仪器名称(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 信号检测(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 元素测定(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 检测限(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 深度分辨率(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 适用范围(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
扫描电子显微镜（SEM）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 二次及背向散射电子&X射线(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| B-U (EDS mode)(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.1 - 1 at%(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.5 - 3 µm (EDS)(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 高辨析率成像(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
元素微观分析及颗粒特征化描述(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
X射线能谱仪（EDS）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 二次背向散射电子&X射线(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| B-U(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.1 – 1 at%(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.5 – 3 μm(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 小面积上的成像与元素组成；缺陷处元素的识别/绘图；颗粒分析（>300nm）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
显微红外显微镜（FTIR）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 红外线吸收(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 分子群(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.1 - 1 wt%(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.1 - 2.5 µm(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体（材料识别）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 （Si-H vs. N-H）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
污染物分析（析取、除过气的产品，残余物）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
拉曼光谱（Raman）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 拉曼散射(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 化学及分子键联资料(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| >=1 wt%(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 共焦模式(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
1到5 µm(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
拉曼，碳层特征 （石墨、金刚石 ）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
非共价键联压焊(复合体、金属键联)(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
定位(随机v. 有组织的结构)(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
俄歇电子能谱仪（AES）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 来自表面附近的Auger电子(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| Li-U(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.1-1%亚单层(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 缺陷分析；颗粒分析；表面分析；小面积深度剖面；薄膜成分分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
X射线光电子能谱仪（XPS）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 来自表面原子附近的光电子(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| Li-U化学键联信息(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 0.01 - 1 at% sub-monolayer(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 20 - 200 Å（剖析模式）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
10 - 100 Å (表面分析）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
测量表面成分及化学状态信息(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
薄膜成份的深度剖面(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
硅 氧氮化物厚度和测量剂量(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
薄膜氧化物厚度测量（SiO2, Al2O3 等.）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 分子和元素种类(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 整个周期表，加分子种类(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayer(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 1 - 3 monolayers (Static mode)(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 有机材料和无机材料的表面微量分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
来自表面的大量光谱(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
表面离子成像(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|  (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
塑料断口红色颗粒物分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 塑料表面白色粉末成分分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|  (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
连接端子pin针表面异物分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
| 金手指端部表面异物分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|  (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
镀金管脚表面异物分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|  (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
PCB表面异物成分分析(_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0 (_ÿëxØ+
bbs.3c3t.com0¢.³|~0
|
%20(2)_1.gif)
