µmº»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体（材料识别）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 （Si-H vs. N-H）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
污染物分析（析取、除过气的产品，残余物）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
拉曼光谱（Raman）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 拉曼散射º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 化学及分子键联资料º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| >=1 wt%º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 共焦模式º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
1到5 µmº»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
拉曼，碳层特征 （石墨、金刚石 ）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
非共价键联压焊(复合体、金属键联)º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
定位(随机v. 有组织的结构)º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
俄歇电子能谱仪（AES）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 来自表面附近的Auger电子º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| Li-Uº»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.1-1%亚单层º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 缺陷分析；颗粒分析；表面分析；小面积深度剖面；薄膜成分分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
X射线光电子能谱仪（XPS）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 来自表面原子附近的光电子º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| Li-U化学键联信息º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 0.01 - 1 at% sub-monolayerº»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 20 - 200 Å（剖析模式）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
10 - 100 Å (表面分析）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
测量表面成分及化学状态信息º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
薄膜成份的深度剖面º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
硅 氧氮化物厚度和测量剂量º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
薄膜氧化物厚度测量（SiO2, Al2O3 等.）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 分子和元素种类º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 整个周期表，加分子种类º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayerº»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 1 - 3 monolayers (Static mode)º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 有机材料和无机材料的表面微量分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
来自表面的大量光谱º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
表面离子成像º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
 º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|  º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
塑料断口红色颗粒物分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{ º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 塑料表面白色粉末成分分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{ º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
 º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|  º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
连接端子pin针表面异物分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{ º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
| 金手指端部表面异物分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{ º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
 º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|  º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
镀金管脚表面异物分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{ º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
 º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|  º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
PCB表面异物成分分析º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{ º»ïªLðJæbbs.3c3t.com.²'{
|
%20(2)_1.gif)
