英 文 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
中 文 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
A.C magnetic saturation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
交流磁饱和 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Absorbed dose äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
吸收剂量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Absorbed dose rate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
吸收剂量率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acceptanc limits äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
验收范围 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acceptance level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
验收水平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acceptance standard äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
验收标准 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Accumulation test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
累积检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic emission count(emission count) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声发射计数(发射计数) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic emission transducer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声发射换能器(声发射传感器) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic emission(AE) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声发射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic holography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声全息术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic impedance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声阻抗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic impedance matching äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声阻抗匹配 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic impedance method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声阻法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustical lens äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声透镜 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Acoustic—ultrasonic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声-超声(AU) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Activation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
活化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Activity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
活度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Adequate shielding äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
安全屏蔽 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ampere turns äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
安匝数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Amplitude äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
幅度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Angle beam method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
斜射法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Angle of incidence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
入射角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Angle of reflection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
反射角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Angle of spread äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
指向角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Angle of squint äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
偏向角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Angle probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
斜探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Angstrom unit äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
埃(A) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Area amplitude response curve äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
面积幅度曲线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Area of interest äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
评定区 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Arliflcial disconlinuity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
人工不连续性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Artifact äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
假缺陷 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Artificial defect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
人工缺陷 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Artificial discontinuity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标准人工缺陷 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
A-scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
A型扫描 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
A-scope; A-scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
A型显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Attenuation coefficient äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
衰减系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Attenuator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
衰减器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Audible leak indicator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
音响泄漏指示器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Automatic testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
自动检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Autoradiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
自射线照片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Avaluation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
评定 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Barium concrete äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
钡混凝土 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Barn äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
靶 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Base fog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
片基灰雾 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bath äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
槽液 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bayard- Alpert ionization gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
B- A型电离计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声束 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam ratio äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
光束比 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
束张角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam axis äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声束轴线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam index äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声束入射点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam path location äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声程定位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam path; path length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声程 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Beam spread äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声束扩散 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Betatron äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子感应加速器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bimetallic strip gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双金属片计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bipolar field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双极磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Black light filter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
黑光滤波器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Black light; ultraviolet radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
黑光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Blackbody äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
黑体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Blackbody equivalent temperature äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
黑体等效温度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bleakney mass spectrometer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波利克尼质谱仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bleedout äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗出 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bottom echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
底面回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bottom surface äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
底面 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Boundary echo(first) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
边界一次回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Bremsstrahlung äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
轫致辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Broad-beam condition äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
宽射束 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Brush application äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
刷涂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
B-scan presenfation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
B型扫描显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
B-scope; B-scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
B型显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
C- scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
C型扫描 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Calibration,instrument äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
设备校准 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Capillary action äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
毛细管作用 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Carrier fluid äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
载液 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Carry over of penetrate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗透剂移转 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cassette äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
暗合 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cathode äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阴极 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Central conductor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
中心导体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Central conductor method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
中心导体法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Characteristic curve äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
特性曲线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Characteristic curve of film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片特性曲线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Characteristic radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
特征辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Chemical fog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
化学灰雾 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cine-radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线(活动)电影摄影术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cintact pads äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
接触垫 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Circumferential coils äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
圆环线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Circumferential field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
周向磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Circumferential magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
周向磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Clean äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
清理 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Clean- up äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
清除 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Clearing time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定透时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coercive force äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
矫顽力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coherence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相干性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coherence length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相干长度(谐波列长度) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coi1,test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
测试线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coil size äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线圈大小 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coil spacing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线圈间距 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coil technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线圈技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coil method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线圈法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coilreference äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线圈参考 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coincidence discrimination äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
符合鉴别 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cold-cathode ionization gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
冷阴极电离计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Collimator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
准直器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Collimation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
准直 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Collimator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
准直器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Combined colour comtrast and fluorescent penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
着色荧光渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Compressed air drying äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压缩空气干燥 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Compressional wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压缩波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Compton scatter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
康普顿散射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Continuous emission äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
连续发射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Continuous linear array äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
连续线阵 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Continuous method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
连续法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Continuous spectrum äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
连续谱 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Continuous wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
连续波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Contract stretch äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
对比度宽限 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Contrast äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
对比度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Contrast agent äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
对比剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Contrast aid äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
反差剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Contrast sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
对比灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Control echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
监视回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Control echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
参考回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Couplant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
耦合剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coupling äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
耦合 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Coupling losses äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
耦合损失 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cracking äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
裂解 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Creeping wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
爬波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Critical angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
临界角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cross section äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
横截面 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cross talk äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
串音 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cross-drilled hole äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
横孔 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Crystal äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
晶片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
C-scope; C-scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
C型显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Curie point äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
居里点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Curie temperature äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
居里温度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Curie(Ci) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
居里 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Current flow method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
通电法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Current induction method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电流感应法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Current magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电流磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Cut-off level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
截止电平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dead zone äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
盲区 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Decay curve äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
衰变曲线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Decibel(dB) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
分贝 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Defect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Defect resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷分辨力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Defect detection sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷检出灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Defect resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷分辨力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Definition äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Definition, image definition äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
清晰度,图像清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Demagnetization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
退磁 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Demagnetization factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
退磁因子 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Demagnetizer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
退磁装置 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Densitometer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
黑度计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Density äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
黑度(底片) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Density comparison strip äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
黑度比较片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Detecting medium äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检验介质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Detergent remover äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
洗净液 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Developer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
显像剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Developer station äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
显像工位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Developer, agueons äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水性显象剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Developer, dry äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干显象剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Developer, liquid film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
液膜显象剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Developer, nonaqueous (sus- pendible) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
非水(可悬浮)显象剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Developing time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
显像时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Development äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
显影 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Diffraction mottle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
衍射斑 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Diffuse indications äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
松散指示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Diffusion äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扩散 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Digital image acquisition system äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
数字图像识别系统 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dilatational wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
膨胀波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dip and drain station äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
浸渍和流滴工位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Direct contact magnetization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
直接接触磁化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Direct exposure imaging äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
直接曝光成像 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Direct contact method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
直接接触法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Directivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
指向性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Discontinuity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
不连续性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Distance- gain- size-German AVG äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
距离- 增益- 尺寸(DGS德文为AVG) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Distance marker; time marker äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
距离刻度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dose equivalent äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
剂量当量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dose rate meter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
剂量率计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dosemeter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
剂量计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Double crystal probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双晶片探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Double probe technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双探头法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Double transceiver technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双发双收法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Double traverse technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
二次波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dragout äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
带出 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Drain time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
滴落时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Drain time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
流滴时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Drift äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
漂移 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dry method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dry powder äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干粉 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dry technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干粉技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dry developer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干显像剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dry developing cabinet äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干显像柜 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dry method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干粉法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Drying oven äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干燥箱 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Drying station äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干燥工位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Drying time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干燥时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
D-scope; D-scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
D型显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dual search unit äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dual-focus tube äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双焦点管 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Duplex-wire image quality indicator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
双线像质指示器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Duration äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
持续时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dwell time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
停留时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dye penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
着色渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dynamic leak test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
动态泄漏检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dynamic leakage measurement äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
动态泄漏测量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dynamic range äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
动态范围 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Dynamic radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
动态射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Echo frequency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
回波频率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Echo height äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
回波高度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Echo indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
回波指示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Echo transmittance of sound pressure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
往复透过率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Echo width äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
回波宽度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Eddy current äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
涡流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Eddy current flaw detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
涡流探伤仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Eddy current testiog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
涡流检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Edge äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
端面 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Edge effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
边缘效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Edge echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
棱边回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Edge effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
边缘效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Effective depth penetration (EDP) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
有效穿透深度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Effective focus size äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
有效焦点尺寸 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Effective magnetic permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
有效磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Effective permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
有效磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Effective reflection surface of flaw äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷有效反射面 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Effective resistance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
有效电阻 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Elastic medium äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
弹性介质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electric displacement äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电位移 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electrical center äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电中心 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electrode äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电极 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electromagnet äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电磁铁 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electro-magnetic acoustic transducer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电磁声换能器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electromagnetic induction äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电磁感应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electromagnetic radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电磁辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electromagnetic testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电磁检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electro-mechanical coupling factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
机电耦合系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electron radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子辐射照相术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electron volt äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子伏恃 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electronic noise äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子噪声 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Electrostatic spraying äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
静电喷涂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Emulsification äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
乳化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Emulsification time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
乳化时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Emulsifier äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
乳化剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Encircling coils äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
环绕式线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
End effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
端部效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Energizing cycle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
激励周期 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Equalizing filter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
均衡滤波器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Equivalent äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
当量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Equivalent I.Q. I. Sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
象质指示器当量灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Equivalent nitrogen pressure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
等效氮压 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Equivalent penetrameter sensifivty äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透度计当量灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Equivalent method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
当量法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Erasabl optical medium äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
可探光学介质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Etching äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
浸蚀 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Evaluation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
评定 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Evaluation threshold äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
评价阈值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Event count äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
事件计数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Event count rate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
事件计数率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Examination area äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检测范围 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Examination region äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检验区域 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Exhaust pressure/discharge pressure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
排气压力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Exhaust tubulation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
排气管道 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Expanded time-base sweep äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
时基线展宽 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Exposure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
曝光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Exposure table äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
曝光表格 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Exposure chart äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
曝光曲线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Exposure fog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
曝光灰雾 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Exposure,radiographic exposure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
曝光,射线照相曝光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Extended source äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扩展源 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Facility scattered neutrons äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
条件散射中子 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
False indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
假指示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Family äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
族 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Far field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
远场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Feed-through coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
穿过式线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Field, resultant magnetic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
复合磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fill factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
填充系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film speed äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片速度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film badge äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片襟章剂量计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film base äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
片基 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film contrast äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片对比度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film gamma äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片γ值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film processing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片冲洗加工 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film speed äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片感光度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film unsharpness äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片不清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Film viewing screen äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
观察屏 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Filter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
滤波器/滤光板 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Final test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
复探 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flat-bottomed hole äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
平底孔 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flat-bottomed hole equivalent äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
平底孔当量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flaw äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
伤 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flaw characterization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
伤特性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flaw echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flexural wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
弯曲波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Floating threshold äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
浮动阀值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescent examination method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光检验法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescent magnetic particle inspection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光磁粉检验 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescent dry deposit penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干沉积荧光渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescent light äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescent magnetic powder äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光磁粉 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescent penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluorescent screen äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光屏 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fluoroscopy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光检查法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flux leakage field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁通泄漏场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Flux lines äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁通线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focal spot äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
焦点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focal distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
焦距 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focus length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
焦点长度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focus size äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
焦点尺寸 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focus width äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
焦点宽度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focus(electron) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子焦点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focused beam äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
聚焦声束 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focusing probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
聚焦探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Focus-to-film distance(f.f.d) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
焦点-胶片距离(焦距) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
底片灰雾 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fog density äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
灰雾密度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Footcandle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
英尺烛光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Freguency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
频率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Frequency constant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
频率常数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fringe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干涉带 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Front distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
前沿距离 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Front distance of flaw äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷前沿距离 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Full- wave direct current(FWDC) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
全波直流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Fundamental frequency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
基频 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Furring äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
毛状迹痕 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gage pressure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
表压 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gain äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
增益 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gamma radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
γ射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gamma ray source äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
γ射线源 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gamma ray source container äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
γ射线源容器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gamma rays äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
γ射线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gamma-ray radiographic equipment äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
γ射线透照装置 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gap scanning äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
间隙扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gas äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
气体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
闸门 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gating technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
选通技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gauss äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
高斯 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Geiger-Muller counter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
盖革.弥勒计数器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Geometric unsharpness äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
几何不清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Gray(Gy) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
戈瑞 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Grazing incidence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
掠入射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Grazing angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
掠射角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Group velocity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
群速度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Half life äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
半衰期 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Half- wave current (HW) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
半波电流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Half-value layer(HVL) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
半值层 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Half-value method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
半波高度法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Halogen äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
卤素 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Halogen leak detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
卤素检漏仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hard X-rays äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
硬X射线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hard-faced probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
硬膜探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Harmonic analysis äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
谐波分析 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Harmonic distortion äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
谐波畸变 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Harmonics äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
谐频 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Head wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
头波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Helium bombing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
氦轰击法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Helium drift äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
氦漂移 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Helium leak detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
氦检漏仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hermetically tight seal äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
气密密封 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
High vacuum äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
高真空 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
High energy X-rays äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
高能X射线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Holography (optical) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
光全息照相 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Holography, acoustic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声全息 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hydrophilic emulsifier äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
亲水性乳化剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hydrophilic remover äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
亲水性洗净剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hydrostatic text äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
流体静力检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hysteresis äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁滞 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Hysteresis äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁滞 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
IACS äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
IACS äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
ID coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
ID线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Image definition äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
图像清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Image contrast äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
图像对比度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Image enhancement äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
图像增强 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Image magnification äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
图像放大 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Image quality äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
图像质量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Image quality indicator sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
像质指示器灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Image quality indicator(IQI)/image quality indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
像质指示器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Imaging line scanner äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
图像线扫描器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Immersion probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
液浸探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Immersion rinse äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
浸没清洗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Immersion testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
液浸法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Immersion time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
浸没时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Impedance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阻抗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Impedance plane diagram äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阻抗平面图 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Imperfection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
不完整性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Impulse eddy current testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲涡流检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Incremental permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
增量磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Indicated defect area äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷指示面积 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Indicated defect length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
缺陷指示长度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
指示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Indirect exposure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
间接曝光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Indirect magnetization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
间接磁化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Indirect magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
间接磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Indirect scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
间接扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Induced field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
感应磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Induced current method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
感应电流法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Infrared imaging system äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
红外成象系统 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Infrared sensing device äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
红外扫描器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inherent fluorescence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
固有荧光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inherent filtration äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
固有滤波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Initial permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
起始磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Initial pulse äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
始脉冲 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Initial pulse width äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
始波宽度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inserted coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
插入式线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inside coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
内部线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inside- out testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
外泄检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inspection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inspection medium äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检查介质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Inspection frequency/ test frequency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检测频率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Intensifying factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
增感系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Intensifying screen äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
增感屏 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Interal,arrival time (Δtij)/arrival time interval(Δtij) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
到达时间差(Δtij) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Interface boundary äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
界面 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Interface echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
界面回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Interface trigger äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
界面触发 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Interference äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干涉 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Interpretation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
解释 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ion pump äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
离子泵 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ion source äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
离子源 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ionization chamber äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电离室 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ionization potential äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电离电位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ionization vacuum gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电离真空计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ionography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电离射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Irradiance, E äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
辐射通量密度, E äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Isolation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
隔离检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Isotope äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
同位素 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
K value äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
K值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Kaiser effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
凯塞(Kaiser)效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Kilo volt äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
kv 千伏特 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Kiloelectron volt äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
keV千电子伏特 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Krypton 85 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
氪85 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
L/D ratio äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
L/D比 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lamb wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
兰姆波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Latent image äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
潜象 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lateral scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
左右扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lateral scan with oblique angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
斜平行扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Latitude (of an emulsion) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
胶片宽容度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lead screen äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
铅屏 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Leak äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
泄漏孔 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Leak artifact äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
泄漏器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Leak detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检漏仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Leak testtion äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
泄漏检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Leakage field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
泄漏磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Leakage rate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
泄漏率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Leechs äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁吸盘 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lift-off effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
提离效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Light intensity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
光强度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Limiting resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
极限分辨率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Line scanner äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线扫描器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Line focus äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线焦点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Line pair pattern äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线对检测图 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Line pairs per millimetre äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
每毫米线对数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Linear (electron) accelerator(LINAC) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子直线加速器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Linear attenuation coefficient äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线衰减系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Linear scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Linearity (time or distance) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
线性(时间或距离) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Linearity, anplitude äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
幅度线性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lines of force äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁力线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lipophilic emulsifier äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
亲油性乳化剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lipophilic remover äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
亲油性洗净剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Liquid penetrant examination äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
液体渗透检验 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Liquid film developer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
液膜显像剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Local magnetization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
局部磁化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Local magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
局部磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Local scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
局部扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Localizing cone äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定域喇叭筒 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Location äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Location accuracy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定位精度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Location computed äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定位,计算 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Location marker äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定位标记 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Location upon delta-T äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
时差定位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Location, clusfer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定位,群集 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Location,continuous AE signal äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定位,连续AE信号 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Longitudinal field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
纵向磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Longitudinal magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
纵向磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Longitudinal resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
纵向分辨率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Longitudinal wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
纵波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Longitudinal wave probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
纵波探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Longitudinal wave technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
纵波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Loss of back reflection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
背面反射损失 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Loss of back reflection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
底面反射损失 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Love wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
乐甫波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Low energy gamma radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
低能γ辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Low-enerugy photon radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
低能光子辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Luminance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
亮度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Luminosity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
流明 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Lusec äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
流西克 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Maga or million electron volts äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
MeV兆电子伏特 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic history äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁化史 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic hysteresis äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁性滞后 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic particle field indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁粉磁场指示器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic particle inspection flaw indications äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁粉检验的伤显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic circuit äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁路 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic domain äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁畴 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic field distribution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁场分布 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic field indicator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁场指示器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic field meter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁场计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic field strength äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁场强度(H) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic field/field,magnetic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic flux äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁通 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic flux density äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁通密度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic force äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁化力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic leakage field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
漏磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic leakage flux äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
漏磁通 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic moment äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁矩 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic particle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁粉 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic particle indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁痕 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic particle testing/magnetic particle examination äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁粉检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic pole äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁极 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic saturataion äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁饱和 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic saturation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁饱和 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic slorage meclium äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁储介质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetic writing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁写 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetizing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetizing current äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁化电流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetizing coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁化线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetostrictive effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁致伸缩效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Magnetostrictive transducer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁致伸缩换能器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Main beam äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
主声束 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Manual testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
手动检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Markers äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
时标 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
MA-scope; MA-scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
MA型显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Masking äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
遮蔽 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mass attcnuation coefficient äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
质量吸收系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mass number äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
质量数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mass spectrometer (M.S.) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
质谱仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mass spectrometer leak detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
质谱检漏仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mass spectrum äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
质谱 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Master/slave discrimination äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
主从鉴别 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
MDTD äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
最小可测温度差 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mean free path äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
平均自由程 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Medium vacuum äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
中真空 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mega or million volt äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
MV兆伏特 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Micro focus X - ray tube äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
微焦点X 光管 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Microfocus radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
微焦点射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Micrometre äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
微米 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Micron of mercury äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
微米汞柱 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Microtron äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子回旋加速器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Milliampere äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
毫安(mA) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Millimetre of mercury äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
毫米汞柱 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Minifocus x- ray tube äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
小焦点调射线管 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Minimum detectable leakage rate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
最小可探泄漏率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Minimum resolvable temperature difference (MRTD) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
最小可分辨温度差(MRDT) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mode äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波型 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mode conversion äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波型转换 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Mode transformation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波型转换 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Moderator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
慢化器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Modulation transfer function (MTF) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
调制转换功能(MTF) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Modulation analysis äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
调制分析 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Molecular flow äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
分子流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Molecular leak äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
分子泄漏 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Monitor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
监控器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Monochromatic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
单色波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Movement unsharpness äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
移动不清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Moving beam radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
可动射束射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multiaspect magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多向磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multidirectional magnetization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多向磁化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multifrequency eddy current testiog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多频涡流检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multiple back reflections äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多次背面反射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multiple reflections äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多次反射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multiple back reflections äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多次底面反射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multiple echo method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多次反射法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multiple probe technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多探头法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Multiple triangular array äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
多三角形阵列 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Narrow beam condition äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
窄射束 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
NC äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
NC äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Near field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
近场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Near field length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
近场长度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Near surface defect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
近表面缺陷 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Net density äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
净黑度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Net density äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
净(光学)密度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Neutron äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
中子 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Neutron radiograhy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
中子射线透照 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Neutron radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
中子射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Newton (N) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
牛顿 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nier mass spectrometer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
尼尔质谱仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Noise äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
噪声 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Noise äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
噪声 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Noise equivalent temperature difference (NETD) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
噪声当量温度差(NETD) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nominal angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标称角度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nominal frequency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标称频率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Non-aqueous liquid developer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
非水性液体显像剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Noncondensable gas äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
非冷凝气体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nondcstructivc Examination(NDE) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
无损试验 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nondestructive Evaluation(NDE) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
无损评价 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nondestructive Inspection(NDI) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
无损检验 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nondestructive Testing(NDT) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
无损检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nonerasble optical data äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
可固定光学数据 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nonferromugnetic material äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
非铁磁性材料 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nonrelevant indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
非相关指示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Non-screen-type film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
非增感型胶片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Normal incidence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
垂直入射(亦见直射声束) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Normal permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标准磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Normal beam method; straight beam method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
垂直法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Normal probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
直探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Normalized reactance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
归一化电抗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Normalized resistance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
归一化电阻 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nuclear activity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
核活性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Nuclide äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
核素 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Object plane resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
物体平面分辨率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Object scattered neutrons äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
物体散射中子 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Object beam äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
物体光束 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Object beam angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
物体光束角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Object-film distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
被检体-胶片距离 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Object一film distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
物体- 胶片距离 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Over development äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
显影过度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Over emulsfication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
过乳化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Overall magnetization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
整体磁化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Overload recovery time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
过载恢复时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Overwashing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
过洗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Oxidation fog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
氧化灰雾 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
P äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
P äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pair production äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
偶生成 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pair production äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子对产生 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pair production äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电子偶的产生 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Palladium barrier leak detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
钯屏检漏仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Panoramic exposure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
全景曝光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Parallel scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
平行扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Paramagnetic material äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
顺磁性材料 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Parasitic echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
干扰回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Partial pressure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
分压 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Particle content äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁悬液浓度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Particle velocity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
质点(振动)速度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pascal (Pa) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
帕斯卡(帕) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pascal cubic metres per second äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
帕立方米每秒(Pa·m3/s ) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Path length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
光程长 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Path length difference äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
光程长度差 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pattern äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探伤图形 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Peak current äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
峰值电流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrameter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透度计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrameter sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透度计灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrant comparator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗透对比试块 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrant flaw detection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗透探伤 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrant removal äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗透剂去除 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrant station äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗透工位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetrant, water- washable äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水洗型渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetration äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
穿透深度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Penetration time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
渗透时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Permanent magnet äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
永久磁铁 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Permeability coefficient äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透气系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Permeability,a-c äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
交流磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Permeability,d-c äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
直流磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phantom echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
幻象回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase analysis äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相位分析 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相位角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase controlled circuit breaker äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
断电相位控制器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase detection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相位检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase hologram äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相位全息 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase sensitive detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相敏检波器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase shift äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相位移 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase velocity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相速度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phase-sensitive system äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相敏系统 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phillips ionization gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
菲利浦电离计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Phosphor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光物质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Photo fluorography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光照相术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Photoelectric absorption äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
光电吸收 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Photographic emulsion äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
照相乳剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Photographic fog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
照相灰雾 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Photostimulable luminescence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
光敏发光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Piezoelectric effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压电效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Piezoelectric material äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压电材料 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Piezoelectric stiffness constant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压电劲度常数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Piezoelectric stress constant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压电应力常数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Piezoelectric transducer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压电换能器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Piezoelectric voltage constant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压电电压常数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pirani gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
皮拉尼计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pirani gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
皮拉尼计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pitch and catch technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
一发一收法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pixel äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
象素 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pixel size äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
象素尺寸 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pixel, disply size äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
象素显示尺寸 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Planar array äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
平面阵(列) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Plane wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
平面波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Plate wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
板波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Plate wave technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
板波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Point source äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
点源 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Post emulsification äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
后乳化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Post emulsifiable penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
后乳化渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Post-cleaning äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
后清除 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Post-cleaning äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
后清洗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Powder äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
粉未 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Powder blower äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
喷粉器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Powder blower äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁粉喷* äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pre-cleaning äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
预清理 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pressure difference äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压力差 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pressure dye test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压力着色检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pressure probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压力探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pressure testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压力检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pressure- evacuation test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压力抽空检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pressure mark äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
压痕 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pressure,design äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
设计压力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pre-test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
初探 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Primary coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
一次线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Primary radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
初级辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe gas äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头气体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe backing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头背衬 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
点式线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头式线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe coil clearance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头线圈间隙 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe index äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头入射点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe to weld distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头-焊缝距离 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Probe/ search unit äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Process control radiograph äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
工艺过程控制的射线照相 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Processing capacity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
处理能力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Processing speed äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
处理速度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Prods äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
触头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Projective radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
投影射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Proportioning probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
比例探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Protective material äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
防护材料 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Proton radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
质子射线透照 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse echo method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲回波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse repetition rate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲重复率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse amplitude äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲幅度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse echo method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲反射法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse energy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲能量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse envelope äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲包络 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲长度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse repetition frequency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲重复频率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pulse tuning äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉冲调谐 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pump- out tubulation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
抽气管道 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Pump-down time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
抽气时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Q factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Q值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Quadruple traverse technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
四次波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Quality (of a beam of radiation) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线束的质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Quality factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
品质因数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Quenching äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阻塞 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Quenching of fluorescence äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光的猝灭 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Quick break äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
快速断间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rad(rad) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
拉德 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiance, L äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
面辐射率,L äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiant existence, M äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
幅射照度M äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiant flux; radiant power,ψe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
辐射通量、辐射功率、ψe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiation does äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
辐射剂量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radio frequency (r- f) display äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射频显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radio- frequency mass spectrometer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射频质谱仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radio frequency(r-f) display äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射频显示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiograph äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线底片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic contrast äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线照片对比度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic equivalence factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线照相等效系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic exposure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线照相曝光量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic inspection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic inspection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线照相检验 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic quality äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线照相质量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线照相灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic contrast äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线底片对比度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic equivalence factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线透照等效因子 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic inspection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线透照检查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic quality äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线透照质量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiographic sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线透照灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线照相术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiological examination äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线检验 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiology äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线学 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiometer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
辐射计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radiometry äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
辐射测量术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Radioscopy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线检查法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Range äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
量程 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rayleigh wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
瑞利波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rayleigh scattering äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
瑞利散射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Real image äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
实时图像 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Real-time radioscopy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
实时射线检查法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rearm delay time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
重新准备延时时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rearm delay time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
重新进入工作状态延迟时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reciprocity failure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
倒易律失效 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reciprocity law äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
倒易律 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Recording medium äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
记录介质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Recovery time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
恢复时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rectified alternating current äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉动直流电 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reference block äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
参考试块 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reference beam äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
参考光束 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reference block äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
对比试块 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reference block method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
对比试块法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reference coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
参考线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reference line method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
基准线法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reference standard äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
参考标准 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reflection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
反射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reflection coefficient äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
反射系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reflection density äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
反射密度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reflector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
反射体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Refraction äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
折射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Refractive index äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
折射率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Refrence beam angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
参考光束角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reicnlbation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
网纹 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reject; suppression äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
抑制 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rejection level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
拒收水平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Relative permeability äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相对磁导率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Relevant indication äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
相关指示 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reluctance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁阻 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rem(rem) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
雷姆 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Remote controlled testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
机械化检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Replenisers äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
补充剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Representative quality indicator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
代表性质量指示器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Residual magnetic field/field, residual magnetic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
剩磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Residual technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
剩磁技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Residual magnetic method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
剩磁法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Residual magnetism äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
剩磁 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Resistance (to flow) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
气阻 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
分辨力 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Resonance method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
共振法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Response factor äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
响应系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Response time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
响应时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Resultant field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
复合磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Resultant magnetic field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
合成磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Resultant magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
组合磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Retentivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
顽磁性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Reversal äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
反转现象 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ring-down count äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
振铃计数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ring-down count rate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
振铃计数率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rinse äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
清洗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rise time äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
上升时间 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rise-time discrimination äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
上升时间鉴别 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rod-anode tube äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
棒阳极管 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Roentgen(R) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
伦琴 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Roof angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
屋顶角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rotational magnetic field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
旋转磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rotational magnetic field method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
旋转磁场法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Rotational scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
转动扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Roughing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
低真空 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Roughing line äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
低真空管道 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Roughing pump äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
低真空泵 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
S äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
S äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Safelight äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
安全灯 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sampling probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
取样探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Saturation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
饱和 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Saturation,magnetic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁饱和 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Saturation level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
饱和电平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scan on grid lines äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
格子线扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scan pitch äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫查间距 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scanning äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scanning index äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫查标记 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scanning directly on the weld äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
焊缝上扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scanning path äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫查轨迹 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scanning sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫查灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scanning speed äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫查速度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scanning zone äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫查区域 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scattared energy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
散射能量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scatter unsharpness äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
散射不清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scattered neutrons äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
散射中子 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scattered radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
散射辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scattering äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
散射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Schlieren system äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
施利伦系统 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scintillation counter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
闪烁计数器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Scintillator and scintillating crystals äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
闪烁器和闪烁晶体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Screen äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
屏 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Screen unsharpness äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光增感屏不清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Screen-type film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
荧光增感型胶片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
SE probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
SE探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Search-gas äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探测气体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Second critical angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
第二临界角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Secondary radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
二次射线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Secondary coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
二次线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Secondary radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
次级辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Selectivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
选择性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Semi-conductor detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
半导体探测器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sensitirity va1ue äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
灵敏度值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sensitivity of leak test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
泄漏检测灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sensitivity control äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
灵敏度控制 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Shear wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
切变波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Shear wave probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
横波探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Shear wave technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
横波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Shim äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
薄垫片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Shot äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
冲击通电 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Side lobe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
副瓣 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Side wall äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
侧面 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sievert(Sv) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
希(沃特) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Signal äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
信号 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Signal gradient äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
信号梯度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Signal over load point äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
信号过载点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Signal overload level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
信号过载电平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Signal to noise ratio äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
信噪比 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Single crystal probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
单晶片探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Single probe technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
单探头法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Single traverse technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
一次波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sizing technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
定量法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Skin depth äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
集肤深度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Skin effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
集肤效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Skip distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
跨距 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Skip point äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
跨距点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sky shine(air scatter) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
空中散射效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sniffing probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
嗅吸探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Soft X-rays äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
软X射线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Soft-faced probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
软膜探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Solarization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
负感作用 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Solenoid äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
螺线管 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Soluble developer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
可溶显像剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Solvent remover äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
溶剂去除剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Solvent cleaners äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
溶剂清除剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Solvent developer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
溶剂显像剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Solvent remover äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
溶剂洗净剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Solvent-removal penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
溶剂去除型渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sorption äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
吸着 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound diffraction äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声绕射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound insulating layer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
隔声层 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound intensity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声强 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound intensity level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声强级 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound pressure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声压 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound scattering äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声散射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound transparent layer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透声层 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sound velocity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声速 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Source äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
源 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Source data label äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
放射源数据标签 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Source location äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
源定位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Source size äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
源尺寸 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Source-film distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线源-胶片距离 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Spacial frequency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
空间频率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Spark coil leak detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电火花线圈检漏仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Specific activity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
放射性比度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Specified sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
规定灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Standard äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标准 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Standard äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标准试样 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Standard leak rate äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标准泄漏率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Standard leak äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标准泄漏孔 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Standard tast block äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
标准试块 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Standardization instrument äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
设备标准化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Standing wave; stationary wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
驻波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Step wedge äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阶梯楔块 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Step- wadge calibration film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阶梯楔块校准底片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Step- wadge comparison film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阶梯楔块比较底片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Step wedge äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阶梯楔块 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Step-wedge calibration film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阶梯-楔块校准片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Step-wedge comparison film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阶梯-楔块比较片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Stereo-radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
立体射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Subject contrast äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
被检体对比度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Subsurface discontinuity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
近表面不连续性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Suppression äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
抑制 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surface echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
表面回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surface field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
表面磁场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surface noise äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
表面噪声 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surface wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
表面波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surface wave probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
表面波探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surface wave technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
表面波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surge magnetization äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
脉动磁化 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Surplus sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
灵敏度余量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Suspension äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁悬液 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sweep äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫描 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sweep range äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫描范围 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Sweep speed äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫描速度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Swept gain äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
扫描增益 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Swivel scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
环绕扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
System exanlillatien threshold äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
系统检验阈值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
System inclacel artifacts äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
系统感生物 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
System noise äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
系统噪声 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tackground, target äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
目标本底 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tandem scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
串列扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Target äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
耙 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Target äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
靶 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Television fluoroscopy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电视X射线荧光检查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Temperature envelope äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
温度范围 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tenth-value-layer(TVL) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
十分之一值层 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test coil äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检测线圈 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test quality level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检测质量水平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test ring äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
试环 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test block äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
试块 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test frequency äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
试验频率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test piece äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
试片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test range äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探测范围 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Test surface äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探测面 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Testing,ulrasonic äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thermal neutrons äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
热中子 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thermocouple gage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
热电偶计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thermogram äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
热谱图 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thermography, infrared äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
红外热成象 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thermoluminescent dosemeter(TLD) äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
热释光剂量计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thickness sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
厚度灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Third critiical angle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
第三临界角 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thixotropic penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
摇溶渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Thormal resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
热分辨率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Threading bar äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
穿棒 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Three way sort äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
三档分选 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Threshold setting äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
门限设置 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Threshold fog äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阈值灰雾 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Threshold level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阀值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Threshotd tcnet äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
门限电平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Throttling äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
节流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Through transmission technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
穿透技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Through penetration technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
贯穿渗透法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Through transmission technique; transmission technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
穿透法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Through-coil technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
穿过式线圈技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Throughput äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
通气量 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tight äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
密封 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Total reflection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
全反射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Totel image unsharpness äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
总的图像不清晰度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tracer probe leak location äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
示踪探头泄漏定位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tracer gas äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
示踪气体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transducer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
换能器/传感器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transition flow äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
过渡流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Translucent base media äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
半透明载体介质 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmission äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmission densitomefer äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
发射密度计 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmission coefficient äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透射系数 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmission point äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透射点 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmission technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透射技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmittance,τ äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
透射率τ äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmitted film density äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
检测底片黑度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transmitted pulse äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
发射脉冲 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transverse resolution äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
横向分辨率 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Transverse wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
横波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Traveling echo äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
游动回波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Travering scan; depth scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
前后扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Triangular array äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
正三角形阵列 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Trigger/alarm condition äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
触发/报警状态 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Trigger/alarm level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
触发/报警标准 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Triple traverse technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
三次波法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
True continuous technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
准确连续法技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Trueattenuation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
真实衰减 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tube current äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
管电流 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tube head äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
管头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tube shield äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
管罩 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tube shutter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
管子光闸 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tube window äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
管窗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Tube-shift radiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
管子移位射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Two-way sort äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
两档分选 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultra- high vacuum äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超高真空 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic leak detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声波检漏仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic noise level äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声噪声电平 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic cleaning äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声波清洗 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic field äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声场 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic flaw detection äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声探伤 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic flaw detector äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声探伤仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic microscope äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声显微镜 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic spectroscopy äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声频谱 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic testing system äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声检测系统 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultrasonic thickness gauge äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
超声测厚仪 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Ultraviolet radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
紫外辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Under development äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
显影不足 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Unsharpness äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
不清晰 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Useful density range äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
有效光学密度范围 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
UV-A äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
A类紫外辐射 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
UV-A filter äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
A类紫外辐射滤片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vacuum äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
真空 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vacuum cassette äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
真空暗盒 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vacuum testing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
真空检测 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vacuum cassette äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
真空暗合 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Van de Graaff generator äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
范德格喇夫起电机 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vapor pressure äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
蒸汽压 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vapour degreasing äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
蒸汽除油 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
variable angle probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
可变角探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vee path äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
V型行程 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vehicle äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
载体 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vertical linearity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
垂直线性 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vertical location äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
垂直定位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Visible light äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
可见光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Vitua limage äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
虚假图像 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Voltage threshold äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
电压阈值 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Voltage threshold äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
阈值电压 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wash station äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水洗工位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Water break test äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水膜破坏试验 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Water column coupling method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水柱耦合法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Water column probe äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水柱耦合探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Water path; water distance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水程 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Water tolerance äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
水容限 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Water-washable penetrant äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
可水洗型渗透剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave guide acoustic emission äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
声发射波导杆 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave train äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波列 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave from äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波形 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave front äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波前 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave length äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波长 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave node äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波节 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wave train äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
波列 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wedge äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
斜楔 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wet slurry technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
湿软磁膏技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wet technique äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
湿法技术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wet method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
湿粉法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wetting action äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
润湿作用 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wetting action äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
润湿作用 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wetting agents äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
润湿剂 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wheel type probe; wheel search unit äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
轮式探头 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
White light äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
白光 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
White X-rays äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
连续X射线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wobble äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
摆动 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wobble effect äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
抖动效应 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Working sensitivity äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
探伤灵敏度 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Wrap around äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
残响波干扰 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Xeroradiography äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
静电射线透照术 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X-radiation äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X射线 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X-ray controller äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X射线控制器 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X-ray detection apparatus äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X射线探伤装置 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X-ray film äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
射线胶片 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X-ray paper äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X射线感光纸 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X-ray tube äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X射线管 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X-ray tube diaphragm äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
X射线管光阑 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Yoke äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁轭 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Yoke magnetization method äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
磁轭磁化法 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Zigzag scan äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
锯齿扫查 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Zone calibration location äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
时差区域校准定位 äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
Zone location äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ
区域定位äE áÏÓbbs.3c3t.com(þ×êKÒ