常用中英文对照无损检测词汇 - 无损检测|焊接检验监督 - 监理检测网论坛监理检测网论坛,检测网论坛,检测论坛,试验检测论坛,监理检测论坛,试验检测网,工程检测论坛,监理论坛,监理网,检测网,试验检测考试论坛,检测师考试论坛,助理试验检测师考试,试验检测师考试,试验检测考试报名,试验检测考试现场审核

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查看: 2409\|回复: 0	[文章] 常用中英文对照无损检测词汇 [复制链接]

发送短消息 UID 88278 精华 4 查看公共资料搜索主题搜索帖子 lihui66 组别版主帖子202 积分767 性别注册时间2009-05-04 个人空间	1^# 字体大小: t T 发表于 2009-05-04 16:44 \|只看楼主英文 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 中文 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* A.C magnetic saturation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 交流磁饱和 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Absorbed dose ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 吸收剂量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Absorbed dose rate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 吸收剂量率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acceptanc limits ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 验收范围 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acceptance level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 验收水平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acceptance standard ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 验收标准 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Accumulation test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 累积检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic emission count（emission count） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声发射计数（发射计数） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic emission transducer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声发射换能器（声发射传感器） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic emission(AE) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声发射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic holography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声全息术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic impedance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声阻抗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic impedance matching ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声阻抗匹配 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic impedance method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声阻法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustical lens ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声透镜 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Acoustic—ultrasonic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声-超声（AU） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Activation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 活化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Activity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 活度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Adequate shielding ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 安全屏蔽 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ampere turns ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 安匝数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Amplitude ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 幅度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Angle beam method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 斜射法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Angle of incidence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 入射角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Angle of reflection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 反射角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Angle of spread ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 指向角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Angle of squint ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 偏向角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Angle probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 斜探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Angstrom unit ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 埃(A) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Area amplitude response curve ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 面积幅度曲线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Area of interest ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 评定区 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Arliflcial disconlinuity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 人工不连续性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Artifact ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 假缺陷 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Artificial defect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 人工缺陷 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Artificial discontinuity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标准人工缺陷 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* A-scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* A型扫描 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* A-scope; A-scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* A型显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Attenuation coefficient ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 衰减系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Attenuator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 衰减器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Audible leak indicator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 音响泄漏指示器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Automatic testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 自动检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Autoradiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 自射线照片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Avaluation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 评定 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Barium concrete ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 钡混凝土 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Barn ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 靶 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Base fog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 片基灰雾 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bath ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 槽液 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bayard- Alpert ionization gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* B- A型电离计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声束 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam ratio ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 光束比 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 束张角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam axis ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声束轴线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam index ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声束入射点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam path location ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声程定位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam path; path length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声程 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Beam spread ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声束扩散 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Betatron ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子感应加速器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bimetallic strip gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双金属片计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bipolar field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双极磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Black light filter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 黑光滤波器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Black light; ultraviolet radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 黑光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Blackbody ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 黑体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Blackbody equivalent temperature ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 黑体等效温度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bleakney mass spectrometer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波利克尼质谱仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bleedout ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗出 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bottom echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 底面回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bottom surface ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 底面 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Boundary echo(first) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 边界一次回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Bremsstrahlung ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 轫致辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Broad-beam condition ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 宽射束 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Brush application ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 刷涂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* B-scan presenfation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* B型扫描显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* B-scope; B-scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* B型显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* C- scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* C型扫描 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Calibration,instrument ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 设备校准 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Capillary action ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 毛细管作用 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Carrier fluid ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 载液 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Carry over of penetrate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗透剂移转 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cassette ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 暗合 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cathode ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阴极 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Central conductor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 中心导体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Central conductor method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 中心导体法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Characteristic curve ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 特性曲线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Characteristic curve of film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片特性曲线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Characteristic radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 特征辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Chemical fog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 化学灰雾 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cine-radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线(活动)电影摄影术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cintact pads ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 接触垫 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Circumferential coils ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 圆环线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Circumferential field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 周向磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Circumferential magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 周向磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Clean ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 清理 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Clean- up ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 清除 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Clearing time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定透时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coercive force ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 矫顽力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coherence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相干性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coherence length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相干长度（谐波列长度） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coi1，test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 测试线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coil size ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线圈大小 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coil spacing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线圈间距 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coil technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线圈技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coil method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线圈法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coilreference ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线圈参考 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coincidence discrimination ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 符合鉴别 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cold-cathode ionization gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 冷阴极电离计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Collimator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 准直器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Collimation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 准直 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Collimator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 准直器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Combined colour comtrast and fluorescent penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 着色荧光渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Compressed air drying ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压缩空气干燥 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Compressional wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压缩波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Compton scatter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 康普顿散射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Continuous emission ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 连续发射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Continuous linear array ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 连续线阵 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Continuous method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 连续法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Continuous spectrum ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 连续谱 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Continuous wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 连续波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Contract stretch ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 对比度宽限 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Contrast ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 对比度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Contrast agent ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 对比剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Contrast aid ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 反差剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Contrast sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 对比灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Control echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 监视回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Control echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 参考回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Couplant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 耦合剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coupling ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 耦合 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Coupling losses ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 耦合损失 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cracking ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 裂解 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Creeping wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 爬波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Critical angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 临界角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cross section ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 横截面 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cross talk ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 串音 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cross-drilled hole ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 横孔 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Crystal ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 晶片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* C-scope; C-scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* C型显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Curie point ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 居里点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Curie temperature ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 居里温度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Curie(Ci) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 居里 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Current flow method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 通电法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Current induction method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电流感应法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Current magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电流磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Cut－off level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 截止电平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dead zone ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 盲区 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Decay curve ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 衰变曲线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Decibel(dB) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 分贝 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Defect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Defect resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷分辨力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Defect detection sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷检出灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Defect resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷分辨力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Definition ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Definition， image definition ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 清晰度，图像清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Demagnetization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 退磁 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Demagnetization factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 退磁因子 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Demagnetizer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 退磁装置 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Densitometer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 黑度计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Density ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 黑度（底片） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Density comparison strip ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 黑度比较片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Detecting medium ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检验介质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Detergent remover ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 洗净液 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Developer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 显像剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Developer station ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 显像工位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Developer， agueons ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水性显象剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Developer， dry ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干显象剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Developer， liquid film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 液膜显象剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Developer， nonaqueous （sus- pendible） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 非水（可悬浮）显象剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Developing time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 显像时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Development ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 显影 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Diffraction mottle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 衍射斑 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Diffuse indications ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 松散指示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Diffusion ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扩散 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Digital image acquisition system ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 数字图像识别系统 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dilatational wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 膨胀波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dip and drain station ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 浸渍和流滴工位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Direct contact magnetization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 直接接触磁化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Direct exposure imaging ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 直接曝光成像 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Direct contact method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 直接接触法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Directivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 指向性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Discontinuity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 不连续性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Distance- gain- size-German AVG ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 距离- 增益- 尺寸（DGS德文为AVG） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Distance marker; time marker ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 距离刻度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dose equivalent ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 剂量当量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dose rate meter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 剂量率计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dosemeter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 剂量计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Double crystal probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双晶片探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Double probe technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双探头法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Double transceiver technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双发双收法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Double traverse technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 二次波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dragout ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 带出 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Drain time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 滴落时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Drain time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 流滴时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Drift ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 漂移 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dry method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dry powder ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干粉 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dry technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干粉技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dry developer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干显像剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dry developing cabinet ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干显像柜 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dry method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干粉法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Drying oven ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干燥箱 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Drying station ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干燥工位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Drying time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干燥时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* D-scope; D-scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* D型显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dual search unit ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dual-focus tube ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双焦点管 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Duplex-wire image quality indicator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 双线像质指示器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Duration ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 持续时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dwell time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 停留时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dye penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 着色渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dynamic leak test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 动态泄漏检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dynamic leakage measurement ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 动态泄漏测量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dynamic range ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 动态范围 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Dynamic radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 动态射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Echo frequency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 回波频率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Echo height ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 回波高度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Echo indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 回波指示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Echo transmittance of sound pressure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 往复透过率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Echo width ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 回波宽度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Eddy current ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 涡流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Eddy current flaw detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 涡流探伤仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Eddy current testiog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 涡流检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Edge ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 端面 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Edge effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 边缘效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Edge echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 棱边回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Edge effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 边缘效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Effective depth penetration （EDP） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 有效穿透深度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Effective focus size ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 有效焦点尺寸 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Effective magnetic permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 有效磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Effective permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 有效磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Effective reflection surface of flaw ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷有效反射面 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Effective resistance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 有效电阻 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Elastic medium ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 弹性介质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electric displacement ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电位移 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electrical center ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电中心 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electrode ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电极 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electromagnet ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电磁铁 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electro-magnetic acoustic transducer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电磁声换能器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electromagnetic induction ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电磁感应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electromagnetic radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电磁辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electromagnetic testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电磁检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electro-mechanical coupling factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 机电耦合系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electron radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子辐射照相术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electron volt ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子伏恃 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electronic noise ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子噪声 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Electrostatic spraying ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 静电喷涂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Emulsification ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 乳化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Emulsification time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 乳化时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Emulsifier ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 乳化剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Encircling coils ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 环绕式线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* End effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 端部效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Energizing cycle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 激励周期 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Equalizing filter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 均衡滤波器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Equivalent ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 当量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Equivalent I．Q. I. Sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 象质指示器当量灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Equivalent nitrogen pressure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 等效氮压 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Equivalent penetrameter sensifivty ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透度计当量灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Equivalent method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 当量法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Erasabl optical medium ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 可探光学介质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Etching ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 浸蚀 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Evaluation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 评定 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Evaluation threshold ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 评价阈值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Event count ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 事件计数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Event count rate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 事件计数率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Examination area ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检测范围 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Examination region ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检验区域 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Exhaust pressure/discharge pressure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 排气压力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Exhaust tubulation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 排气管道 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Expanded time-base sweep ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 时基线展宽 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Exposure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 曝光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Exposure table ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 曝光表格 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Exposure chart ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 曝光曲线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Exposure fog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 曝光灰雾 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Exposure，radiographic exposure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 曝光，射线照相曝光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Extended source ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扩展源 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Facility scattered neutrons ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 条件散射中子 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* False indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 假指示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Family ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 族 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Far field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 远场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Feed-through coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 穿过式线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Field， resultant magnetic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 复合磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fill factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 填充系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film speed ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片速度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film badge ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片襟章剂量计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film base ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 片基 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film contrast ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片对比度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film gamma ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片γ值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film processing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片冲洗加工 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film speed ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片感光度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film unsharpness ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片不清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Film viewing screen ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 观察屏 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Filter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 滤波器/滤光板 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Final test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 复探 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flat-bottomed hole ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 平底孔 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flat-bottomed hole equivalent ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 平底孔当量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flaw ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 伤 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flaw characterization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 伤特性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flaw echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flexural wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 弯曲波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Floating threshold ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 浮动阀值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescent examination method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光检验法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescent magnetic particle inspection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光磁粉检验 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescent dry deposit penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干沉积荧光渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescent light ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescent magnetic powder ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光磁粉 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescent penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluorescent screen ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光屏 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fluoroscopy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光检查法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flux leakage field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁通泄漏场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Flux lines ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁通线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focal spot ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 焦点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focal distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 焦距 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focus length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 焦点长度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focus size ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 焦点尺寸 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focus width ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 焦点宽度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focus(electron) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子焦点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focused beam ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 聚焦声束 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focusing probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 聚焦探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Focus-to-film distance(f.f.d) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 焦点-胶片距离（焦距） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 底片灰雾 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fog density ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 灰雾密度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Footcandle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 英尺烛光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Freguency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 频率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Frequency constant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 频率常数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fringe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干涉带 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Front distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 前沿距离 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Front distance of flaw ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷前沿距离 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Full- wave direct current（FWDC） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 全波直流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Fundamental frequency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 基频 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Furring ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 毛状迹痕 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gage pressure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 表压 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gain ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 增益 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gamma radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* γ射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gamma ray source ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* γ射线源 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gamma ray source container ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* γ射线源容器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gamma rays ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* γ射线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gamma-ray radiographic equipment ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* γ射线透照装置 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gap scanning ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 间隙扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gas ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 气体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 闸门 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gating technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 选通技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gauss ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 高斯 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Geiger-Muller counter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 盖革.弥勒计数器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Geometric unsharpness ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 几何不清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Gray(Gy) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 戈瑞 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Grazing incidence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 掠入射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Grazing angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 掠射角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Group velocity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 群速度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Half life ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 半衰期 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Half- wave current （HW） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 半波电流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Half-value layer(HVL) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 半值层 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Half-value method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 半波高度法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Halogen ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 卤素 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Halogen leak detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 卤素检漏仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hard X-rays ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 硬X射线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hard-faced probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 硬膜探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Harmonic analysis ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 谐波分析 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Harmonic distortion ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 谐波畸变 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Harmonics ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 谐频 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Head wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 头波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Helium bombing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 氦轰击法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Helium drift ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 氦漂移 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Helium leak detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 氦检漏仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hermetically tight seal ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 气密密封 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* High vacuum ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 高真空 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* High energy X-rays ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 高能X射线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Holography (optical) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 光全息照相 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Holography， acoustic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声全息 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hydrophilic emulsifier ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 亲水性乳化剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hydrophilic remover ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 亲水性洗净剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hydrostatic text ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 流体静力检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hysteresis ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁滞 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Hysteresis ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁滞 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* IACS ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* IACS ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ID coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ID线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Image definition ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 图像清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Image contrast ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 图像对比度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Image enhancement ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 图像增强 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Image magnification ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 图像放大 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Image quality ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 图像质量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Image quality indicator sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 像质指示器灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Image quality indicator(IQI)/image quality indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 像质指示器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Imaging line scanner ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 图像线扫描器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Immersion probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 液浸探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Immersion rinse ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 浸没清洗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Immersion testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 液浸法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Immersion time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 浸没时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Impedance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阻抗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Impedance plane diagram ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阻抗平面图 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Imperfection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 不完整性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Impulse eddy current testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲涡流检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Incremental permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 增量磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Indicated defect area ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷指示面积 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Indicated defect length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 缺陷指示长度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 指示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Indirect exposure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 间接曝光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Indirect magnetization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 间接磁化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Indirect magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 间接磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Indirect scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 间接扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Induced field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 感应磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Induced current method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 感应电流法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Infrared imaging system ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 红外成象系统 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Infrared sensing device ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 红外扫描器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inherent fluorescence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 固有荧光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inherent filtration ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 固有滤波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Initial permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 起始磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Initial pulse ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 始脉冲 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Initial pulse width ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 始波宽度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inserted coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 插入式线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inside coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 内部线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inside- out testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 外泄检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inspection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inspection medium ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检查介质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Inspection frequency/ test frequency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检测频率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Intensifying factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 增感系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Intensifying screen ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 增感屏 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Interal,arrival time （Δtij)/arrival time interval（Δtij） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 到达时间差(Δtij) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Interface boundary ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 界面 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Interface echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 界面回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Interface trigger ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 界面触发 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Interference ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干涉 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Interpretation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 解释 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ion pump ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 离子泵 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ion source ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 离子源 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ionization chamber ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电离室 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ionization potential ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电离电位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ionization vacuum gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电离真空计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ionography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电离射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Irradiance， E ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 辐射通量密度， E ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Isolation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 隔离检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Isotope ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 同位素 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* K value ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* K值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Kaiser effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 凯塞(Kaiser)效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Kilo volt ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* kv 千伏特 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Kiloelectron volt ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* keV千电子伏特 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Krypton 85 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 氪85 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* L／D ratio ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* L/D比 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lamb wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 兰姆波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Latent image ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 潜象 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lateral scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 左右扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lateral scan with oblique angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 斜平行扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Latitude (of an emulsion) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 胶片宽容度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lead screen ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 铅屏 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Leak ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 泄漏孔 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Leak artifact ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 泄漏器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Leak detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检漏仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Leak testtion ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 泄漏检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Leakage field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 泄漏磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Leakage rate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 泄漏率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Leechs ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁吸盘 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lift-off effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 提离效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Light intensity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 光强度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Limiting resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 极限分辨率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Line scanner ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线扫描器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Line focus ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线焦点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Line pair pattern ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线对检测图 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Line pairs per millimetre ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 每毫米线对数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Linear (electron) accelerator(LINAC) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子直线加速器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Linear attenuation coefficient ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线衰减系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Linear scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Linearity （time or distance） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 线性（时间或距离） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Linearity， anplitude ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 幅度线性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lines of force ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁力线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lipophilic emulsifier ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 亲油性乳化剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lipophilic remover ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 亲油性洗净剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Liquid penetrant examination ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 液体渗透检验 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Liquid film developer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 液膜显像剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Local magnetization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 局部磁化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Local magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 局部磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Local scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 局部扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Localizing cone ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定域喇叭筒 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Location ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Location accuracy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定位精度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Location computed ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定位，计算 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Location marker ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定位标记 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Location upon delta-T ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 时差定位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Location， clusfer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定位，群集 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Location，continuous AE signal ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定位，连续AE信号 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Longitudinal field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 纵向磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Longitudinal magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 纵向磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Longitudinal resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 纵向分辨率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Longitudinal wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 纵波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Longitudinal wave probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 纵波探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Longitudinal wave technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 纵波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Loss of back reflection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 背面反射损失 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Loss of back reflection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 底面反射损失 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Love wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 乐甫波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Low energy gamma radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 低能γ辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Low－enerugy photon radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 低能光子辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Luminance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 亮度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Luminosity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 流明 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Lusec ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 流西克 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Maga or million electron volts ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* MeV兆电子伏特 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic history ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁化史 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic hysteresis ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁性滞后 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic particle field indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁粉磁场指示器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic particle inspection flaw indications ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁粉检验的伤显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic circuit ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁路 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic domain ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁畴 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic field distribution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁场分布 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic field indicator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁场指示器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic field meter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁场计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic field strength ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁场强度(H) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic field/field，magnetic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic flux ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁通 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic flux density ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁通密度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic force ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁化力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic leakage field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 漏磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic leakage flux ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 漏磁通 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic moment ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁矩 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic particle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁粉 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic particle indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁痕 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic particle testing/magnetic particle examination ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁粉检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic pole ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁极 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic saturataion ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁饱和 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic saturation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁饱和 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic slorage meclium ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁储介质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetic writing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁写 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetizing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetizing current ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁化电流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetizing coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁化线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetostrictive effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁致伸缩效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Magnetostrictive transducer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁致伸缩换能器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Main beam ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 主声束 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Manual testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 手动检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Markers ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 时标 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* MA-scope; MA-scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* MA型显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Masking ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 遮蔽 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mass attcnuation coefficient ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 质量吸收系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mass number ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 质量数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mass spectrometer （M.S.） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 质谱仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mass spectrometer leak detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 质谱检漏仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mass spectrum ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 质谱 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Master/slave discrimination ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 主从鉴别 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* MDTD ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 最小可测温度差 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mean free path ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 平均自由程 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Medium vacuum ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 中真空 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mega or million volt ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* MV兆伏特 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Micro focus X - ray tube ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 微焦点X 光管 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Microfocus radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 微焦点射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Micrometre ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 微米 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Micron of mercury ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 微米汞柱 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Microtron ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子回旋加速器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Milliampere ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 毫安（mA） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Millimetre of mercury ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 毫米汞柱 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Minifocus x- ray tube ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 小焦点调射线管 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Minimum detectable leakage rate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 最小可探泄漏率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Minimum resolvable temperature difference （MRTD） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 最小可分辨温度差（MRDT） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mode ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波型 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mode conversion ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波型转换 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Mode transformation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波型转换 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Moderator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 慢化器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Modulation transfer function （MTF） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 调制转换功能（MTF） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Modulation analysis ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 调制分析 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Molecular flow ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 分子流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Molecular leak ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 分子泄漏 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Monitor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 监控器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Monochromatic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 单色波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Movement unsharpness ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 移动不清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Moving beam radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 可动射束射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multiaspect magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多向磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multidirectional magnetization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多向磁化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multifrequency eddy current testiog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多频涡流检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multiple back reflections ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多次背面反射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multiple reflections ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多次反射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multiple back reflections ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多次底面反射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multiple echo method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多次反射法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multiple probe technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多探头法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Multiple triangular array ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 多三角形阵列 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Narrow beam condition ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 窄射束 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* NC ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* NC ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Near field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 近场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Near field length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 近场长度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Near surface defect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 近表面缺陷 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Net density ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 净黑度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Net density ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 净(光学)密度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Neutron ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 中子 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Neutron radiograhy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 中子射线透照 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Neutron radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 中子射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Newton （N） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 牛顿 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nier mass spectrometer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 尼尔质谱仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Noise ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 噪声 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Noise ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 噪声 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Noise equivalent temperature difference （NETD） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 噪声当量温度差（NETD） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nominal angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标称角度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nominal frequency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标称频率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Non-aqueous liquid developer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 非水性液体显像剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Noncondensable gas ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 非冷凝气体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nondcstructivc Examination（NDE） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 无损试验 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nondestructive Evaluation（NDE） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 无损评价 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nondestructive Inspection（NDI） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 无损检验 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nondestructive Testing（NDT） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 无损检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nonerasble optical data ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 可固定光学数据 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nonferromugnetic material ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 非铁磁性材料 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nonrelevant indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 非相关指示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Non-screen-type film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 非增感型胶片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Normal incidence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 垂直入射（亦见直射声束） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Normal permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标准磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Normal beam method; straight beam method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 垂直法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Normal probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 直探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Normalized reactance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 归一化电抗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Normalized resistance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 归一化电阻 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nuclear activity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 核活性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Nuclide ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 核素 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Object plane resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 物体平面分辨率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Object scattered neutrons ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 物体散射中子 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Object beam ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 物体光束 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Object beam angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 物体光束角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Object-film distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 被检体-胶片距离 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Object一film distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 物体- 胶片距离 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Over development ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 显影过度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Over emulsfication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 过乳化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Overall magnetization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 整体磁化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Overload recovery time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 过载恢复时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Overwashing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 过洗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Oxidation fog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 氧化灰雾 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* P ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* P ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pair production ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 偶生成 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pair production ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子对产生 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pair production ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电子偶的产生 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Palladium barrier leak detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 钯屏检漏仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Panoramic exposure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 全景曝光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Parallel scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 平行扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Paramagnetic material ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 顺磁性材料 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Parasitic echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 干扰回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Partial pressure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 分压 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Particle content ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁悬液浓度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Particle velocity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 质点(振动)速度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pascal （Pa） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 帕斯卡（帕） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pascal cubic metres per second ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 帕立方米每秒（Pa·m3/s ） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Path length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 光程长 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Path length difference ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 光程长度差 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pattern ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探伤图形 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Peak current ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 峰值电流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrameter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透度计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrameter sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透度计灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrant comparator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗透对比试块 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrant flaw detection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗透探伤 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrant removal ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗透剂去除 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrant station ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗透工位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetrant， water- washable ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水洗型渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetration ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 穿透深度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Penetration time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 渗透时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Permanent magnet ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 永久磁铁 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Permeability coefficient ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透气系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Permeability，a-c ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 交流磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Permeability，d－c ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 直流磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phantom echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 幻象回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase analysis ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相位分析 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相位角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase controlled circuit breaker ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 断电相位控制器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase detection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相位检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase hologram ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相位全息 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase sensitive detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相敏检波器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase shift ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相位移 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase velocity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相速度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phase-sensitive system ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相敏系统 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phillips ionization gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 菲利浦电离计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Phosphor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光物质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Photo fluorography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光照相术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Photoelectric absorption ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 光电吸收 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Photographic emulsion ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 照相乳剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Photographic fog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 照相灰雾 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Photostimulable luminescence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 光敏发光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Piezoelectric effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压电效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Piezoelectric material ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压电材料 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Piezoelectric stiffness constant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压电劲度常数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Piezoelectric stress constant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压电应力常数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Piezoelectric transducer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压电换能器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Piezoelectric voltage constant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压电电压常数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pirani gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 皮拉尼计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pirani gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 皮拉尼计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pitch and catch technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 一发一收法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pixel ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 象素 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pixel size ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 象素尺寸 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pixel， disply size ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 象素显示尺寸 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Planar array ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 平面阵(列) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Plane wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 平面波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Plate wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 板波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Plate wave technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 板波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Point source ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 点源 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Post emulsification ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 后乳化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Post emulsifiable penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 后乳化渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Post-cleaning ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 后清除 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Post-cleaning ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 后清洗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Powder ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 粉未 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Powder blower ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 喷粉器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Powder blower ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁粉喷* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pre-cleaning ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 预清理 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pressure difference ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压力差 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pressure dye test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压力着色检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pressure probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压力探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pressure testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压力检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pressure- evacuation test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压力抽空检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pressure mark ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 压痕 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pressure,design ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 设计压力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pre-test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 初探 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Primary coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 一次线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Primary radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 初级辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe gas ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头气体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe backing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头背衬 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 点式线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头式线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe coil clearance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头线圈间隙 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe index ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头入射点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe to weld distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头-焊缝距离 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Probe/ search unit ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Process control radiograph ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 工艺过程控制的射线照相 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Processing capacity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 处理能力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Processing speed ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 处理速度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Prods ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 触头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Projective radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 投影射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Proportioning probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 比例探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Protective material ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 防护材料 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Proton radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 质子射线透照 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse echo method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲回波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse repetition rate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲重复率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse amplitude ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲幅度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse echo method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲反射法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse energy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲能量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse envelope ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲包络 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲长度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse repetition frequency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲重复频率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pulse tuning ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉冲调谐 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pump- out tubulation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 抽气管道 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Pump-down time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 抽气时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Q factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Q值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Quadruple traverse technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 四次波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Quality (of a beam of radiation) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线束的质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Quality factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 品质因数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Quenching ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阻塞 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Quenching of fluorescence ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光的猝灭 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Quick break ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 快速断间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rad(rad) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 拉德 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiance， L ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 面辐射率，L ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiant existence， M ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 幅射照度M ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiant flux； radiant power，ψe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 辐射通量、辐射功率、ψe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiation does ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 辐射剂量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radio frequency （r- f） display ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射频显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radio- frequency mass spectrometer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射频质谱仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radio frequency(r-f) display ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射频显示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiograph ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线底片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic contrast ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线照片对比度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic equivalence factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线照相等效系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic exposure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线照相曝光量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic inspection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic inspection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线照相检验 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic quality ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线照相质量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线照相灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic contrast ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线底片对比度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic equivalence factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线透照等效因子 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic inspection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线透照检查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic quality ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线透照质量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiographic sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线透照灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线照相术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiological examination ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线检验 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiology ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线学 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiometer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 辐射计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radiometry ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 辐射测量术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Radioscopy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线检查法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Range ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 量程 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rayleigh wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 瑞利波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rayleigh scattering ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 瑞利散射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Real image ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 实时图像 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Real-time radioscopy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 实时射线检查法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rearm delay time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 重新准备延时时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rearm delay time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 重新进入工作状态延迟时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reciprocity failure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 倒易律失效 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reciprocity law ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 倒易律 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Recording medium ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 记录介质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Recovery time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 恢复时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rectified alternating current ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉动直流电 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reference block ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 参考试块 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reference beam ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 参考光束 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reference block ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 对比试块 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reference block method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 对比试块法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reference coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 参考线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reference line method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 基准线法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reference standard ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 参考标准 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reflection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 反射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reflection coefficient ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 反射系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reflection density ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 反射密度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reflector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 反射体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Refraction ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 折射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Refractive index ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 折射率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Refrence beam angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 参考光束角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reicnlbation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 网纹 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reject; suppression ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 抑制 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rejection level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 拒收水平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Relative permeability ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相对磁导率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Relevant indication ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 相关指示 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reluctance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁阻 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rem(rem) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 雷姆 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Remote controlled testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 机械化检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Replenisers ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 补充剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Representative quality indicator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 代表性质量指示器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Residual magnetic field/field， residual magnetic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 剩磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Residual technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 剩磁技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Residual magnetic method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 剩磁法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Residual magnetism ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 剩磁 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Resistance （to flow） ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 气阻 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 分辨力 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Resonance method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 共振法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Response factor ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 响应系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Response time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 响应时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Resultant field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 复合磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Resultant magnetic field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 合成磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Resultant magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 组合磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Retentivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 顽磁性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Reversal ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 反转现象 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ring-down count ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 振铃计数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ring-down count rate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 振铃计数率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rinse ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 清洗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rise time ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 上升时间 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rise-time discrimination ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 上升时间鉴别 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rod-anode tube ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 棒阳极管 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Roentgen(R) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 伦琴 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Roof angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 屋顶角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rotational magnetic field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 旋转磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rotational magnetic field method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 旋转磁场法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Rotational scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 转动扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Roughing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 低真空 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Roughing line ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 低真空管道 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Roughing pump ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 低真空泵 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* S ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* S ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Safelight ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 安全灯 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sampling probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 取样探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Saturation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 饱和 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Saturation，magnetic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁饱和 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Saturation level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 饱和电平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scan on grid lines ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 格子线扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scan pitch ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫查间距 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scanning ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scanning index ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫查标记 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scanning directly on the weld ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 焊缝上扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scanning path ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫查轨迹 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scanning sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫查灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scanning speed ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫查速度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scanning zone ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫查区域 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scattared energy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 散射能量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scatter unsharpness ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 散射不清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scattered neutrons ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 散射中子 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scattered radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 散射辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scattering ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 散射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Schlieren system ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 施利伦系统 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scintillation counter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 闪烁计数器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Scintillator and scintillating crystals ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 闪烁器和闪烁晶体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Screen ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 屏 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Screen unsharpness ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光增感屏不清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Screen-type film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 荧光增感型胶片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* SE probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* SE探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Search-gas ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探测气体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Second critical angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 第二临界角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Secondary radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 二次射线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Secondary coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 二次线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Secondary radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 次级辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Selectivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 选择性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Semi-conductor detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 半导体探测器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sensitirity va1ue ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 灵敏度值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sensitivity of leak test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 泄漏检测灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sensitivity control ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 灵敏度控制 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Shear wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 切变波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Shear wave probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 横波探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Shear wave technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 横波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Shim ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 薄垫片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Shot ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 冲击通电 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Side lobe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 副瓣 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Side wall ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 侧面 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sievert(Sv) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 希(沃特) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Signal ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 信号 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Signal gradient ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 信号梯度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Signal over load point ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 信号过载点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Signal overload level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 信号过载电平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Signal to noise ratio ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 信噪比 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Single crystal probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 单晶片探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Single probe technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 单探头法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Single traverse technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 一次波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sizing technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 定量法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Skin depth ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 集肤深度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Skin effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 集肤效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Skip distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 跨距 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Skip point ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 跨距点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sky shine(air scatter) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 空中散射效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sniffing probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 嗅吸探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Soft X-rays ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 软X射线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Soft-faced probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 软膜探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Solarization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 负感作用 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Solenoid ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 螺线管 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Soluble developer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 可溶显像剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Solvent remover ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 溶剂去除剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Solvent cleaners ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 溶剂清除剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Solvent developer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 溶剂显像剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Solvent remover ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 溶剂洗净剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Solvent-removal penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 溶剂去除型渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sorption ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 吸着 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound diffraction ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声绕射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound insulating layer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 隔声层 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound intensity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声强 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound intensity level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声强级 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound pressure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声压 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound scattering ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声散射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound transparent layer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透声层 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sound velocity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声速 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Source ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 源 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Source data label ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 放射源数据标签 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Source location ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 源定位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Source size ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 源尺寸 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Source-film distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线源-胶片距离 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Spacial frequency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 空间频率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Spark coil leak detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电火花线圈检漏仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Specific activity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 放射性比度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Specified sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 规定灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Standard ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标准 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Standard ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标准试样 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Standard leak rate ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标准泄漏率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Standard leak ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标准泄漏孔 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Standard tast block ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 标准试块 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Standardization instrument ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 设备标准化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Standing wave; stationary wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 驻波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Step wedge ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阶梯楔块 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Step- wadge calibration film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阶梯楔块校准底片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Step- wadge comparison film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阶梯楔块比较底片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Step wedge ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阶梯楔块 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Step-wedge calibration film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阶梯-楔块校准片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Step-wedge comparison film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阶梯-楔块比较片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Stereo-radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 立体射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Subject contrast ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 被检体对比度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Subsurface discontinuity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 近表面不连续性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Suppression ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 抑制 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surface echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 表面回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surface field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 表面磁场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surface noise ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 表面噪声 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surface wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 表面波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surface wave probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 表面波探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surface wave technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 表面波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surge magnetization ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 脉动磁化 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Surplus sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 灵敏度余量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Suspension ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁悬液 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sweep ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫描 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sweep range ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫描范围 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Sweep speed ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫描速度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Swept gain ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 扫描增益 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Swivel scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 环绕扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* System exanlillatien threshold ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 系统检验阈值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* System inclacel artifacts ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 系统感生物 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* System noise ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 系统噪声 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tackground， target ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 目标本底 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tandem scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 串列扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Target ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 耙 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Target ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 靶 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Television fluoroscopy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电视X射线荧光检查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Temperature envelope ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 温度范围 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tenth-value-layer(TVL) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 十分之一值层 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test coil ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检测线圈 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test quality level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检测质量水平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test ring ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 试环 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test block ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 试块 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test frequency ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 试验频率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test piece ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 试片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test range ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探测范围 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Test surface ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探测面 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Testing，ulrasonic ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thermal neutrons ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 热中子 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thermocouple gage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 热电偶计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thermogram ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 热谱图 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thermography， infrared ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 红外热成象 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thermoluminescent dosemeter(TLD) ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 热释光剂量计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thickness sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 厚度灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Third critiical angle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 第三临界角 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thixotropic penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 摇溶渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Thormal resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 热分辨率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Threading bar ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 穿棒 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Three way sort ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 三档分选 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Threshold setting ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 门限设置 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Threshold fog ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阈值灰雾 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Threshold level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阀值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Threshotd tcnet ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 门限电平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Throttling ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 节流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Through transmission technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 穿透技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Through penetration technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 贯穿渗透法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Through transmission technique; transmission technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 穿透法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Through-coil technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 穿过式线圈技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Throughput ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 通气量 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tight ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 密封 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Total reflection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 全反射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Totel image unsharpness ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 总的图像不清晰度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tracer probe leak location ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 示踪探头泄漏定位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tracer gas ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 示踪气体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transducer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 换能器/传感器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transition flow ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 过渡流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Translucent base media ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 半透明载体介质 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmission ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmission densitomefer ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 发射密度计 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmission coefficient ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透射系数 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmission point ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透射点 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmission technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透射技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmittance，τ ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 透射率τ ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmitted film density ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 检测底片黑度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transmitted pulse ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 发射脉冲 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transverse resolution ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 横向分辨率 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Transverse wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 横波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Traveling echo ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 游动回波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Travering scan; depth scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 前后扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Triangular array ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 正三角形阵列 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Trigger/alarm condition ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 触发/报警状态 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Trigger/alarm level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 触发/报警标准 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Triple traverse technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 三次波法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* True continuous technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 准确连续法技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Trueattenuation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 真实衰减 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tube current ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 管电流 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tube head ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 管头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tube shield ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 管罩 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tube shutter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 管子光闸 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tube window ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 管窗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Tube-shift radiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 管子移位射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Two-way sort ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 两档分选 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultra- high vacuum ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超高真空 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic leak detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声波检漏仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic noise level ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声噪声电平 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic cleaning ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声波清洗 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic field ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声场 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic flaw detection ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声探伤 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic flaw detector ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声探伤仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic microscope ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声显微镜 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic spectroscopy ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声频谱 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic testing system ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声检测系统 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultrasonic thickness gauge ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 超声测厚仪 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Ultraviolet radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 紫外辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Under development ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 显影不足 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Unsharpness ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 不清晰 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Useful density range ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 有效光学密度范围 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* UV-A ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* A类紫外辐射 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* UV-A filter ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* A类紫外辐射滤片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vacuum ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 真空 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vacuum cassette ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 真空暗盒 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vacuum testing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 真空检测 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vacuum cassette ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 真空暗合 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Van de Graaff generator ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 范德格喇夫起电机 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vapor pressure ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 蒸汽压 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vapour degreasing ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 蒸汽除油 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* variable angle probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 可变角探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vee path ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* V型行程 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vehicle ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 载体 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vertical linearity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 垂直线性 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vertical location ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 垂直定位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Visible light ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 可见光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Vitua limage ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 虚假图像 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Voltage threshold ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 电压阈值 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Voltage threshold ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 阈值电压 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wash station ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水洗工位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Water break test ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水膜破坏试验 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Water column coupling method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水柱耦合法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Water column probe ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水柱耦合探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Water path; water distance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水程 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Water tolerance ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 水容限 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Water-washable penetrant ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 可水洗型渗透剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave guide acoustic emission ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 声发射波导杆 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave train ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波列 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave from ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波形 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave front ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波前 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave length ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波长 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave node ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波节 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wave train ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 波列 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wedge ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 斜楔 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wet slurry technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 湿软磁膏技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wet technique ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 湿法技术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wet method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 湿粉法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wetting action ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 润湿作用 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wetting action ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 润湿作用 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wetting agents ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 润湿剂 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wheel type probe; wheel search unit ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 轮式探头 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* White light ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 白光 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* White X-rays ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 连续X射线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wobble ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 摆动 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wobble effect ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 抖动效应 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Working sensitivity ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 探伤灵敏度 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Wrap around ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 残响波干扰 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Xeroradiography ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 静电射线透照术 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X-radiation ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X射线 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X-ray controller ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X射线控制器 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X-ray detection apparatus ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X射线探伤装置 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X-ray film ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 射线胶片 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X-ray paper ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X射线感光纸 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X-ray tube ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X射线管 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X-ray tube diaphragm ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* X射线管光阑 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Yoke ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁轭 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Yoke magnetization method ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 磁轭磁化法 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Zigzag scan ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 锯齿扫查 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Zone calibration location ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 时差区域校准定位 ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* Zone location ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC* 区域定位ò>[Ùæ¾[Í,bbs.3c3t.com6zç'äúdÂC*
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