仪器名称]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 信号检测]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 元素测定]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 检测限]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 深度分辨率]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 适用范围]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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扫描电子显微镜(SEM)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 二次及背向散射电子&X射线]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| B-U (EDS mode)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.1 - 1 at%]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.5 - 3 µm (EDS)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 高辨析率成像]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 元素微观分析及颗粒特征化描述]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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X射线能谱仪(EDS)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 二次背向散射电子&X射线]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| B-U]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.1 – 1 at%]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.5 – 3 μm]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 小面积上的成像与元素组成;缺陷处元素的识别/绘图;颗粒分析(>300nm)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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显微红外显微镜(FTIR)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 红外线吸收]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 分子群]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.1 - 1 wt%]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.1 - 2.5 µm]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 污染物分析中识别有机化合物的分子结构]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体(材料识别)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 (Si-H vs. N-H)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 污染物分析(析取、除过气的产品,残余物)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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拉曼光谱(Raman)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 拉曼散射]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 化学及分子键联资料]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| >=1 wt%]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 共焦模式]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 1到5 µm]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 拉曼,碳层特征 (石墨、金刚石 )]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 非共价键联压焊(复合体、金属键联)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 定位(随机v. 有组织的结构)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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俄歇电子能谱仪(AES)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 来自表面附近的Auger电子]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| Li-U]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.1-1%亚单层]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 20 – 200 Ǻ侧面分布模式]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 缺陷分析;颗粒分析;表面分析;小面积深度剖面;薄膜成分分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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X射线光电子能谱仪(XPS)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 来自表面原子附近的光电子]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| Li-U化学键联信息]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 0.01 - 1 at% sub-monolayer]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 20 - 200 Å(剖析模式)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 10 - 100 Å (表面分析)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 测量表面成分及化学状态信息]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 薄膜成份的深度剖面]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 硅 氧氮化物厚度和测量剂量]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 薄膜氧化物厚度测量(SiO2, Al2O3 等.)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 分子和元素种类]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 整个周期表,加分子种类]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 107 - 1010at/cm2 sub-monolayer]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 1 - 3 monolayers (Static mode)]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 有机材料和无机材料的表面微量分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 来自表面的大量光谱]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
»W 表面离子成像]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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塑料断口红色颗粒物分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 塑料表面白色粉末成分分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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连接端子pin针表面异物分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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| 金手指端部表面异物分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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镀金管脚表面异物分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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PCB表面异物成分分析]:]7Ø4'bbs.3c3t.comÌÓCm
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