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[报告] 表面异物分析 [复制链接]

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表面异物分析目的:] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
当材料及零部件表面出现未知物质,不能确定其成分及来源时,可以通过对异物进行微观形貌观察和成分分析进行判断。] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
分析方法:] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
根据样品实际情况,以下分析方法可供选用。] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
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仪器名称] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
信号检测] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
元素测定] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
检测限] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
深度分辨率] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
适用范围] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
扫描电子显微镜(SEM)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
二次及背向散射电子&X射线] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
B-U (EDS mode)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.1 - 1 at%] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.5 - 3 µm (EDS)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
高辨析率成像] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
元素微观分析及颗粒特征化描述] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
X射线能谱仪(EDS)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
二次背向散射电子&X射线] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
B-U] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.1 – 1 at%] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.5 – 3 μm] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
小面积上的成像与元素组成;缺陷处元素的识别/绘图;颗粒分析(>300nm)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
显微红外显微镜(FTIR)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
红外线吸收] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
分子群] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.1 - 1 wt%] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.1 - 2.5 µm] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
污染物分析中识别有机化合物的分子结构] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体(材料识别)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 (Si-H vs. N-H)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
污染物分析(析取、除过气的产品,残余物)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
拉曼光谱(Raman)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
拉曼散射] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
化学及分子键联资料] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
>=1 wt%] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
共焦模式] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
1到5 µm] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
拉曼,碳层特征 (石墨、金刚石 )] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
非共价键联压焊(复合体、金属键联)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
定位(随机v. 有组织的结构)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
俄歇电子能谱仪(AES)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
来自表面附近的Auger电子] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
Li-U] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.1-1%亚单层] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
20 – 200 Ǻ侧面分布模式] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
缺陷分析;颗粒分析;表面分析;小面积深度剖面;薄膜成分分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
X射线光电子能谱仪(XPS)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
来自表面原子附近的光电子] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
Li-U化学键联信息] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
0.01 - 1 at% sub-monolayer] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
20 - 200 Å(剖析模式)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
10 - 100 Å (表面分析)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
测量表面成分及化学状态信息] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
薄膜成份的深度剖面] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
硅 氧氮化物厚度和测量剂量] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
薄膜氧化物厚度测量(SiO2, Al2O3 等.)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
分子和元素种类] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
整个周期表,加分子种类] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
107 - 1010at/cm2 sub-monolayer] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
1 - 3 monolayers (Static mode)] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
有机材料和无机材料的表面微量分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
来自表面的大量光谱] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
表面离子成像] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
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部分案例图片:] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W
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塑料断口红色颗粒物分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W

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塑料表面白色粉末成分分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W

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连接端子pin针表面异物分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W

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金手指端部表面异物分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W

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镀金管脚表面异物分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W

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PCB表面异物成分分析] :]7Ø4†'bbs.3c3t.comÌÓC†m …»W

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